公开(公告)号：CN101140858A

公开(公告)日：2008-03-12

申请号：CN200710149602.3

申请日：2007-09-05

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 基村雅洋

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/02 ,  H01L21/311 ,  H01L21/306 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L21/6708

Abstract: 回收槽内存储的处理液，借助泵的抽吸，经由配管，通过杂质去除过滤器及离子成分去除过滤器后，贮存在精制槽内。在杂质去除过滤器中，除去处理液中含有的杂质(例如，水分、蚀刻残渣或颗粒等)。在离子成分去除过滤器中，除去含酸性液体、HFE及亲水性有机溶剂的处理液中的离子成分(主要为阴离子)。例如，当采用氢氟酸(HF)作为酸性液体时，通过离子成分去除过滤器除去氟离子(F－)。另外，采用离子成分去除过滤器，也可以除去处理液中含有的水分、亲水性有机溶剂或金属离子等。

公开(公告)号：CN101140619A

公开(公告)日：2008-03-12

申请号：CN200710145885.4

申请日：2007-09-04

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 古川至 ,  雨森清忠 ,  福井一希

IPC: G06K9/00 ,  H04N1/032

Abstract: 本发明提供一种可以通过容易的操作，可靠地调整数据处理涉及的参数的数据处理装置、图像处理装置及参数调整方法。在进行图像处理涉及的参数值的调整时，目标数据生成部(140)从操作者处接收对结果数据D2的修正指令，生成目标数据D3。然后，数据调整处理部(170)，检测可以得到与目标数据D3在规定的容许范围内一致的结果数据D2的参数值，确定为调整值。

公开(公告)号：CN100370583C

公开(公告)日：2008-02-20

申请号：CN200510131682.0

申请日：2005-12-15

Applicant: 日本网目版制造株式会社

Inventor： 永见宗三

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/67 ,  B08B11/04

CPC classification number: B08B3/08 ,  B08B3/048 ,  H01L21/02052 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67034 ,  H01L21/67057

Abstract: 一种混合器，通过将氯化物混入由热水单元加热的去离子热水中来制备处理溶液。将制得的处理溶液通过处理溶液管和共用管供给处理槽。在该处理槽中，由升高器固定的基板被浸入处理溶液。随后，升高器升高，从处理溶液中拉出基板。由于附着在基板上的液滴是酸，抑制了基板的氧化反应。即，当基板干燥时，氧化物不会沉积在基板上，从而防止形成水印。

公开(公告)号：CN100369452C

公开(公告)日：2008-02-13

申请号：CN200510129485.5

申请日：2005-12-09

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 浅井浩 ,  中野雅之 ,  竹本康弘

IPC: H04N1/405

CPC classification number: H04N1/4051 ,  H04N1/4055

Abstract: 本发明提供阈值矩阵生成方法、阈值矩阵生成设备以及记录介质。在阈值矩阵生成部件中，依据矩阵区域中设定的临时光照次序生成指定灰度级的着色图像，并对着色图像执行平滑化操作，以生成灰度级评估图像。通过基于评估图像中对应像素的值，改变与着色图像中网点区域边界周围的区域对应的矩阵区域中指定区域包含的各位置的光照次序的序号，来修改光照次序。借此操作，当对根据修改后的光照次序生成的指定灰度级的着色图像执行平滑化操作时，指定区域中包含的像素值的变化小于在对根据未修改后的光照次序生成图像情况下像素值的变化。然后，通过反映出修改后的光照次序在矩阵区域中确定阈值，以生成能够抑制生成的网点图像中出现粒状物的阈值矩阵。

公开(公告)号：CN100367453C

公开(公告)日：2008-02-06

申请号：CN200510120439.9

申请日：2005-11-10

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 桥诘彰夫

IPC: H01L21/00

CPC classification number: H01L21/67051

Abstract: 本发明提供一种能够有效降低因含水的液体的处理引起的基板的带电量的基板处理方法。该方法包含：水供给工序，在通过基板保持旋转机构将基板保持为大致水平并使其以第一旋转速度旋转的状态下，向上述基板供给含水的液体；除电工序，在该水供给工序之后，在通过上述基板保持旋转机构将上述基板保持为大致水平并使其以比上述第一旋转速度低的第二旋转速度旋转、或者停止基板的旋转的状态下，在上述基板的表面保持规定的液体的液膜，并且以规定时间进行对该液膜不进行液体的供给的浸泡处理，从而对上述基板进行除电。

公开(公告)号：CN100367108C

公开(公告)日：2008-02-06

申请号：CN200410069678.1

申请日：2004-07-19

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 奥胜次 ,  田中宏尚 ,  田村利夫 ,  十孝则

IPC: G03B27/32 ,  B65H5/04 ,  G03B42/04 ,  B65H5/06 ,  B41J11/70 ,  B41J13/02

CPC classification number: B65H16/021 ,  B65H5/04 ,  B65H35/04 ,  B65H2404/1423 ,  B65H2405/35 ,  G03B27/32 ,  G03B42/045

