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公开(公告)号：CN115673997A
公开(公告)日：2023-02-03
申请号：CN202211422551.8
申请日：2022-11-15
申请人： 大连理工大学 , 大连理工大学宁波研究院
IPC分类号： B24B31/116 , B24B57/02 , B24B41/06 , B24B31/12
摘要： 一种细长管内表面磨料冲刷抛光工艺与装置，属于流体冲刷抛光技术领域。适用于对细长管内表面进行抛光以降低其表面粗糙度，其中细长管的内径Φ在2mm以下。抛光装置包括气泵、调压阀、电磁换向阀、两个、固定台、两个注射器。首先，将抛光装置按流程顺序安装连接并检查装置气密性，将抛光液吸入两个注射器内腔中，将待加工细长管工件固定后，两端与注射器内腔连通。其次，开启气泵、调压阀、电磁换向阀，两个气缸分别带动两个注射器轴向来回冲刷工件内壁，对其进行抛光加工。最后，进行检测，其内表面质量达到预期目标，抛光加工结束。本发明能够保证工件加工的广泛实用性，实现对细长管工件内表面的自动化加工，降低工件加工时的人力物力成本。
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公开(公告)号：CN115401534A
公开(公告)日：2022-11-29
申请号：CN202211051439.8
申请日：2022-08-30
申请人： 大连理工大学 , 大连理工大学宁波研究院
摘要： 一种微阵列模具保形保性仿形抛光方法，该抛光方法具体为微振动抛光。通过制作与微阵列模具面形相符的仿形抛光工具头，在仿形抛光工具头和微阵列模具之间加入磨料，通过XY二维电移台实现微阵列模具或仿形抛光工具头以一定的频率和振幅进行微振动。仿形抛光工具头和微阵列模具之间的磨料在二者的相对压力和相对移动下产生微切削作用以去除材料，从而去除微模具表面的刀纹、划痕等缺陷。该方法可摆脱微阵列模具特征点尺寸极小的限制，同时抛光微阵列模具上的所有特征点，效率高，且不会破坏微阵列模具的面形精度，可以达到较高的面形精度和表面质量。
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公开(公告)号：CN113480942B
公开(公告)日：2022-06-07
申请号：CN202110898990.5
申请日：2021-08-06
申请人： 大连理工大学 , 大连理工大学宁波研究院
IPC分类号： C09G1/02
摘要： 一种多晶YAG陶瓷化学机械抛光液，属于精密/超精密加工技术领域。多晶YAG陶瓷化学机械抛光液的pH为7，包含溶质和溶剂两部分：溶剂为去离子水。按抛光液总质量分数100％计，其各组分和质量百分比含量如下：10～30wt％硅溶胶，1～5wt％的氧化铝磨粒，0.1～0.5wt％磨粒分散剂，适量的pH调节剂，各物质在去离子水中通过超声混合均匀。采用该抛光液可实现对多晶YAG陶瓷的超光滑抛光，抛光后的多晶YAG晶体表面晶界高差明显减小，能够获得超光滑、无损伤的多晶YAG晶体表面；可有效抑制晶界高差，达到表面超光滑的目的；另外采用本发明的抛光液，材料去除效率高，与只含硅溶胶或氧化铝的抛光液相比去除效率有明显提高。
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公开(公告)号：CN113427333B
公开(公告)日：2022-06-07
申请号：CN202110638421.7
申请日：2021-06-08
申请人： 大连理工大学 , 大连理工大学宁波研究院
摘要： 一种深孔抛光装置及抛光方法，属于光学零件深孔抛光技术领域，包括工件自转装置、工件往复移动装置、抛光工具旋转装置及抛光液循环装置。工件往复移动装置设于工件自转装置侧面，其移动方向平行于工件深孔轴线，其中，工件自转装置固定在往复移动装置上，工件沿工件自转装置的轴线穿过固定连接在转盘上，转盘带动工件做回转运动。抛光工具旋转装置带动抛光刷做回转运动，抛光刷穿过抛光孔并对抛光工具旋转装置进行XYZ方向微调，调整抛光刷位置。抛光液循环装置用于实现抛光过程中的抛光液循环作用。本发明能够避免抛光装置顺着深孔内壁抛光中出现局部差异度较高的问题，改善抛光质量，可适应多种孔径深孔和抛光毛刷，保证灵活可调性。
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公开(公告)号：CN114473834A
公开(公告)日：2022-05-13
申请号：CN202210101980.9
申请日：2022-01-27
申请人： 大连理工大学 , 大连理工大学宁波研究院
摘要： 本发明提供一种微细结构非接触式抛光装置及方法，属于精密/超精密加工领域。所述抛光装置包括抛光液工作槽、旋转平台、夹具、低频率振动发生装置、抛光头、超声波刀柄、抛光液。夹具与旋转平台连接，且二者之间留有间隙用于放置低频率振动发生装置，低频率振动发生装置将沿Y轴方向微小振动传给工件；工件通过夹具定位夹紧并完全浸在抛光液中；抛光头固定在超声波刀柄。抛光头的具体结构与工件待加工表面的微细结构进行匹配设计，抛光过程中，抛光头的结构与工件相互之间的工作间隙保持5‑15mm不变。本发明可以避免接触式抛光造成的表面、亚表面损伤；抛光方法简单，提高剪切增稠抛光的效率；抛光装置适用性强，抛光方法灵活性高。
