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公开(公告)号：CN113480942B
公开(公告)日：2022-06-07
申请号：CN202110898990.5
申请日：2021-08-06
申请人： 大连理工大学 , 大连理工大学宁波研究院
IPC分类号： C09G1/02
摘要： 一种多晶YAG陶瓷化学机械抛光液，属于精密/超精密加工技术领域。多晶YAG陶瓷化学机械抛光液的pH为7，包含溶质和溶剂两部分：溶剂为去离子水。按抛光液总质量分数100％计，其各组分和质量百分比含量如下：10～30wt％硅溶胶，1～5wt％的氧化铝磨粒，0.1～0.5wt％磨粒分散剂，适量的pH调节剂，各物质在去离子水中通过超声混合均匀。采用该抛光液可实现对多晶YAG陶瓷的超光滑抛光，抛光后的多晶YAG晶体表面晶界高差明显减小，能够获得超光滑、无损伤的多晶YAG晶体表面；可有效抑制晶界高差，达到表面超光滑的目的；另外采用本发明的抛光液，材料去除效率高，与只含硅溶胶或氧化铝的抛光液相比去除效率有明显提高。
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公开(公告)号：CN115771102B
公开(公告)日：2024-02-27
申请号：CN202211528026.4
申请日：2022-11-30
申请人： 大连理工大学 , 大连理工大学宁波研究院
IPC分类号： B24B37/08 , B24B7/22 , B24B37/015 , B24B37/005 , B24B27/00 , G06F30/20
摘要： 本发明公开了一种应用于双面研磨工艺的数字孪生系统，包括双面研磨机机理模型、基础数据模型和预测模型；所述双面研磨机机理模型依据双面研磨机几何结构、内部传动关系及材料去除机理建立。本发明可实现双面研磨机实体的同步映像，严格约束数字孪生系统内各部件的几何尺寸和密度、导热系数、杨氏模量、泊松比、阻尼系数、吸声系数，可保证数字孪生系统内的加工与实际加工的一致。本发明在实际加工前，通过基础数据模型输入关键工艺参数与具体数据，在数字孪生系统内可进行成本近乎为零的虚拟实验测试，预测工件的崩碎、变形，可有效降低人工试错成本，大幅提高成品率。对于价格昂贵的工件，可有效减少经济损失。
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公开(公告)号：CN113787450A
公开(公告)日：2021-12-14
申请号：CN202111043240.6
申请日：2021-09-07
申请人： 大连理工大学 , 大连理工大学宁波研究院
摘要： 本发明提供一种FeCrAl材料的超光滑表面制备方法，属于精密/超精密加工技术领域。首先，将FeCrAl工件粘粘在圆形载盘上，将研磨垫粘在研磨盘上，再将圆形载盘置于研磨盘上，通过研磨工艺，磨平工件。其次，将其置于粘接有抛光垫的抛光盘上进行粗抛，通过在载盘上添加配重的方式来设置工件的抛光压力，达到去除划痕的目的。最后，将抛光垫更换后进行精抛，达到抑制工件表面的晶间高差的作用。本发明的工艺方法简单，加工得到的工件加工质量高。通过对FeCrAl合金的研磨与抛光，表面粗糙度达到1nm以下，研磨抛光总时间较短，可高效实现FeCrAl合金的超光滑表面加工。
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公开(公告)号：CN113787450B
公开(公告)日：2022-11-15
申请号：CN202111043240.6
申请日：2021-09-07
申请人： 大连理工大学 , 大连理工大学宁波研究院
摘要： 本发明提供一种FeCrAl材料的超光滑表面制备方法，属于精密/超精密加工技术领域。首先，将FeCrAl工件粘粘在圆形载盘上，将研磨垫粘在研磨盘上，再将圆形载盘置于研磨盘上，通过研磨工艺，磨平工件。其次，将其置于粘接有抛光垫的抛光盘上进行粗抛，通过在载盘上添加配重的方式来设置工件的抛光压力，达到去除划痕的目的。最后，将抛光垫更换后进行精抛，达到抑制工件表面的晶间高差的作用。本发明的工艺方法简单，加工得到的工件加工质量高。通过对FeCrAl合金的研磨与抛光，表面粗糙度达到1nm以下，研磨抛光总时间较短，可高效实现FeCrAl合金的超光滑表面加工。
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公开(公告)号：CN113458909B
公开(公告)日：2022-06-07
申请号：CN202110638414.7
申请日：2021-06-08
申请人： 大连理工大学 , 大连理工大学宁波研究院
摘要： 一种光学透镜双面抛光方法，属于超精密加工领域。该双面抛光方法通过在透镜上下位置设置磨具，在抛光过程中磨具贴合透镜上下表面往复摆动，产生相对运动去除表面材料，实现透镜上下表面同时抛光。抛光过程中磨具的运动包括上下磨具的自身转动和上下磨具整体往复摆动，其中上下磨具的自身转动由电机带动完成，摆杆通过万向节带动上下磨具完成其相对于待抛光透镜的圆轨迹摆动。且抛光过程中的采用通过磨具中心供液方式或外部滴液方式进行抛光液供给。本发明为了消除去除不均匀的问题，抛光过程中采用磨具摆动加工和工件翻面抛光的方法，能实现高效率的非平面透镜的双面高精度加工，且该方法可以应用于不同类型透镜的双面抛光。
