静电吸盘
    34.
    发明公开
    静电吸盘 审中-公开

    公开(公告)号:CN119812084A

    公开(公告)日:2025-04-11

    申请号:CN202410933292.8

    申请日:2024-07-12

    Abstract: 本发明提供一种静电吸盘,其能够使接合层的杨氏模量的值成为适当的值,能够降低施加到电介体基板的热应力。静电吸盘(10)具备:电介体基板(100),形成有穿通孔(140);基座板(200),由金属材料形成;及接合层(300),对电介体基板(100)与基座板(200)之间进行接合。当将接合层(300)的杨氏模量作为E(MPa),将电介体基板100的中心轴(AX0)与穿通孔(140)的中心轴(AX1)之间的距离作为X(mm)时,关于位于最远离中心轴(AX0)的位置的穿通孔(140),成立E≤0.2063×X2‑59.3887×X+4278.8065。

    静电吸盘
    35.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110783251B

    公开(公告)日:2025-03-11

    申请号:CN201910644993.9

    申请日:2019-07-17

    Abstract: 本发明提供一种静电吸盘,其能够在提高RF敏感性的同时提高等离子体密度的面内均匀性。具体而言,具备:陶瓷电介体基板,具有放置吸附对象物的第1主面及所述第1主面相反侧的第2主面;基座板,支撑陶瓷电介体基板;及至少一个第1电极层,设置在陶瓷电介体基板的内部,连接于高频电源,其特征为,在从基座板朝向陶瓷电介体基板的Z轴方向上,第1电极层设置在第1主面与第2主面之间,第1电极层具有第1主面侧的第1面及第1面相反侧的第2面,第2面的表面粗糙度大于第1面的表面粗糙度。

    静电吸盘
    36.
    发明公开
    静电吸盘 审中-公开

    公开(公告)号:CN119495623A

    公开(公告)日:2025-02-21

    申请号:CN202410931587.1

    申请日:2024-07-12

    Abstract: 本发明提供一种静电吸盘,其能够抑制接合层发生剥离。静电吸盘(10)具备:电介体基板(100);基座板(200);及接合层(300),对电介体基板(100)与基座板(200)之间进行接合。接合层(300)是在树脂310的内部含有多个颗粒状的填充材(320)的层。接合层(300)中,填充材(320)的含量为70重量%以下。

    静电吸盘
    37.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111725120B

    公开(公告)日:2024-02-13

    申请号:CN202010200242.0

    申请日:2020-03-20

    Abstract: 静电吸盘具备:陶瓷电介体基板,具有第1、第2主面;基座板;第1电极层,设置在陶瓷电介体基板的内部并与高频电源连接;及第2电极层,设置在陶瓷电介体基板的内部并与吸附用电源连接,其特征在于,第1电极层在Z轴方向上被设置在第1主面和第2主面之间,第1电极层的Z轴方向上的尺寸比第2电极层的Z轴方向上的尺寸更大,第2电极层在Z轴方向上被设置在第1电极层和第1主面之间,第1电极层具有第1主面侧的第1面和与第1面呈相反侧的第2面,在从第2面侧供电的静电吸盘上,第1电极层包含陶瓷成分和金属成分,陶瓷成分的浓度及金属成分的浓度的至少任一在Z轴方向上不均匀。

    静电吸盘
    38.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110277343B

    公开(公告)日:2023-06-30

    申请号:CN201910149763.5

    申请日:2019-02-28

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种静电吸盘,在设置有多孔质部的静电吸盘中,能够提高强度。提供一种静电吸盘,具备:陶瓷电介体基板,具有放置吸附对象物的第1主面、所述第1主面相反侧的第2主面、在从所述第2主面到所述第1主面的跨度上设置的穿通孔;基座板,支撑所述陶瓷电介体基板且具有连通于所述穿通孔的气体导入路;及第1多孔质部,设置于所述穿通孔,其特征为,所述第1多孔质部具有位于所述陶瓷电介体基板侧的第1区域,所述陶瓷电介体基板具有位于所述第1区域侧的第1基板区域,所述第1区域与所述第1基板区域被设置成接触,所述第1区域中的平均粒径不同于所述第1基板区域中的平均粒径。

    静电吸盘
    39.
    发明授权

    公开(公告)号:CN110277341B

    公开(公告)日:2023-06-20

    申请号:CN201910149165.8

    申请日:2019-02-28

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种静电吸盘,在设置有多孔质部的静电吸盘中,能够实现电弧放电的降低及气体流动的顺畅化。提供一种静电吸盘,其特征为,陶瓷电介体基板具有位于第1主面与第1多孔质部之间的第1孔部,陶瓷电介体基板及第1多孔质部中的至少任意一个具有位于第1孔部与第1多孔质部之间的第2孔部,在与从基座板朝向陶瓷电介体基板的第1方向大致正交的第2方向上,第2孔部的尺寸比第1多孔质部的尺寸更小,比第1孔部的尺寸更大。

    静电吸盘以及处理装置

    公开(公告)号:CN115732387A

    公开(公告)日:2023-03-03

    申请号:CN202211003084.5

    申请日:2022-08-19

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种可长期维持电弧放电的抑制效果的静电吸盘以及处理装置。提供一种静电吸盘,具备:接合部,设置在基板与基座板之间;气体导入路,具有位于基板的第1孔部、位于基座板的第2孔部和位于接合部的第3孔部;锪孔部,设置在第1孔部及第2孔部的至少任意一个;及多孔质部,具有向第3孔部露出的露出面且设置在锪孔部,当将从基座板朝向基板的方向作为第1方向时,多孔质部具有:具有透气性的多孔部;及与多孔部相比更致密的致密部,致密部被配置成覆盖多孔部的外周,致密部的至少一部分构成从露出面沿着第1方向朝着第3孔部突出的第1突出部。

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