Abstract: 一种图像记录装置包括：垂直排列的两个记录材料存储部分，每个记录材料存储部分具有一盒、一切刀和一对取出辊；一传送装置，具有用以传送一记录材料的一对传送辊，该传送装置在一水平状态下支撑该记录材料；以及一记录鼓，用以在其外围表面上固定该记录材料。该装置还包括一倾斜机构，用以倾斜该传送装置，以将这对传送辊设定在一与该记录鼓对置的位置；以及一图像记录器，用以在由记录鼓所固定的记录材料上记录一图像。综上，本发明提供了一种结构简单的图像记录装置，以可靠地传送记录介质，并且实现安装空间的降低。

公开(公告)号：CN101105638A

公开(公告)日：2008-01-16

申请号：CN200710109897.1

申请日：2007-06-05

Applicant: ASML荷兰有限公司 ,  大日本网目版制造株式会社

Inventor： J·J·M·巴塞尔曼斯 ,  K·尤雅马

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70583 ,  G02B27/48

Abstract: 一种系统和方法用于从相干射束中形成不相干射束。系统包括辐射源和反射环路系统。辐射源产生相干或部分相干射束。反射环路系统接收该部分相干射束，并通过环路或备选通过不重叠环路反射该部分相干射束，以形成不相干射束。

公开(公告)号：CN100362625C

公开(公告)日：2008-01-16

申请号：CN200610008613.5

申请日：2006-02-20

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 宫胜彦

IPC: H01L21/00 ,  F26B5/00

Abstract: 本发明涉及一种基板处理装置及基板处理方法，防止在干燥被液体浸湿的基板表面时在基板表面产生水印，同时防止形成在基板表面的细微图案中产生图案破坏，从而良好地干燥基板表面。邻近构件(26)的正对面(28)相对于基板表面WS邻近配置，在正对面(28)和基板表面WS之间形成液密层(36)的状态下邻近构件(26)向移动方向(-X)移动，同时从移动方向上的邻近构件(26)的上游侧(+X)向液密层(36)的上游侧界面喷射氮气。这样喷出的氮气被有选择地、集中地吹到露出界面部(52)上，而将构成该露出界面部(52)的冲洗液从基板表面WS及液密层(36)吹走来干燥与露出界面部(52)对应的基本表面区域。

公开(公告)号：CN100361274C

公开(公告)日：2008-01-09

申请号：CN200510091979.9

申请日：2005-08-15

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 奥野英治 ,  吉田武司

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/68 ,  B08B3/02 ,  B05C11/00

CPC classification number: H01L21/68728 ,  H01L21/68778 ,  H01L21/68785 ,  H01L21/68792 ,  Y10S134/902 ,  Y10T279/17231 ,  Y10T279/18

Abstract: 本装置涉及保持基板并使其旋转的基板保持旋转装置。该装置包括：旋转基座，其与旋转轴连接，以该旋转轴为中心进行旋转；挟持构件，其安装于上述旋转基座上，可在与基板的周缘部接触而能够挟持基板的挟持位置和从该挟持位置退避开的退避位置之间进行位移；挟持构件驱动机构，其用于在上述挟持位置和退避位置之间驱动该挟持构件；旋转限制机构，其与该挟持构件驱动机构联动，而在允许上述旋转基座的旋转的旋转允许状态和限制上述旋转基座的旋转的旋转限制状态之间进行变换。

公开(公告)号：CN101097841A

公开(公告)日：2008-01-02

申请号：CN200710109537.1

申请日：2007-06-25

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 相原友明

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67028 ,  H01L21/67034 ,  Y10S134/902

Abstract: 基板处理装置，通过将基板从处理液中移动到溶剂环境中来干燥基板，该装置包括：贮留处理液的处理槽；围绕在处理槽周围的处理腔室；保持基板并可在处理槽内的处理位置与在处理腔室内处于处理槽上方的干燥位置之间升降的保持机构；将溶剂的蒸汽供给到处理腔室的供给部；在处理腔室外回收从处理槽排出的处理液的缓冲罐；使处理腔室内减压的第一减压泵；使缓冲罐内减压的第二减压泵；以及控制部，控制部通过供给部使处理腔室内形成为溶剂环境，通过保持机构将基板从处理位置移动到干燥位置，通过第一减压泵将处理腔室内减压到第一压力，并操作第二减压泵，直到将处理槽内的处理液排放到缓冲罐内为止，将缓冲罐内的压力调整到第一压力以下的第二压力。