硅基光调制器
    41.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105629519A

    公开(公告)日:2016-06-01

    申请号:CN201410621547.3

    申请日:2014-11-06

    Abstract: 本发明提供一种硅基光调制器,至少包括:脊型波导,包括平板部和位于所述平板部中间,且高于所述平板部的凸条;所述脊型波导中包括第一轻掺杂区和第二轻掺杂区,第一轻掺杂区包括形成在凸条中间,且沿着所述凸条的延伸方向的纵向第一轻掺杂区和至少一个形成在所述凸条和所述平板部上,且与所述凸条相交的横向第一轻掺杂区;第二轻掺杂区和第一轻掺杂区的掺杂类型相反,且形成于第一轻掺杂区外侧的凸条和平板部中,以与第一轻掺杂区构成横向和纵向的PN结。本发明的技术方案中提供的硅基光调制器利用多个横向第一轻掺杂区与第二轻掺杂区、纵向第一轻掺杂区与第二轻掺杂区形成PN结,可以增加模场中耗尽区的面积,从而提高硅基光调制器的调制效率。

    一种偏振分束旋转器及其设计方法

    公开(公告)号:CN105223647A

    公开(公告)日:2016-01-06

    申请号:CN201510742396.1

    申请日:2015-11-04

    CPC classification number: G02B6/126

    Abstract: 本发明提供一种偏振分束旋转器及其设计方法,包括:串联的双层梯形模式转换器以及反向锥形耦合器;双层梯形模式转换器将横磁波零阶模式转化为横电波一阶模式,反向锥形耦合器将横电波一阶模式转化为横电波零阶模式。选定第一梯形波导和第二梯形波导的宽度,根据波导长度与模式转换效率的关系,确定第一梯形波导和第二梯形波导的长度;选定第三梯形波导和第四梯形波导的宽度,根据波导长度与模式转化损耗的关系,确定反向锥形耦合器的长度。本发明通过参数优化实现大工作带宽,高转换效率、高制作容差等特性,可以用于提高单纤三向复用器的实用性,此外,制作方法简单,与标准硅光子加工工艺过程兼容,具有较大的实用价值和应用前景。

    具有光栅的单纤三向复用器

    公开(公告)号:CN102879858B

    公开(公告)日:2015-05-13

    申请号:CN201210419042.X

    申请日:2012-10-26

    Abstract: 本发明提供一种具有光栅的单纤三向复用器。该单纤三向复用器至少包括:用于接入第一波长及第二波长的光波信号的输入波导;用于接入第三波长的光波信号的上传波导;第一输出波导;第二输出波导;及多模波导耦合器;该多模波导耦合器用于分离所述第一波长信号及第二波长信号,并使两者分别由第一输出波导及第二输出波导输出;此外,该多模波导耦合器所具有的光栅,能反射所述第三波长的光波信号,并使该光波信号由输入波导输出。优选地,输入波导、上传波导、第一输出波导、第二输出波导及多模波导耦合器均通过对半导体基底的刻蚀来形成。本发明的优点包括:结构紧凑小巧,且制作工艺与CMOS工艺完全兼容,无需复杂工艺,加工成本低。

    一种SOIESD两级保护网络
    44.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104465651A

    公开(公告)日:2015-03-25

    申请号:CN201410712386.9

    申请日:2014-11-28

    Abstract: 本发明提供一种SOI ESD两级保护网络,包括:第一级保护网络,由第一二极管及第二二极管组成;第二级保护网络,包括PMOS晶体管、外接电阻、缓冲电阻和硅控整流器,其中,所述缓冲电阻的第一端接保护网络的输入端,第二端接所述硅控整流器的P型层及N阱区,并作为保护网络的输出端,所述PMOS晶体管的栅端和体端接电源线,源端接保护网络的输入端,漏端接所述外接电阻的第一端,并与所述硅控整流器的P阱区连接,所述外接电阻的第二端接地线,所述硅控整流器的N型层接地线。本项发明的SOI硅控整流器采用动态触发的原理,可以大大提高二级保护的反应速度,并大大降低内部电路栅击穿的可能性。

