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公开(公告)号：CN111508884B
公开(公告)日：2024-07-16
申请号：CN201911324485.9
申请日：2019-12-20
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683 , H01L21/67 , H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种静电吸盘，具备：基座板；及陶瓷电解质基板，具有第1主面，其特征在于，所述第1主面至少包含第1区域、第2区域，所述第1主面的所述第1区域设置有多个第1槽、至少1个第1气体导入孔，所述多个第1槽包含：第1边界槽，最靠近于所述第1区域和所述第2区域之间的第1边界而设置，且沿着所述第1边界延伸；及至少1个第1区域内槽，在所述第1主面的所述第2区域中，设置有多个第2槽、至少1个第2气体导入孔，所述多个第2槽包含沿着所述第1边界延伸的第2边界槽，所述第1边界槽和所述第2边界槽之间的槽端部间距离比所述第1边界槽和邻接于所述第1边界槽的所述第1区域内槽之间的槽端部间距离更小。
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公开(公告)号：CN111508885A
公开(公告)日：2020-08-07
申请号：CN201911345382.0
申请日：2019-12-20
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683 , H01L21/67 , H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种静电吸盘，具体而言，具备：基座板；及陶瓷电解质基板，具有第1主面，其特征在于，所述第1主面至少包含第1区域、与所述第1区域邻接的第2区域，在所述第1区域中设置有多个第1槽、与所述多个第1槽的至少1个连接的至少1个第1气体导入孔、在与所述多个第1槽交叉的方向上延伸的至少1个第2槽，所述多个第1槽的各自的平面形状呈大致圆形，且被同心设置，所述第2槽与至少2个所述第1槽连接，在投影到垂直于从所述基座板朝向所述陶瓷电解质基板的第1方向的平面时，在连接所述第1槽和所述第2槽的部分上，所述第1气体导入孔的至少一部分与所述第1槽及所述第2槽的至少任一重叠。
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公开(公告)号：CN119812084A
公开(公告)日：2025-04-11
申请号：CN202410933292.8
申请日：2024-07-12
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683
Abstract: 本发明提供一种静电吸盘，其能够使接合层的杨氏模量的值成为适当的值，能够降低施加到电介体基板的热应力。静电吸盘(10)具备：电介体基板(100)，形成有穿通孔(140)；基座板(200)，由金属材料形成；及接合层(300)，对电介体基板(100)与基座板(200)之间进行接合。当将接合层(300)的杨氏模量作为E(MPa)，将电介体基板100的中心轴(AX0)与穿通孔(140)的中心轴(AX1)之间的距离作为X(mm)时，关于位于最远离中心轴(AX0)的位置的穿通孔(140)，成立E≤0.2063×X2‑59.3887×X+4278.8065。
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公开(公告)号：CN119495623A
公开(公告)日：2025-02-21
申请号：CN202410931587.1
申请日：2024-07-12
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683
Abstract: 本发明提供一种静电吸盘，其能够抑制接合层发生剥离。静电吸盘(10)具备：电介体基板(100)；基座板(200)；及接合层(300)，对电介体基板(100)与基座板(200)之间进行接合。接合层(300)是在树脂310的内部含有多个颗粒状的填充材(320)的层。接合层(300)中，填充材(320)的含量为70重量％以下。
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公开(公告)号：CN119812083A
公开(公告)日：2025-04-11
申请号：CN202410931585.2
申请日：2024-07-12
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683
Abstract: 本发明提供一种静电吸盘，其能够抑制在接合层的附近处发生绝缘破坏。静电吸盘(10)具备：电介体基板(100)；基座板(200)，由金属材料形成；及接合层(300)，对电介体基板(100)与基座板(200)之间进行接合。基座板(200)中的至少与接合层(300)相对的部分被陶瓷膜(231)所覆盖，该陶瓷膜(231)的表面成为被接合面(S)。被接合面(S)满足，第1条件：算术平均高度(Sa)≤1.5μm，第2条件：均方根高度(Sq)≤2.0μm中的至少一个，且满足，第3条件：最大谷深(Sv)≥20.0μm，第4条件：最大高度(Sz)≥20.0μm中的至少一个。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111508885B
