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公开(公告)号：CN108666194A
公开(公告)日：2018-10-16
申请号：CN201810244900.9
申请日：2018-03-23
Applicant: 日本株式会社日立高新技术科学
Inventor： 岩堀敏行
CPC classification number: H01J37/20 , H01J37/26 , H01J2237/2007 , H01J2237/201 , H01J2237/26 , H01J2237/31745 , H01J2237/31749 , H01J37/261
Abstract: 本发明提供试样保持器具、部件安装用器具以及带电粒子束装置，其能够在确保用于在多个不同的带电粒子束装置之间移置试样的通用性的同时防止装置结构所需的费用增加。带电粒子束装置(10)具有：支架(13)，其可拆下地固定保持试样(S)的试样保持器具(12)；以及试样台(14)，其将支架(13)固定在试样室(11)的内部。试样保持器具(12)具有：试样保持部件，其保持试样(S)；支承台，其支承试样保持部件；以及夹具，其安装在支承台上配置有试样保持部件的位置。
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公开(公告)号：CN104067368B
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201280067960.9
申请日：2012-12-03
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: H01J37/20
CPC classification number: H01J37/20 , H01J37/26 , H01J37/28 , H01J2237/2007 , H01J2237/201 , H01J2237/20214 , H01J2237/2802
Abstract: 本发明的目的是提供一种能够配置多个试样台且至少一个试样台能够移动，并且能够利用聚焦离子束装置制作多个透射型电子显微镜用试样的电子显微镜用试样支架。在试样支架(1)的前端部设有支架前端开口部(9)。并且，在试样支架(1)的后端部具有按钮(5)、旋转机构(6)、粗调机构(7)以及连接器(8)。通过按压按钮(5)而使旋转机构(6)的固定被解除，从而从旋转机构(6)至后端部、以及试样支架的前端部进行旋转。利用本旋转机构，能够使利用透射型电子显微镜进行观察的情况和利用聚焦离子束装置制作透射型电子显微镜用试样的情况的试样的配置进行旋转。并且，能够利用粗调机构(7)及微调机构使试样台移动。
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公开(公告)号：CN103718284B
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：CN201280037016.9
申请日：2012-06-29
Applicant: 松下知识产权经营株式会社
IPC: H01L21/683 , H01L21/3065 , H01L31/04
CPC classification number: H01L31/18 , H01J37/32715 , H01J37/32724 , H01J2237/201 , H01L21/67069 , H01L21/68764 , H01L21/68785
Abstract: 干法蚀刻装置(1)具备搬运基板(5)的托架(3)。在托架(3)设有可收容(3)枚基板(5)的作为贯通孔的基板收容孔(4A～4C)。基板(5)被从基板收容孔(4A～4C)的孔壁突出的基板支撑部(11)支撑。在产生等离子体的腔室(2)内设有平台(21)。平台(21)具备基板载置部(27A～27C)，该基板载置部(27A～27C)从托架(3)的下面插入基板收容孔(4A～4C)、并且在作为其上端面的基板载置面(28)载置从基板支撑部(11)交付的基板(5)的下面。能够抑制装置的大型化同时，实现针对方形基板的高的形状控制性和良好的生产性。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102804328B
公开(公告)日：2015-09-16
申请号：CN201080028969.X
申请日：2010-06-18
Applicant: 特温克里克技术公司
CPC classification number: H01J37/3171 , H01J37/05 , H01J37/08 , H01J37/20 , H01J2237/057 , H01J2237/061 , H01J2237/082 , H01J2237/166 , H01J2237/2001 , H01J2237/2006 , H01J2237/201 , H01J2237/202
Abstract: 一种用于使硅从硅晶片剥落的氢离子植入器使用大的扫描轮(14)，所述扫描轮在其周缘周围承载50+个晶片并且绕着轴线旋转。在一个实施方式中，轮的旋转轴线固定，并且氢离子的带状束(101)在轮的周缘上指向下方。带状束在轮上的晶片的整个径向宽度上方延伸。束是由离子源(16)生成的，离子源提供具有至少100mm主截面直径的提取带状束。离子源可以使用无芯鞍形类型的线圈(112、112a-c)，以便提供约束离子源中的等离子体的均匀场。带状束可以穿过90度弯曲的磁体(17)，所述磁体在带状平面中弯曲所述束。
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公开(公告)号：CN104049097A
公开(公告)日：2014-09-17
申请号：CN201410094387.1
申请日：2014-03-14
Applicant: FEI公司
IPC: G01N35/10
CPC classification number: H01J37/3023 , G01N1/286 , H01J2237/201 , H01J2237/208 , H01J2237/31745
Abstract: 本发明公开了一种提取和处理多个样品用于S/TEM分析的改进的方法。本发明的优选实施例利用一种在堆叠形成中一次附接多个样品的显微操纵器和一种将每个样品放置到TEM栅格上的方法。通过使用一种允许加工多个样品的方法，样品制备的生产能力得到显著提高。
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公开(公告)号：CN103890559A
公开(公告)日：2014-06-25
申请号：CN201280052945.7
申请日：2012-10-25
Applicant: FEI公司
IPC: G01N1/36 , G01N23/225
CPC classification number: H01J37/20 , G01N2223/307 , G01N2223/418 , G01N2223/616 , H01J37/16 , H01J2237/2007 , H01J2237/201 , H01J2237/28 , H01J2237/2826
Abstract: 一种样品支座总成包括样品托盘、基板、样品台底座、以及安装到样品台底座上的校准用基准。基板的底部上的三个配合结构与附接到SEM的样品台上的样品台底座上的相应结构紧密配合。任选的接触导体在样品台底座与基板之间提供电接触从而使得电子束在样品上生成的电荷可以离开样品通过样品导电层到达样品托盘、基板、样品台底座、以及通过接地样品台。
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公开(公告)号：CN103718284A
公开(公告)日：2014-04-09
申请号：CN201280037016.9
申请日：2012-06-29
Applicant: 松下电器产业株式会社
IPC: H01L21/683 , H01L21/3065 , H01L31/04
CPC classification number: H01L31/18 , H01J37/32715 , H01J37/32724 , H01J2237/201 , H01L21/67069 , H01L21/68764 , H01L21/68785
Abstract: 干法蚀刻装置(1)具备搬运基板(5)的托架(3)。在托架(3)设有可收容(3)枚基板(5)的作为贯通孔的基板收容孔(4A～4C)。基板(5)被从基板收容孔(4A～4C)的孔壁突出的基板支撑部(11)支撑。在产生等离子体的腔室(2)内设有平台(21)。平台(21)具备基板载置部(27A～27C)，该基板载置部(27A～27C)从托架(3)的下面插入基板收容孔(4A～4C)、并且在作为其上端面的基板载置面(28)载置从基板支撑部(11)交付的基板(5)的下面。能够抑制装置的大型化同时，实现针对方形基板的高的形状控制性和良好的生产性。
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公开(公告)号：CN101988874B
公开(公告)日：2012-01-25
申请号：CN200910108864.4
申请日：2009-07-31
Applicant: 清华大学 , 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司
CPC classification number: H01J37/20 , G01N1/38 , H01J2237/201 , H01J2237/31745
Abstract: 本发明涉及一种透射电镜试样制备方法，其包括以下步骤：将一定量待测纳米颗粒及一定量石墨烯片分散于一溶剂中，形成一待测样品分散液；提供一具有部分悬空设置的碳纳米管膜结构的透射电镜微栅；将该待测样品分散液浸润该透射电镜微栅的碳纳米管膜结构；以及干燥该待测样品分散液，从而形成一透射电镜试样。
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