    一种测试MOS器件阱电阻的方法

    公开(公告)号:CN104377143A

    公开(公告)日:2015-02-25

    申请号:CN201410509907.0

    申请日:2014-09-28

    CPC classification number: H01L22/30 H01L22/14 H01L22/20

    Abstract: 本发明提供一种测试MOS器件阱电阻的方法,所述测试MOS器件阱电阻的方法至少包括:选取芯片中的一个MOS管,将其源极及体区接地,并在栅极加上工作电压VDD,在漏极加上扫描电流ID,同时测量漏极电压VD及体区电流Ibody;绘制VD-ID曲线,寻找曲线中的漏极电压反转点,记录该反转点所对应的漏极电流ID,turn,通过公式Rw=Vpt/Ibody,turn计算得到阱电阻Rw。本发明选取芯片中本身存在的MOS管作为测试结构来测试阱电阻,不需要额外设计用来测量阱电阻的测试结构,从而节省芯片面积,降低制造成本;本发明还可以进一步根据MOS管的沟道长度、宽度参数得到MOS管的阱方块电阻;为了提高提取精度,本发明可以选取器件尺寸(沟道长度、宽度)较大的MOS管,以减小LDD区域对测试精度的影响。

    一种SOI器件结构及其制作方法

    公开(公告)号:CN104362093A

    公开(公告)日:2015-02-18

    申请号:CN201410541928.0

    申请日:2014-10-14

    CPC classification number: H01L27/1203 H01L21/76243 H01L21/84

    Abstract: 本发明提供一种SOI器件结构及其制作方法,该结构包括SOI衬底,SOI衬底的顶层硅中形成有由浅沟槽隔离结构隔离的有源区,所述有源区中形成有MOS晶体管;所述有源区侧壁与所述浅沟槽隔离结构之间形成有一收容空间,所述MOS晶体管还包括一对侧壁栅极,该一对侧壁栅极嵌入所述收容空间中,并与MOS晶体管的栅极连接。本发明通过简单的工艺优化形成3D的SOI器件,无需增加光罩数量,与CMOS工艺兼容;SOI器件结构中除了常规栅极,还包括侧壁栅极,使得有源区侧壁变成沟道,在相同的器件面积下,可以大大增加器件的有效宽度,进而增加驱动电流,提高器件性能;并且STI与侧壁沟道被多晶硅侧壁栅极隔开,使得STI远离有源区侧壁,能够提高器件的抗总剂量辐射能力。

    硅基光调制器
    49.
    实用新型

    公开(公告)号:CN204155033U

    公开(公告)日:2015-02-11

    申请号:CN201420660354.4

    申请日:2014-11-06

    Abstract: 本实用新型提供一种硅基光调制器,至少包括:脊型波导,包括平板部和位于所述平板部中间,且高于所述平板部的凸条;所述脊型波导中包括第一轻掺杂区和第二轻掺杂区,第一轻掺杂区包括形成在凸条中间,且沿着所述凸条的延伸方向的纵向第一轻掺杂区和至少一个形成在所述凸条和所述平板部上,且与所述凸条相交的横向第一轻掺杂区;第二轻掺杂区和第一轻掺杂区的掺杂类型相反,且形成于第一轻掺杂区外侧的凸条和平板部中,以与第一轻掺杂区构成横向和纵向的PN结。本实用新型的技术方案中提供的硅基光调制器利用多个横向第一轻掺杂区与第二轻掺杂区、纵向第一轻掺杂区与第二轻掺杂区形成PN结,可以增加模场中耗尽区的面积,从而提高硅基光调制器的调制效率。

    一种自适应的触发器加固电路

    公开(公告)号:CN205566246U

    公开(公告)日:2016-09-07

    申请号:CN201620075508.2

    申请日:2016-01-26

    Abstract: 本实用新型提供一种自适应的触发器加固电路,包括反相器链,包括多级级联的反相器;锁存器,连接于每级反相器输出端,用于锁存反相器输出逻辑状态;控制模块,用于控制某个时刻所有锁存器,使每个锁存器保持相对应的反相器输出逻辑状态;计算模块,用于计算逻辑发生变化的反相器个数,并以反相器的传输延时为单位,标定出SET脉冲的宽度;延时滤波模块,用于依据计算模块标定的SET脉冲的宽度,自动设置精确的滤波延时,滤除触发器模块的单粒子瞬态脉冲。本实用新型可以精确测得不同能量粒子轰击下的单粒子瞬态脉冲宽度,以保证滤波电路延时精确设定,可精确滤除单粒子脉冲,使芯片的加固DFF在获得预计的抗单粒子效果外,面积更优,速度折中代价最小。

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