公开(公告)号：CN101105638A

公开(公告)日：2008-01-16

申请号：CN200710109897.1

申请日：2007-06-05

Applicant: ASML荷兰有限公司 ,  大日本网目版制造株式会社

Inventor： J·J·M·巴塞尔曼斯 ,  K·尤雅马

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70583 ,  G02B27/48

Abstract: 一种系统和方法用于从相干射束中形成不相干射束。系统包括辐射源和反射环路系统。辐射源产生相干或部分相干射束。反射环路系统接收该部分相干射束，并通过环路或备选通过不重叠环路反射该部分相干射束，以形成不相干射束。

公开(公告)号：CN101681122A

公开(公告)日：2010-03-24

申请号：CN200880020205.9

申请日：2008-06-13

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： J·J·M·巴塞尔曼斯 ,  A·J·布理克尔

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70291 ,  G03F7/706

Abstract: 本发明提供一种用于测量光刻设备中的像差的系统和方法。辐射束采用单独可控元件的阵列(PD)进行调制，并且所调制的束采用投影系统(PS)进行投影。在单独可控元件的阵列(PD)上设置图案以调制辐射束，并且所述图案包括由多个特征形成的重复的结构，其尺寸被形成为使得辐射束的第一级衍射基本上充满投影系统的光瞳。传感器(S)探测投影的辐射并且测量由投影系统(PS)投影的辐射中的干涉。然后测量在所探测的辐射束中的像差。

公开(公告)号：CN1841211B

公开(公告)日：2011-10-05

申请号：CN200610073329.6

申请日：2006-03-29

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： P·A·J·蒂内曼斯 ,  J·J·M·巴塞尔曼斯

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70191 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70433 ,  G03F7/70508

Abstract: 一种在衬底上形成图案的装置和方法。其包括投影系统，图案形成装置，低通滤光器，和数据操作处理装置。投影系统将辐射光束以子辐射光束阵列投射到衬底上。图案形成装置调制子辐射光束以在衬底上基本上产生被请求的剂量图案。低通滤光器对从被请求的剂量图案导出的图案数据进行操作，以便形成主要只包括低于选择的门限值频率的空间频率部分的频率限制的目标剂量图案。数据操作处理装置产生包括要由图案形成装置产生的点曝光强度的、基于从点曝光强度至频率限制的目标剂量图案的直接代数最小二乘方拟合的控制信号。在各种实施例中，可以使用图案锐化，图像对数斜率控制，和/或CD偏置的滤光器。

公开(公告)号：CN1900827A

公开(公告)日：2007-01-24

申请号：CN200610100137.X

申请日：2006-06-29

Applicant: ASML控股有限公司 ,  ASML荷兰有限公司

Inventor： A·M·拉蒂波夫 ,  J·J·M·巴塞尔曼斯 ,  K·Z·特罗斯特

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/00 ,  G02B26/08

CPC classification number: G03F7/70291

Abstract: 公开用于确定空间光调制器(SLM)的特定像素调制状态以便把所需图案印刷到衬底上的方法和系统。所述方法包括在所需图案的物平面上选择至少一个超像素，超像素由至少两个像素组成。所需图案的至少一条边缘与超像素中的边界交叉，所述至少一条边缘由与超像素有关的特定斜率和位置参数定义。所述方法还包括(i)形成插值表以便把预计算的像素调制状态列入插值表中和(ii)根据插值表确定每一个像素的特定像素调制状态。还公开提供空间光调制器(SLM)的方法和系统。SLM包括构造成形成超像素组的多个镜面。每一个超像素(i)包括多个镜面中的两个或两个以上镜面和(ii)配置成仅仅切换一个光像素。两个或两个以上镜面中的每一个可以单独启动。

公开(公告)号：CN101681122B

公开(公告)日：2011-09-21

申请号：CN200880020205.9

申请日：2008-06-13

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： J·J·M·巴塞尔曼斯 ,  A·J·布理克尔

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70291 ,  G03F7/706

Abstract: 本发明提供一种用于测量光刻设备中的像差的系统和方法。辐射束采用单独可控元件的阵列(PD)进行调制，并且所调制的束采用投影系统(PS)进行投影。在单独可控元件的阵列(PD)上设置图案以调制辐射束，并且所述图案包括由多个特征形成的重复的结构，其尺寸被形成为使得辐射束的第一级衍射基本上充满投影系统的光瞳。传感器(S)探测投影的辐射并且测量由投影系统(PS)投影的辐射中的干涉。然后测量在所探测的辐射束中的像差。

