公开(公告)号：CN109545704A

公开(公告)日：2019-03-29

申请号：CN201810994507.1

申请日：2018-08-29

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 西出基 ,  伊豆田崇 ,  林孝俊 ,  福井克洋 ,  冈本浩一 ,  藤田和宏 ,  三浦淳靖 ,  小林健司 ,  根来世 ,  辻川裕贵

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/306

Abstract: 本发明提供一种药液生成方法、药液生成装置及基板处理装置。一种药液生成方法，生成用以对基板上所形成的膜进行处理的药液，所述药液生成方法包括气体溶解工序，所述气体溶解工序通过将含有氧气的含氧气体及含有惰性气体的含惰性气体供给至药液来使所述含氧气体及所述含惰性气体溶解至药液中，并且通过将供给至所述药液的所述含氧气体与所述含惰性气体的混合比设定为与规定的目标溶解氧浓度相对应的混合比来调整药液的溶解氧浓度。

公开(公告)号：CN108701602A

公开(公告)日：2018-10-23

申请号：CN201780012577.6

申请日：2017-02-27

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 阿部博史 ,  林豊秀 ,  小林健司

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/68764 ,  H01L21/304 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67103 ,  H01L21/67115 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/68728 ,  H01L21/68792

Abstract: 基板处理装置具备：旋转基座，设置有保持基板的周缘的夹具构件；马达，使上述旋转基座旋转；加热器单元，位于被上述夹具构件保持的基板与上述旋转基座的上表面之间；处理液供给单元，朝向被上述夹具构件保持的基板的表面供给处理液；以及微波产生单元，从上述加热器单元向上述基板的下表面产生微波。上述微波产生单元也可包括：微波产生构件，包括设置于上述加热器单元的波导管；微波振荡器，设置于上述加热器单元的外部；以及同轴缆线，连接上述波导管与上述微波振荡器。