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公开(公告)号：CN115401534B
公开(公告)日：2023-08-01
申请号：CN202211051439.8
申请日：2022-08-30
申请人： 大连理工大学 , 大连理工大学宁波研究院
摘要： 一种微阵列模具保形保性仿形抛光方法，该抛光方法具体为微振动抛光。通过制作与微阵列模具面形相符的仿形抛光工具头，在仿形抛光工具头和微阵列模具之间加入磨料，通过XY二维电移台实现微阵列模具或仿形抛光工具头以一定的频率和振幅进行微振动。仿形抛光工具头和微阵列模具之间的磨料在二者的相对压力和相对移动下产生微切削作用以去除材料，从而去除微模具表面的刀纹、划痕等缺陷。该方法可摆脱微阵列模具特征点尺寸极小的限制，同时抛光微阵列模具上的所有特征点，效率高，且不会破坏微阵列模具的面形精度，可以达到较高的面形精度和表面质量。
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公开(公告)号：CN114473834B
公开(公告)日：2023-05-05
申请号：CN202210101980.9
申请日：2022-01-27
申请人： 大连理工大学 , 大连理工大学宁波研究院
摘要： 本发明提供一种微细结构非接触式抛光装置及方法，属于精密/超精密加工领域。所述抛光装置包括抛光液工作槽、旋转平台、夹具、低频率振动发生装置、抛光头、超声波刀柄、抛光液。夹具与旋转平台连接，且二者之间留有间隙用于放置低频率振动发生装置，低频率振动发生装置将沿Y轴方向微小振动传给工件；工件通过夹具定位夹紧并完全浸在抛光液中；抛光头固定在超声波刀柄。抛光头的具体结构与工件待加工表面的微细结构进行匹配设计，抛光过程中，抛光头的结构与工件相互之间的工作间隙保持5‑15mm不变。本发明可以避免接触式抛光造成的表面、亚表面损伤；抛光方法简单，提高剪切增稠抛光的效率；抛光装置适用性强，抛光方法灵活性高。
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公开(公告)号：CN115401534A
公开(公告)日：2022-11-29
申请号：CN202211051439.8
申请日：2022-08-30
申请人： 大连理工大学 , 大连理工大学宁波研究院
摘要： 一种微阵列模具保形保性仿形抛光方法，该抛光方法具体为微振动抛光。通过制作与微阵列模具面形相符的仿形抛光工具头，在仿形抛光工具头和微阵列模具之间加入磨料，通过XY二维电移台实现微阵列模具或仿形抛光工具头以一定的频率和振幅进行微振动。仿形抛光工具头和微阵列模具之间的磨料在二者的相对压力和相对移动下产生微切削作用以去除材料，从而去除微模具表面的刀纹、划痕等缺陷。该方法可摆脱微阵列模具特征点尺寸极小的限制，同时抛光微阵列模具上的所有特征点，效率高，且不会破坏微阵列模具的面形精度，可以达到较高的面形精度和表面质量。
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公开(公告)号：CN113480942B
公开(公告)日：2022-06-07
申请号：CN202110898990.5
申请日：2021-08-06
申请人： 大连理工大学 , 大连理工大学宁波研究院
IPC分类号： C09G1/02
摘要： 一种多晶YAG陶瓷化学机械抛光液，属于精密/超精密加工技术领域。多晶YAG陶瓷化学机械抛光液的pH为7，包含溶质和溶剂两部分：溶剂为去离子水。按抛光液总质量分数100％计，其各组分和质量百分比含量如下：10～30wt％硅溶胶，1～5wt％的氧化铝磨粒，0.1～0.5wt％磨粒分散剂，适量的pH调节剂，各物质在去离子水中通过超声混合均匀。采用该抛光液可实现对多晶YAG陶瓷的超光滑抛光，抛光后的多晶YAG晶体表面晶界高差明显减小，能够获得超光滑、无损伤的多晶YAG晶体表面；可有效抑制晶界高差，达到表面超光滑的目的；另外采用本发明的抛光液，材料去除效率高，与只含硅溶胶或氧化铝的抛光液相比去除效率有明显提高。
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公开(公告)号：CN114473834A
公开(公告)日：2022-05-13
申请号：CN202210101980.9
申请日：2022-01-27
申请人： 大连理工大学 , 大连理工大学宁波研究院
摘要： 本发明提供一种微细结构非接触式抛光装置及方法，属于精密/超精密加工领域。所述抛光装置包括抛光液工作槽、旋转平台、夹具、低频率振动发生装置、抛光头、超声波刀柄、抛光液。夹具与旋转平台连接，且二者之间留有间隙用于放置低频率振动发生装置，低频率振动发生装置将沿Y轴方向微小振动传给工件；工件通过夹具定位夹紧并完全浸在抛光液中；抛光头固定在超声波刀柄。抛光头的具体结构与工件待加工表面的微细结构进行匹配设计，抛光过程中，抛光头的结构与工件相互之间的工作间隙保持5‑15mm不变。本发明可以避免接触式抛光造成的表面、亚表面损伤；抛光方法简单，提高剪切增稠抛光的效率；抛光装置适用性强，抛光方法灵活性高。
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公开(公告)号：CN114473720A
公开(公告)日：2022-05-13
