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公开(公告)号：CN106482881A
公开(公告)日：2017-03-08
申请号：CN201610857556.1
申请日：2016-09-28
Applicant: 天津华海清科机电科技有限公司 , 清华大学
IPC: G01L5/00
CPC classification number: G01L5/0061
Abstract: 本发明公开了一种测量润滑剂摩擦力的装置，包括：安装平台；盘轴系统，盘轴系统可旋转地设置于安装平台；玻璃盘，玻璃盘设在盘轴系统上，盘轴系统带动玻璃盘旋转；立柱，立柱设有沿立柱轴向方向延伸的外套，外套的外壁设有凸块，立柱与玻璃盘相对设置；球轴系统，球轴系统与外套连接，球轴系统包括：球轴和用于驱动球轴旋转的球轴驱动组件，球轴的一端设置于球轴驱动组件内，球轴的另一端的端部设有钢球，钢球与玻璃盘的上表面接触，凸块距离立柱中心轴线的水平距离大于钢球距离立柱中心轴线的水平距离；测力系统，测力系统与凸块的侧壁接触用于测量润滑剂摩擦力。根据本发明实施例的测量润滑剂摩擦力的装置测量准确性高。
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公开(公告)号：CN106449500A
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201610855751.0
申请日：2016-09-27
Applicant: 天津华海清科机电科技有限公司 , 清华大学
IPC: H01L21/68 , H01L21/687 , H01L21/677
Abstract: 本发明公开了一种定位组件，包括：支架；多个定位销，多个所述定位销沿所述支架的周向方向间隔设置且可旋转地设在所述支架上，每个所述定位销包括：用于支承工件的定位板，所述定位板的上表面设有定位凸起，所述定位板的下表面贴合于所述支架的上表面且设有转轴，所述转轴的中心轴线与所述定位凸起的中心轴线不重合，通过旋转所述定位销可改变所述定位凸起之间的水平距离，从而对工件位置进行有效调节。根据本发明实施例的定位组件，由于转轴的中心轴线与定位凸起的中心轴线不重合，可以通过旋转定位销来改变定位凸起之间的水平距离，进而改变定位板用于支承工件的面积，从而实现对工件位置的调节，保证了生产的正常稳定进行，降低了生产成本。
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公开(公告)号：CN106340486A
公开(公告)日：2017-01-18
申请号：CN201610852803.9
申请日：2016-09-26
Applicant: 天津华海清科机电科技有限公司 , 清华大学
IPC: H01L21/687
CPC classification number: H01L21/687 , H01L2221/683
Abstract: 本发明公开了一种晶圆夹持装置，晶圆夹持装置包括：第一夹持件，所述第一夹持件具有第一夹持端和第一活动端；第二夹持件，所述第二夹持件具有第二夹持端和第二活动端；驱动件，所述驱动件设置成同步驱动所述第一活动端和所述第二活动端相向或背向运动，其中，所述第一夹持端与所述第二夹持端相对设置以用于夹持晶圆。通过设置第一夹持件和第二夹持件，两个夹持端可以同步运动夹持住晶圆，从而可以避免晶圆与其他表面相接触，可以避免晶圆表面的磨损，可以提高晶圆的品质。
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公开(公告)号：CN106272123A
公开(公告)日：2017-01-04
申请号：CN201610912534.0
申请日：2016-10-20
Applicant: 天津华海清科机电科技有限公司 , 清华大学
Abstract: 本发明公开了一种抛光头以及具有其的抛光机，抛光头包括：连接件；安装板，所述安装板设置在所述连接件的下侧；调心轴承，所述调心轴承具有内圈和外圈，所述内圈和所述外圈中的一个与所述连接件相连且另一个与所述安装板相连；周向同步件，所述周向同步件设置成用于在周向方向上同步所述安装板和所述连接件。该抛光头的安装板相对连接件角度可调，从而安装板可以补偿其工件安装面和工件表面之间的角度误差，以及可以补偿工件安装面和抛光盘之间的角度误差，进而可以提高抛光机的抛光效果。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106239371A
公开(公告)日：2016-12-21
申请号：CN201610855025.9
申请日：2016-09-26
Applicant: 天津华海清科机电科技有限公司 , 清华大学
IPC: B24B53/017 , B24B53/12 , B24B37/34 , F02M35/10