公开(公告)号：CN101055429A

公开(公告)日：2007-10-17

申请号：CN200710097194.1

申请日：2007-04-12

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： H·威瑟 ,  J·J·M·巴塞尔曼斯 ,  P·W·H·德贾格 ,  H·J·P·文克

IPC: G03F7/20 ,  H01S3/00 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70058

Abstract: 一种系统和方法用来由至少部分相干的光束形成非相干光束，以使干涉或散斑图被基本消除。旋转光学元件引导部分相干的光束自角分布改变元件反射以此形成非相干光束。通过旋转光学元件的旋转，部分相干的光束以变动的角度或位置被引导到角分布改变元件上。所述角度作为时间的函数来变化。

公开(公告)号：CN1841211A

公开(公告)日：2006-10-04

申请号：CN200610073329.6

申请日：2006-03-29

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： P·A·J·蒂内曼斯 ,  J·J·M·巴塞尔曼斯

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70191 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70433 ,  G03F7/70508

Abstract: 一种在衬底上形成图案的装置和方法。其包括投影系统，图案形成装置，低通滤光器，和数据操作处理装置。投影系统将辐射光束以子辐射光束阵列投射到衬底上。图案形成装置调制子辐射光束以在衬底上基本上产生被请求的剂量图案。低通滤光器对从被请求的剂量图案导出的图案数据进行操作，以便形成主要只包括低于选择的门限值频率的空间频率部分的频率限制的目标剂量图案。数据操作处理装置产生包括要由图案形成装置产生的点曝光强度的、基于从点曝光强度至频率限制的目标剂量图案的直接代数最小二乘方拟合的控制信号。在各种实施例中，可以使用图案锐化，图像对数斜率控制，和/或CD偏置的滤光器。

公开(公告)号：CN116648674A

公开(公告)日：2023-08-25

申请号：CN202180087090.0

申请日：2021-12-09

Applicant: ASML荷兰有限公司 ,  西默有限公司

Inventor： W·E·康利 ,  徐端孚 ,  J·J·索恩斯 ,  J·J·M·巴塞尔曼斯

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种用于改善使用光刻设备将设计布局的一部分成像至衬底上的光刻过程的方法。所述方法包括：计算多变量成本函数，所述多变量成本函数是以下各项的函数：(i)影响所述光刻过程的特性的多个设计变量，和(ii)所述光刻设备的辐射源的辐射带宽；和通过调整所述设计变量(例如，源、掩模布局、带宽，等等)中的一个或更多个设计变量来重新配置所述光刻过程的所述特性(例如，EPE、图像对比度、抗蚀剂，等等)中的一个或更多个特性，直到终止条件被满足为止。所述终止条件包括散斑特性(例如，散斑对比度)被维持在与所述辐射源相关联的散斑规格内且也将与所述光刻过程相关联的图像对比度维持在所需的范围内。所述散斑特性是所述辐射带宽的函数。

公开(公告)号：CN101055429B

公开(公告)日：2011-06-22

申请号：CN200710097194.1

申请日：2007-04-12

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： H·威瑟 ,  J·J·M·巴塞尔曼斯 ,  P·W·H·德贾格 ,  H·J·P·文克

IPC: G03F7/20 ,  H01S3/00 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70058

Abstract: 一种系统和方法用来由至少部分相干的光束形成非相干光束，以使干涉或散斑图被基本消除。旋转光学元件引导部分相干的光束自角分布改变元件反射以此形成非相干光束。通过旋转光学元件的旋转，部分相干的光束以变动的角度或位置被引导到角分布改变元件上。所述角度作为时间的函数来变化。

公开(公告)号：CN102109775B

公开(公告)日：2013-07-31

申请号：CN201110063823.5

申请日：2006-03-29

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： P·A·J·蒂内曼斯 ,  J·J·M·巴塞尔曼斯

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70191 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70433 ,  G03F7/70508

Abstract: 光刻装置和采用数据过滤的器件制造方法，一种在衬底上形成图案的装置和方法。其包括投影系统，图案形成装置，低通滤光器，和数据操作处理装置。投影系统将辐射光束以子辐射光束阵列投射到衬底上。图案形成装置调制子辐射光束以在衬底上基本上产生被请求的剂量图案。低通滤光器对从被请求的剂量图案导出的图案数据进行操作，以便形成主要只包括低于选择的门限值频率的空间频率部分的频率限制的目标剂量图案。数据操作处理装置产生包括要由图案形成装置产生的点曝光强度的、基于从点曝光强度至频率限制的目标剂量图案的直接代数最小二乘方拟合的控制信号。在各种实施例中，可以使用图案锐化，图像对数斜率控制，和/或CD偏置的滤光器。