公开(公告)日：2025-03-25
申请号：CN201911345382.0
申请日：2019-12-20
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683 , H01L21/67 , H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种静电吸盘，具体而言，具备：基座板；及陶瓷电介质基板，具有第1主面，其特征在于，所述第1主面至少包含第1区域、与所述第1区域邻接的第2区域，在所述第1区域中设置有多个第1槽、与所述多个第1槽的至少1个连接的至少1个第1气体导入孔、在与所述多个第1槽交叉的方向上延伸的至少1个第2槽，所述多个第1槽的各自的平面形状呈大致圆形，且被同心设置，所述第2槽与至少2个所述第1槽连接，在投影到垂直于从所述基座板朝向所述陶瓷电介质基板的第1方向的平面时，在连接所述第1槽和所述第2槽的部分上，所述第1气体导入孔的至少一部分与所述第1槽及所述第2槽的至少任一重叠。
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公开(公告)号：CN118712115A
公开(公告)日：2024-09-27
申请号：CN202410172197.0
申请日：2024-02-07
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683 , H01J37/32
Abstract: 静电吸盘具备：电介体基板，形成有穿通孔；RF电极，被埋入到电介体基板内部；及吸附电极，在比RF电极更靠载放面侧的位置上，被埋入到电介体基板内部。在从垂直于载放面的方向进行观察时，在吸附电极上形成有与上述穿通孔同心且包含上述穿通孔的圆形的第1开口，且在RF电极上形成有与上述穿通孔同心且包含上述穿通孔的圆形的第2开口。第2开口的半径比第1开口的半径更大。
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公开(公告)号：CN118841357A
公开(公告)日：2024-10-25
申请号：CN202410078362.6
申请日：2024-01-19
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683 , B32B9/04 , B32B15/20 , B32B7/12 , B32B3/08 , B32B3/24 , B32B33/00 , C09J183/04
Abstract: 本发明提供一种能够使接合层的厚度及拉伸弹性模量适当化，并能够降低施加在电介体基板上的热应力的静电吸盘。具体而言，静电吸盘(10)具备电介体基板(100)和由金属材料形成的底盘(200)以及被设置在电介体基板(100)和底盘(200)之间的接合层(300)。在使接合层(300)的厚度为T(μm)，使‑100℃下的接合层(300)的拉伸弹性模量为E(MPa)时，满足E≦0.04×T‑0.04的条件。
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公开(公告)号：CN116895590A
公开(公告)日：2023-10-17
申请号：CN202310289661.X
申请日：2023-03-23
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683 , H01L21/67 , H01J37/32 , H01J37/20
Abstract: 本发明的目的在于提供一种静电吸盘，其能够抑制冷媒流路的位置偏离的影响。提供一种静电吸盘，具备：陶瓷电介体基板；及基座板，支撑陶瓷电介体基板，具有陶瓷电介体基板侧的上面和上面相反侧的下面，其特征为，基座板包含设置在上面与下面之间且冷媒可通过的连通路，连通路包含具有沿向第1方向的一对侧面的第1流路部，该第1方向是沿向冷媒的流向的方向，当沿着基座板与陶瓷电介体基板的积层方向上观察时，一对侧面中的一个侧面具有：多个凸部，在垂直于第1方向且从一对侧面中的另一个侧面朝向一个侧面的第2方向上呈凸状；及多个凹部，在第2方向的相反方向上呈凸状，多个凸部与多个凹部交替排列。
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公开(公告)号：CN111508884A
公开(公告)日：2020-08-07
申请号：CN201911324485.9
申请日：2019-12-20
Applicant: TOTO株式会社
IPC: H01L21/683 , H01L21/67 , H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种静电吸盘，具备：基座板；及陶瓷电解质基板，具有第1主面，其特征在于，所述第1主面至少包含第1区域、第2区域，所述第1主面的所述第1区域设置有多个第1槽、至少1个第1气体导入孔，所述多个第1槽包含：第1边界槽，最靠近于所述第1区域和所述第2区域之间的第1边界而设置，且沿着所述第1边界延伸；及至少1个第1区域内槽，在所述第1主面的所述第2区域中，设置有多个第2槽、至少1个第2气体导入孔，所述多个第2槽包含沿着所述第1边界延伸的第2边界槽，所述第1边界槽和所述第2边界槽之间的槽端部间距离比所述第1边界槽和邻接于所述第1边界槽的所述第1区域内槽之间的槽端部间距离更小。
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