非晶氧化锌薄膜晶体管及其制造方法

    公开(公告)号:CN101060139A

    公开(公告)日:2007-10-24

    申请号:CN200610148646.X

    申请日:2006-11-22

    Abstract: 本发明提供了一种非晶氧化锌(ZnO)薄膜晶体管(TFT)及其制造方法,所述非晶ZnO TFT包括:衬底;半导体沟道,在衬底上由包括n(GaO3)、m(InO3)和(ZnO)k的非晶ZnO基化合物半导体材料形成;源极和漏极电极,电接触半导体沟道的两端;栅极,形成围绕半导体沟道的电场;和栅极绝缘体,设置于栅极和半导体沟道之间。可以满足不等式条件n≥1.5、m≥1.5、k>0。

    清洗锆钛酸铅薄膜的方法
    52.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1241457A

    公开(公告)日:2000-01-19

    申请号:CN99110200.2

    申请日:1999-07-07

    CPC classification number: H01L21/02071 H01L21/31111 H01L21/31691

    Abstract: 提供了一种采用浸蚀剂清洗PZT薄膜的方法。该方法采用HF(或缓冲氧化物浸蚀剂(BOE)和乙酸的混合物,或HF(BOE)、乙酸和醇的混合物,作为浸蚀剂,从而降低了PZT薄膜的浸蚀速率,该浸蚀速率在很大程度上取决于HF的浓度,进而可以采用这种浸蚀剂把PZT薄膜浸蚀去掉一个较薄的厚度为100埃或更薄。所以,只有PZT薄膜表面上的第二相晶体或浸蚀破坏层能被去除。

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