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公开(公告)号：CN114473720A
公开(公告)日：2022-05-13
申请号：CN202210100332.1
申请日：2022-01-27
申请人： 大连理工大学 , 大连理工大学宁波研究院
摘要： 一种透镜阵列光学元件抛光方法及装置，抛光装置中的结构化抛光头固定在抛光头旋转电机上，通过改变旋转速度调整抛光液剪切速率。抛光头旋转电机通过抛光头角度变换平台与音圈电机连接，音圈电机使抛光过程中抛光头与工件间的抛光力保持恒定。抛光头角度变换平台与三轴联动平台连接，实现结构化抛光头和工件保持恒定的间隙。抛光液槽安装在工件旋转平台上,曲面透镜阵列工件安装在抛光液槽内表面，通过抛光液槽的旋转实现工件的连续均匀抛光。本发明能够实现对透镜阵列光学元件的低损伤甚至无损伤抛光，实现纳米甚至亚纳米粗糙度。另外基于非接触抛光的高柔性特点，提出两种透镜阵列光学元件的抛光方法，提高加工的可控性。
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公开(公告)号：CN114378718A
公开(公告)日：2022-04-22
申请号：CN202210100352.9
申请日：2022-01-27
申请人： 大连理工大学 , 大连理工大学宁波研究院
IPC分类号： B24B57/02
摘要： 一种非牛顿流体分散装置及方法，属于精密/超精密加工领域。所述分散装置包括连接气管、旋转平台、抛光功能液槽、运动隔离气体接头、气管接头、气压节流阀门。抛光功能液槽与旋转平台相连，待加工工件与抛光功能液槽相连,通过抛光功能液槽的旋转实现非牛顿流体抛光液的均匀分散。所述运动隔离气体接头顶端穿过旋转平台中心通孔，通过管用螺纹与抛光功能液槽连接，其底部通过气管接头与外部气泵连接。使用过程中,抛光液能够不断的由上向下的循环运动，保证抛光液的均匀性。本发明可以解决剪切增稠抛光中非牛顿流体易沉降的难题，该方法简单，装置操作方便；可以通过改变气体流速，实现不同体系的非牛顿流体的分散，且不会对抛光过程造成干扰。
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公开(公告)号：CN118456284A
公开(公告)日：2024-08-09
申请号：CN202410770728.6
申请日：2024-06-14
申请人： 大连理工大学
IPC分类号： B24B49/00 , B24B37/005 , B24B37/08
摘要： 本发明公开了一种双面研磨工艺中工件自转速度的测量方法，包括以下步骤：设计专用牺牲环和游星轮；安装工件；安装振动传感器；采集振动数据；计算工件平均转速。本发明通过测量振动数据进而计算工件平均转速，与传统的工件转速测量方法相比，本发明对工件的材质和尺寸没有特别要求，适用性广；本发明采用在工件外圈加装牺牲环的方法，与现有的采用接触式磁感应侦测器测量晶圆转速的方法相比，在不干涉正常加工的同时可一定程度抑制工件表面的塌边现象；本发明利用配套的上位机实时记录振动传感器检测的振动数据，从而能够对采集的振动数据进行分析计算，操作简单，可行性好，同时测量精度较高。
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公开(公告)号：CN117111406A
公开(公告)日：2023-11-24
申请号：CN202311010604.X
申请日：2023-08-11
申请人： 大连理工大学
摘要： 本发明公开了一种基于仿形模具的曲面涂覆光刻胶方法，包括以下步骤：仿形模具加工；表面处理；注胶；封装；曝光；脱模。本发明通过制作曲面元件仿形模具，使得曲面元件涂胶面与仿形模具之间可以形成一个密闭的大小固定的空间，通过将空间内注满光刻胶从而避免由于光刻胶流动造成的涂覆不均匀现象，进而一步到位实现胶膜的均匀性涂抹，避免了由于重力导致光刻胶滴流造成的涂胶不均匀的问题。避免了因涂胶不均匀导致的曝光区域光强分布不均所导致的结构缺陷多、精度差的问题。本发明采用凹凸模的方式涂胶，除胶膜生成过程的必须用量外基本无需额外的光刻胶。浪费少，成本低廉。
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公开(公告)号：CN116619128A
公开(公告)日：2023-08-22
申请号：CN202310578941.2
申请日：2023-05-22
申请人： 大连理工大学
摘要： 本发明公开了一种基于超临界CO2冷却的SA508‑3钢铣削加工方法，采用超临界CO2冷却铣削来实现SA508‑3钢铣削加工，可充分发挥超临界CO2冷却的优势，有效利用超临界CO2升华吸热冷却和改善切削区润滑条件的双重作用，尤其是改善切削区如的润滑冷却状态，降低切削温度，提高工件表面加工质量和刀具寿命。本发明的超临界CO2的强效冷却效果可降低工件表面和刀具表面温度，有利于断屑并降低刀具表面的切屑粘结，抑制刀具表面积屑瘤的产生，从而保证加工表面质量和提高。本发明的超临界CO2喷射到切削区后快速升华，气体膨胀可有效清除切削区的切屑，降低了工件表面和刀尖处切屑的粘结，避免了切屑对表面加工质量的影响。
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