Abstract: 本发明公开了一种修整器进气系统以及抛光机，修整器进气系统包括：真空源；真空管路，所述真空管路与所述真空源相连；压缩空气源；压缩空气管路，所述压缩空气管路与所述压缩空气源相连；修整器，所述修整器形成有加载腔室，所述加载腔室选择性地与所述真空管路、所述压缩空气管路和大气相连。通过合理控制修整器和真空源、压缩空气源和大气源之间的通断状态，可以改变修整器内的加载腔室的状态，而且在初始状态时，大气源可以向加载腔室内供入大气，从而可以避免加载腔室长时间收缩导致的破损和寿命减少，以及可以避免消耗能源。
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公开(公告)号：CN105609462A
公开(公告)日：2016-05-25
申请号：CN201610010992.5
申请日：2016-01-05
Applicant: 天津华海清科机电科技有限公司 , 清华大学
IPC: H01L21/687
CPC classification number: H01L21/687 , H01L21/68721 , H01L21/68764
Abstract: 本发明公开了一种晶圆夹持机构，晶圆夹持机构包括：转盘；多个卡爪，所述多个卡爪包括至少一个活动卡爪，所述活动卡爪活动地设置在所述转盘上，所述卡爪用于将所述晶圆夹持在所述转盘上；夹持力组件，所述夹持力组件设置成用于提供给所述活动卡爪夹持所述晶圆的夹持力。通过设置夹持力组件，可以提供给活动卡爪夹持晶圆的夹持力，而且活动卡爪夹持晶圆的夹持力较大，可以防止晶圆的自转，可以有效保护晶圆。
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公开(公告)号：CN105470192A
公开(公告)日：2016-04-06
申请号：CN201610010994.4
申请日：2016-01-05
Applicant: 天津华海清科机电科技有限公司 , 清华大学
IPC: H01L21/687
CPC classification number: H01L21/687 , H01L21/68721 , H01L21/68764
Abstract: 本发明公开了一种晶圆夹持机构，晶圆夹持机构包括：转盘；多个卡爪，所述多个卡爪包括至少一个活动卡爪，所述活动卡爪活动地设置在所述转盘上，所述卡爪用于将所述晶圆夹持在所述转盘上；弹性夹持力组件，所述弹性夹持力组件设置成用于提供给所述活动卡爪夹持所述晶圆的弹性夹持力。通过设置弹性夹持力组件，可以提供给活动卡爪夹持晶圆的夹持力，而且活动卡爪夹持晶圆的夹持力较大，可以防止晶圆的自转，可以有效保护晶圆。
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公开(公告)号：CN105470177A
公开(公告)日：2016-04-06
申请号：CN201610010190.4
申请日：2016-01-05
Applicant: 天津华海清科机电科技有限公司 , 清华大学
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明公开了一种晶圆清洗干燥装置，晶圆清洗干燥装置包括：转盘，晶圆适于固定在转盘上；第一流体盘，第一流体盘设置在转盘和晶圆之间；第二流体盘，第二流体盘与第一流体盘关于晶圆相对设置，其中，第一流体盘和第二流体盘的朝向晶圆的表面上均设置有适于喷射流体的多个喷孔，流体包括氮气。通过设置第一流体盘和第二流体盘，第一流体盘内的流体可以通过相应的喷孔喷射在晶圆的下表面上，第二流体盘内的流体可以通过相应的喷孔喷射在晶圆的上表面上，从而可以有效清洗晶圆。当第一流体盘和第二流体盘内喷出的流体为氮气时，可以有效干燥晶圆的上表面和下表面，而且氮气可以有效去除晶圆的上表面和下表面上的残留水痕。
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公开(公告)号：CN101934496A
公开(公告)日：2011-01-05
申请号：CN201010246628.1
申请日：2010-08-05
Applicant: 清华大学
IPC: B24B37/04 , H01L21/304
Abstract: 本发明公开一种化学机械抛光机，包括：工作平台，抛光盘，修整器和抛光液输送装置，装卸平台，抛光头，机械手，和抛光头支架，所述抛光头支架安装在工作平台上表面上且包括水平基板和支撑侧板，所述水平基板形成有在其厚度方向上贯通的凹槽，所述凹槽在水平基板的纵向一端敞开且朝向水平纵向另一端延伸，所述支撑侧板分别与水平基板相连且分别位于所述凹槽的横向两侧用于支撑水平基板，其中水平基板的所述纵向一端在纵向上延伸超出所述支撑侧板以构成悬臂端，所述悬臂端伸到所述抛光盘的上方。本发明的化学机械抛光机结构简单，加工方便，生产效率高。本发明还提出具有上述化学机械抛光机的化学机械抛光设备。
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