申请号：CN202210100332.1
申请日：2022-01-27
申请人： 大连理工大学 , 大连理工大学宁波研究院
摘要： 一种透镜阵列光学元件抛光方法及装置，抛光装置中的结构化抛光头固定在抛光头旋转电机上，通过改变旋转速度调整抛光液剪切速率。抛光头旋转电机通过抛光头角度变换平台与音圈电机连接，音圈电机使抛光过程中抛光头与工件间的抛光力保持恒定。抛光头角度变换平台与三轴联动平台连接，实现结构化抛光头和工件保持恒定的间隙。抛光液槽安装在工件旋转平台上,曲面透镜阵列工件安装在抛光液槽内表面，通过抛光液槽的旋转实现工件的连续均匀抛光。本发明能够实现对透镜阵列光学元件的低损伤甚至无损伤抛光，实现纳米甚至亚纳米粗糙度。另外基于非接触抛光的高柔性特点，提出两种透镜阵列光学元件的抛光方法，提高加工的可控性。
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公开(公告)号：CN114378718A
公开(公告)日：2022-04-22
申请号：CN202210100352.9
申请日：2022-01-27
申请人： 大连理工大学 , 大连理工大学宁波研究院
IPC分类号： B24B57/02
摘要： 一种非牛顿流体分散装置及方法，属于精密/超精密加工领域。所述分散装置包括连接气管、旋转平台、抛光功能液槽、运动隔离气体接头、气管接头、气压节流阀门。抛光功能液槽与旋转平台相连，待加工工件与抛光功能液槽相连,通过抛光功能液槽的旋转实现非牛顿流体抛光液的均匀分散。所述运动隔离气体接头顶端穿过旋转平台中心通孔，通过管用螺纹与抛光功能液槽连接，其底部通过气管接头与外部气泵连接。使用过程中,抛光液能够不断的由上向下的循环运动，保证抛光液的均匀性。本发明可以解决剪切增稠抛光中非牛顿流体易沉降的难题，该方法简单，装置操作方便；可以通过改变气体流速，实现不同体系的非牛顿流体的分散，且不会对抛光过程造成干扰。
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公开(公告)号：CN115383610A
公开(公告)日：2022-11-25
申请号：CN202211051440.0
申请日：2022-08-30
申请人： 大连理工大学 , 大连理工大学宁波研究院
摘要： 一种微细结构仿形工具恒力非接触抛光方法及装置，抛光过程中，首先，将工件固定于抛光液储存装置内，通过纵向压力调整平台使仿形抛光工具位于工件上方，打开横向压力调整控制器、压力数据分析模块、纵向压力调整控制器、压力数据采集器，根据抛光要求调整压力数据采集器的范围；保证工件完全浸没在抛光液中，打开抛光液循环装置。其次，打开工件扫描抛光平台，使贴有抛光垫的仿形抛光工具先沿工件一侧移动。再次，使抛光工具继续下降至抛光力达到设定范围，同时横向压力调整平台左右移动实现对抛光力的实时调整完成对微结构工件一侧的抛光。最后，利用横向压力调整平台调整工件位置，使抛光工具其靠近工件另一侧完成抛光。本发明可以结构简单，使用方便，在保证面形的前提下达到较低的粗糙度水平，可以达到更好的面形精度。
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公开(公告)号：CN113480942A
公开(公告)日：2021-10-08
申请号：CN202110898990.5
申请日：2021-08-06
申请人： 大连理工大学 , 大连理工大学宁波研究院
IPC分类号： C09G1/02
摘要： 一种多晶YAG陶瓷化学机械抛光液，属于精密/超精密加工技术领域。多晶YAG陶瓷化学机械抛光液的pH为7，包含溶质和溶剂两部分：溶剂为去离子水。按抛光液总质量分数100％计，其各组分和质量百分比含量如下：10～30wt％硅溶胶，1～5wt％的氧化铝磨粒，0.1～0.5wt％磨粒分散剂，适量的pH调节剂，各物质在去离子水中通过超声混合均匀。采用该抛光液可实现对多晶YAG陶瓷的超光滑抛光，抛光后的多晶YAG晶体表面晶界高差明显减小，能够获得超光滑、无损伤的多晶YAG晶体表面；可有效抑制晶界高差，达到表面超光滑的目的；另外采用本发明的抛光液，材料去除效率高，与只含硅溶胶或氧化铝的抛光液相比去除效率有明显提高。
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公开(公告)号：CN113458909A
公开(公告)日：2021-10-01
申请号：CN202110638414.7
申请日：2021-06-08
申请人： 大连理工大学 , 大连理工大学宁波研究院
摘要： 一种光学透镜双面抛光方法，属于超精密加工领域。该双面抛光方法通过在透镜上下位置设置磨具，在抛光过程中磨具贴合透镜上下表面往复摆动，产生相对运动去除表面材料，实现透镜上下表面同时抛光。抛光过程中磨具的运动包括上下磨具的自身转动和上下磨具整体往复摆动，其中上下磨具的自身转动由电机带动完成，摆杆通过万向节带动上下磨具完成其相对于待抛光透镜的圆轨迹摆动。且抛光过程中的采用通过磨具中心供液方式或外部滴液方式进行抛光液供给。本发明为了消除去除不均匀的问题，抛光过程中采用磨具摆动加工和工件翻面抛光的方法，能实现高效率的非平面透镜的双面高精度加工，且该方法可以应用于不同类型透镜的双面抛光。
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