公开(公告)号：CN1996149B

公开(公告)日：2010-12-08

申请号：CN200610064221.0

申请日：2006-12-08

Applicant: ASML荷兰有限公司 ,  ASML控股有限公司

Inventor： H·威瑟 ,  D·W·卡兰 ,  R·-H·穆尼格施米特 ,  R·B·韦纳 ,  J·T·G·M·范德文 ,  G·H·罗宾斯

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70725 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70425

Abstract: 用于在辐射脉冲期间补偿光刻设备中衬底的运动的设备和方法包括提供被配置来与衬底基本上同步地移动入射到衬底上的构图的辐射束的可在枢轴上转动的反射镜。

公开(公告)号：CN1996149A

公开(公告)日：2007-07-11

申请号：CN200610064221.0

申请日：2006-12-08

Applicant: ASML荷兰有限公司 ,  ASML控股有限公司

Inventor： H·威瑟 ,  D·W·卡兰 ,  R·-H·穆尼格施米特 ,  R·B·韦纳 ,  J·T·G·M·范德文 ,  G·H·罗宾斯

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70725 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70425

Abstract: 用于在辐射脉冲期间补偿光刻设备中衬底的运动的设备和方法包括提供被配置来与衬底基本上同步地移动入射到衬底上的构图的辐射束的可在枢轴上转动的反射镜。