公开(公告)号：CN1996149B

公开(公告)日：2010-12-08

申请号：CN200610064221.0

申请日：2006-12-08

Applicant: ASML荷兰有限公司 ,  ASML控股有限公司

Inventor： H·威瑟 ,  D·W·卡兰 ,  R·-H·穆尼格施米特 ,  R·B·韦纳 ,  J·T·G·M·范德文 ,  G·H·罗宾斯

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70725 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70425

Abstract: 用于在辐射脉冲期间补偿光刻设备中衬底的运动的设备和方法包括提供被配置来与衬底基本上同步地移动入射到衬底上的构图的辐射束的可在枢轴上转动的反射镜。

公开(公告)号：CN1996149A

公开(公告)日：2007-07-11

申请号：CN200610064221.0

申请日：2006-12-08

Applicant: ASML荷兰有限公司 ,  ASML控股有限公司

Inventor： H·威瑟 ,  D·W·卡兰 ,  R·-H·穆尼格施米特 ,  R·B·韦纳 ,  J·T·G·M·范德文 ,  G·H·罗宾斯

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70725 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70425

Abstract: 用于在辐射脉冲期间补偿光刻设备中衬底的运动的设备和方法包括提供被配置来与衬底基本上同步地移动入射到衬底上的构图的辐射束的可在枢轴上转动的反射镜。

公开(公告)号：CN101055429A

公开(公告)日：2007-10-17

申请号：CN200710097194.1

申请日：2007-04-12

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： H·威瑟 ,  J·J·M·巴塞尔曼斯 ,  P·W·H·德贾格 ,  H·J·P·文克

IPC: G03F7/20 ,  H01S3/00 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70058

Abstract: 一种系统和方法用来由至少部分相干的光束形成非相干光束，以使干涉或散斑图被基本消除。旋转光学元件引导部分相干的光束自角分布改变元件反射以此形成非相干光束。通过旋转光学元件的旋转，部分相干的光束以变动的角度或位置被引导到角分布改变元件上。所述角度作为时间的函数来变化。

公开(公告)号：CN101013267B

公开(公告)日：2011-07-27

申请号：CN200610064703.6

申请日：2006-12-01

Applicant: ASML荷兰有限公司 ,  ASML控股有限公司

Inventor： H·威瑟 ,  J·F·F·克林卡默 ,  L·里齐科夫 ,  S·科斯顿 ,  A·祖比尔 ,  H·J·P·文克 ,  Y·K·施马里夫

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70583 ,  G02B27/0905 ,  G03F7/70075

Abstract: 照明系统一种用于基本上均化辐射束并从该辐射束去除至少一些相干性的系统和方法。

公开(公告)号：CN101055429B

公开(公告)日：2011-06-22

申请号：CN200710097194.1

申请日：2007-04-12

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： H·威瑟 ,  J·J·M·巴塞尔曼斯 ,  P·W·H·德贾格 ,  H·J·P·文克

IPC: G03F7/20 ,  H01S3/00 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70058

Abstract: 一种系统和方法用来由至少部分相干的光束形成非相干光束，以使干涉或散斑图被基本消除。旋转光学元件引导部分相干的光束自角分布改变元件反射以此形成非相干光束。通过旋转光学元件的旋转，部分相干的光束以变动的角度或位置被引导到角分布改变元件上。所述角度作为时间的函数来变化。

公开(公告)号：CN101013267A

公开(公告)日：2007-08-08

申请号：CN200610064703.6

申请日：2006-12-01

Applicant: ASML荷兰有限公司 ,  ASML控股有限公司

Inventor： H·威瑟 ,  J·F·F·克林卡默 ,  L·里齐科夫 ,  S·科斯顿 ,  A·祖比尔 ,  H·J·P·文克 ,  Y·K·施马里夫

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70583 ,  G02B27/0905 ,  G03F7/70075

Abstract: 一种用于基本上均化辐射束并从该辐射束去除至少一些相干性的系统和方法。