工业级操作光纤的更换方法

    公开(公告)号:CN113333943A

    公开(公告)日:2021-09-03

    申请号:CN202110568276.X

    申请日:2021-05-25

    摘要: 本发明公开了一种工业级操作光纤的更换方法,包括选择需要更换的操作光纤、需要使用的操作光纤与光闸连接,使用五棱镜辅助调整光闸,根据实时监测结构中观察到的干涉条纹图样调整光闸准直镜并进行光路安全监控。本发明能够便捷地将一台光纤激光器的单根输出光纤更换为多根操作光纤,能够实现3万瓦级激光功率的分通道输出,可以快速装调系统元器件并保证系统使用安全。

    点源异位扩束同步移相斐索干涉仪及其测量方法

    公开(公告)号:CN107631687B

    公开(公告)日:2019-10-18

    申请号:CN201710772234.1

    申请日:2017-08-31

    摘要: 本发明公开了一种点源异位扩束同步移相斐索干涉仪及其测量方法。该干涉仪包括点光源阵列、斐索型主干涉仪和分光成像组件。方法为:点光源阵列产生的四束相同的球面波分别进入主干涉仪,通过调整点光源阵列在主干涉仪准直物镜焦面上与光轴的距离,使得经主干涉仪出射的四个准直波前入射到参考镜上的角度不同,从而在参考面与测试面的干涉中引入不同的相移量,然后通过分光成像组件在一个CCD上同时获取四幅成像清晰的相移干涉图。本发明具有成本低、抗震性好、易于操作等特点,可以用于光学元件的实时高精度检测等领域。

    空间分光同轴斐索型同步移相干涉仪及其测量方法

    公开(公告)号:CN105928455B

    公开(公告)日:2018-11-13

    申请号:CN201610343225.6

    申请日:2016-05-20

    IPC分类号: G01B9/02 G01J9/02

    摘要: 本发明公开了一种空间分光同轴斐索型同步移相干涉仪及其测量方法,属于光学干涉测量仪器领域。该干涉仪包括点光源及其分光组件、斐索型主干涉仪和分光成像组件。方法为:点光源发出的球面波经分光组件分成四束后进入主干涉仪,采用分光组件将一个点光源复制成相同的四个,通过调整四个点光源在主干涉仪准直物镜焦面上与光轴的距离,在参考面与测试面的干涉中引入不同的相移量,然后通过分光成像组件在一个CCD上同时获取四幅成像清晰的相移干涉图。本发明具有成本低、抗震性好、易于操作等特点,可以用于光学元件的实时高精度检测等领域。

    一种基于反射式点衍射干涉仪的位相缺陷检测系统与方法

    公开(公告)号:CN106770335A

    公开(公告)日:2017-05-31

    申请号:CN201710123331.8

    申请日:2017-03-03

    IPC分类号: G01N21/88 G01N21/45

    摘要: 本发明公开了一种基于反射式点衍射干涉仪的位相缺陷检测系统与方法。该系统包括:点光源、相位采集组件和成像组件;方法为:首先用光纤激光器作为点光源产生一个标准球面波,该球面波经过准直透镜形成平面波,然后利用该平行波透过待测光学元件获取其位相缺陷信息;在待测光学元件后面依据待测元件与CCD靶面的共轭关系放置成像透镜,在该透镜的焦点处倾斜放置一个点衍射板,然后其透射光束经过成像透镜会聚到反射式点衍射板上,由点衍射板反射的参考光与测试光在CCD靶面上叠加,产生高密度线性载频的干涉图,结合无镜成像技术对此干涉图进行解调,即可获得准确的位相缺陷信息。本发明可以实现缺陷的高精度快速扫描检测和缺陷类型的判断。

    泰曼型点源阵列异位同步移相干涉仪及其测量方法

    公开(公告)号:CN106643475A

    公开(公告)日:2017-05-10

    申请号:CN201611187788.7

    申请日:2016-12-20

    IPC分类号: G01B9/02

    CPC分类号: G01B9/02

    摘要: 发明公开了一种泰曼型点源阵列异位同步移相干涉仪及其测量方法,属于光学干涉测量仪器领域。该干涉仪包括点光源及其分光组件、泰曼型主干涉仪和分光成像组件。方法为:点光源发出的球面波经分光组件分成四束后进入主干涉仪,采用分光组件将一个点光源复制成相同的四个,通过调整四个点光源在主干涉仪准直物镜焦面上与光轴的距离,在参考面与测试面的干涉中引入不同的相移量,然后通过分光成像组件在一个CCD上同时获取四幅成像清晰的相移干涉图。本发明具有成本低、抗震性好、对比度好、易于操作等特点,可以用于光学元件的实时高精度检测等领域。

    一种光学平行平板玻璃的均匀性绝对测量方法

    公开(公告)号:CN106501216A

    公开(公告)日:2017-03-15

    申请号:CN201611223080.2

    申请日:2016-12-27

    IPC分类号: G01N21/45

    CPC分类号: G01N21/45

    摘要: 本发明公开了一种光学平行平板玻璃的均匀性绝对测量方法,属于光学干涉测量领域。该方法包括三个步骤:第一步、将待测光学平行平板放入测量光路,测量由光学平行平板前后表面形成的干涉腔的波面偏差;第二步、将光学平行平板放入由参考平晶工作面和反射平晶工作面构成的干涉测量腔中,测量透过上述光学平行平板后反射回来的波像差;第三步、将待测光学平行平板从干涉测量腔中移除,测量由参考平晶工作面和反射平晶工作面构成的干涉测量腔的波面偏差;然后根据三次测量结果计算待测光学平行平板的均匀性分布。本方法步骤少、操作简单、精度高,可以用于激光器工作物质、航天器窗口玻璃的光学平行平板折射率均匀性分布的高精度测量。