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公开(公告)号：CN115771102A
公开(公告)日：2023-03-10
申请号：CN202211528026.4
申请日：2022-11-30
申请人： 大连理工大学 , 大连理工大学宁波研究院
IPC分类号： B24B37/08 , B24B7/22 , B24B37/015 , B24B37/005 , B24B27/00 , G06F30/20
摘要： 本发明公开了一种应用于双面研磨工艺的数字孪生系统，包括双面研磨机机理模型、基础数据模型和预测模型；所述双面研磨机机理模型依据双面研磨机几何结构、内部传动关系及材料去除机理建立。本发明可实现双面研磨机实体的同步映像，严格约束数字孪生系统内各部件的几何尺寸和密度、导热系数、杨氏模量、泊松比、阻尼系数、吸声系数，可保证数字孪生系统内的加工与实际加工的一致。本发明在实际加工前，通过基础数据模型输入关键工艺参数与具体数据，在数字孪生系统内可进行成本近乎为零的虚拟实验测试，预测工件的崩碎、变形，可有效降低人工试错成本，大幅提高成品率。对于价格昂贵的工件，可有效减少经济损失。
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公开(公告)号：CN113480942A
公开(公告)日：2021-10-08
申请号：CN202110898990.5
申请日：2021-08-06
申请人： 大连理工大学 , 大连理工大学宁波研究院
IPC分类号： C09G1/02
摘要： 一种多晶YAG陶瓷化学机械抛光液，属于精密/超精密加工技术领域。多晶YAG陶瓷化学机械抛光液的pH为7，包含溶质和溶剂两部分：溶剂为去离子水。按抛光液总质量分数100％计，其各组分和质量百分比含量如下：10～30wt％硅溶胶，1～5wt％的氧化铝磨粒，0.1～0.5wt％磨粒分散剂，适量的pH调节剂，各物质在去离子水中通过超声混合均匀。采用该抛光液可实现对多晶YAG陶瓷的超光滑抛光，抛光后的多晶YAG晶体表面晶界高差明显减小，能够获得超光滑、无损伤的多晶YAG晶体表面；可有效抑制晶界高差，达到表面超光滑的目的；另外采用本发明的抛光液，材料去除效率高，与只含硅溶胶或氧化铝的抛光液相比去除效率有明显提高。
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公开(公告)号：CN113458909A
公开(公告)日：2021-10-01
申请号：CN202110638414.7
申请日：2021-06-08
申请人： 大连理工大学 , 大连理工大学宁波研究院
摘要： 一种光学透镜双面抛光方法，属于超精密加工领域。该双面抛光方法通过在透镜上下位置设置磨具，在抛光过程中磨具贴合透镜上下表面往复摆动，产生相对运动去除表面材料，实现透镜上下表面同时抛光。抛光过程中磨具的运动包括上下磨具的自身转动和上下磨具整体往复摆动，其中上下磨具的自身转动由电机带动完成，摆杆通过万向节带动上下磨具完成其相对于待抛光透镜的圆轨迹摆动。且抛光过程中的采用通过磨具中心供液方式或外部滴液方式进行抛光液供给。本发明为了消除去除不均匀的问题，抛光过程中采用磨具摆动加工和工件翻面抛光的方法，能实现高效率的非平面透镜的双面高精度加工，且该方法可以应用于不同类型透镜的双面抛光。
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公开(公告)号：CN115181498B
公开(公告)日：2024-10-25
申请号：CN202210746930.6
申请日：2022-06-29
申请人： 大连理工大学 , 大连理工大学宁波研究院
摘要： 本发明属于研磨抛光加工技术领域，提供一种用于KDP晶体的抛光液及高效研磨抛光工艺。所述的抛光液为由磨粒、反应物、添加剂、有机溶剂、去离子水组成的非水基化学机械抛光液。高效研磨抛光工艺包括粗研、精研、抛光、清洗。本发明在研磨阶段通过固结磨料垫表层有效磨粒的微切削作用快速去除线切割产生的宏观加工纹理以及脆性损伤。本发明将研磨分为两个阶段，兼顾研磨效率和表面质量；在抛光阶段，利用抛光液中反应物的化学作用、去离子水的溶解作用、磨粒的机械作用实现对材料的去除，可在低压下快速将晶体表面粗糙度降至纳米级；采用的固结磨料研磨抛光垫，不易造成表面损伤，加工效率高。
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公开(公告)号：CN115179111B
公开(公告)日：2023-10-24
申请号：CN202210747146.7
申请日：2022-06-29
申请人： 大连理工大学 , 大连理工大学宁波研究院
摘要： 本发明提供一种潮解工件的浴法抛光方法及装置，包括控制面板、工件保持架、回流挡板、盆形抛光盘、驱动装置、抛光垫、压环、螺栓、工件、配重夹具。盆形抛光盘与驱动装置直连，抛光垫使用压环和螺栓固定在盆形抛光盘内部，工件镶嵌后固定于配重夹具，通过增减配重调节抛光压力。易潮解工件浸没在无水抛光液中进行加工，回流挡板使抛光液自发性搅拌均匀并回流至抛光垫中心。本发明整体结构紧凑，占地面积小，对环境要求不高，广泛适用于潮解材料的平面抛光。抛光液配置简单，不含有毒有害成分，抛光液使用量少且能够多次重复使用，降低了生产成本和对环境的危害。
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