LDMOS静电保护器件
    31.
    发明授权

    公开(公告)号:CN108735732B

    公开(公告)日:2021-06-15

    申请号:CN201810540058.3

    申请日:2018-05-30

    Applicant: 湖南大学

    Abstract: 本发明提供一种LDMOS静电保护器件,包括衬底,衬底上设有深N阱,所述深N阱内设有第一P阱和第一N阱,所述第一P阱内设有第一N+注入区、第二N+注入区和第一P+注入区,所述第一N阱内设有第三N+注入区、第二P+注入区和第三P+注入区;所述第二N+注入区、所述第一P阱、所述第一N阱构成第一NPN结构,所述第一P阱、所述第一N阱、所述第三P+注入区构成第一PNP结构,所述第一NPN结构与所述第一PNP结构形成第一SCR路径;所述第一N+注入区、所述第一P阱、所述第二N+注入区构成第二NPN结构,所述第三P+注入区、所述第一N阱、所述第二P+注入区构成第二PNP结构,所述第二NPN结构与所述第二PNP结构形成第二SCR路径。本发明增加了一条SCR路径,提高了静电泄放能力。

    LDMOS静电保护器件
    32.
    发明授权

    公开(公告)号:CN108766964B

    公开(公告)日:2021-06-11

    申请号:CN201810482780.6

    申请日:2018-05-18

    Applicant: 湖南大学

    Abstract: 本发明提供一种LDMOS静电保护器件,包括衬底,衬底上设有深N阱,深N阱内从左到右依次设有第一P阱、第三N+注入区、第三P+注入区和第四N+注入区,第一P阱内从左到右依次设有第一P+注入区、第一N+注入区、第二N+注入区和第二P+注入区;第二N+注入区和第二P+注入区互相连接;第一P+注入区、第一N+注入区连接阴极;第三P+注入区、第四N+注入区连接阳极,第三P+注入区、深N阱、第一P阱构成第一PNP型晶体管;深N阱、第一P阱、第一N+注入区构成第一NPN型晶体管;第二N+注入区、第一P阱、第一N+注入区构成第二NPN型晶体管。本发明能够在不牺牲SCR结构较强泄放电流能力的同时提高维持电压,避免LDMOS器件发生闩锁,维持鲁棒性。

    LDMOS-SCR结构的ESD保护器件
    34.
    发明授权

    公开(公告)号:CN109300895B

    公开(公告)日:2020-10-20

    申请号:CN201811162798.4

    申请日:2018-09-30

    Applicant: 湖南大学

    Abstract: 一种LDMOS‑SCR结构的ESD保护器件,主要由衬底P‑SUB、第一NWD、第二NWD和P阱、第一N+注入区、第一P+注入区、第二P+注入区、第二N+注入区、第三P+注入区、第一栅氧、第一多晶硅栅、第一场氧、第二栅氧、第二多晶硅栅、第二场氧、第一场氧隔离区、第二场氧隔离区、第三场氧隔离区、第四场氧隔离区和第五场氧隔离区构成,P阱和第二P+注入区为环形。本发明通过形成一条泄放电流的路径来削弱LDMOS‑SCR结构的正反馈,以此来抬高静电防护应用中的LDMOS‑SCR结构的维持电压。

    一种能源转换器件
    35.
    发明授权

    公开(公告)号:CN109166941B

    公开(公告)日:2020-07-24

    申请号:CN201810388951.9

    申请日:2018-04-26

    Applicant: 湖南大学

    Abstract: 本发明提供了一种能源转换器件,具有衬底,在衬底上形成电极3,在电极3上形成介电层,在介电层上分别形成电极1和电极2,在电极1和2以及介电层上形成半导体层,其中电极1与所述半导体层形成欧姆接触,电极2与所述半导体层形成肖特基接触,在衬底硅电极3与电极1之间施加交流信号,在电极1和电极2之间就会形成稳定的直流输出,该能源转换器件不仅制备工艺简单,而且可以收集具有任意幅值的电磁波信号用于转化成直流电,并且无衰减,能长期工作,工艺性能稳定。

    静电保护器件
    36.
    发明授权

    公开(公告)号:CN108649028B

    公开(公告)日:2020-06-30

    申请号:CN201810496599.0

    申请日:2018-05-22

    Applicant: 湖南大学

    Abstract: 本发明提供一种静电保护器件,包括衬底、在衬底内设有深N阱,在深N阱内设有第一P阱、第二N+注入区、第二P+注入区、第三P+注入区、第四P+注入区、第三N+注入区以及第二P阱,第一P阱内设有第一P+注入区以及第一N+注入区,第二P阱内设有第四N+注入区以及第五P+注入区,第三P+注入区与阳极相连,第一P+注入区和第五P+注入区均与阴极相连,第二多晶硅栅和第三多晶硅栅均与栅极相连。本发明提出的静电保护器件,可有效降低触发电压,提高静电泄放电流能力,满足高压功率集成电路的鲁棒性要求。

    一种抗单粒子加固的分频器电路

    公开(公告)号:CN108418578B

    公开(公告)日:2020-06-30

    申请号:CN201810176140.2

    申请日:2018-03-02

    Applicant: 湖南大学

    Inventor: 陈卓俊 胡袁源

    Abstract: 本发明适用于分频器技术领域,提供了一种抗单粒子加固的分频器电路。该分频器包括:加固的D触发器和加固的与非门。相较于现有技术,本发明通过对时序逻辑电路和组合逻辑电路进行加固,提高了分频器电路的抗单粒子效应能力。D触发器包括时钟输入电路、DCVSL型主锁存器、DCVSL型从锁存器、Quatro型数据存储单元和Muller‑C型输出缓冲单元,其中DCVSL型主锁存器、DCVSL型从锁存器和Muller‑C型输出缓冲单元均采用双模冗余加固,从而提高时序逻辑电路的抗单粒子翻转效应。与非门采用差分串联电压开关逻辑结构进行加固,提高组合逻辑电路的抗单粒子瞬态效应。本发明具有高共模抑制比、抗单粒子效应等优点。

    可控硅静电保护器件
    38.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109411468A

    公开(公告)日:2019-03-01

    申请号:CN201811253429.6

    申请日:2018-10-25

    Applicant: 湖南大学

    Abstract: 本发明提供一种可控硅静电保护器件,包括衬底、埋氧层、N阱以及P阱,在N阱内设有第一P+注入区、第一多晶硅栅、第二P+注入区以及第四N+注入区,在P阱内设有第一N+注入区、第二多晶硅栅、第二N+注入区以及第四P+注入区,第三P+注入区与第三N+注入区跨接在N阱与P阱之间的交界处,第一P+注入区与阳极相连,第一N+注入区与阴极相连,第一P+注入区、第一多晶硅栅、第二P+注入区与N阱构成PMOS管,第一N+注入区、第二多晶硅栅、第二N+注入区与P阱构成NMOS管。本发明具有低触发电压、高维持电压、结构简单、易于集成以及鲁棒性高等优点,适用于器件以及电路的静电保护。

    静电保护器件
    39.
    发明公开

    公开(公告)号:CN108807370A

    公开(公告)日:2018-11-13

    申请号:CN201810502074.3

    申请日:2018-05-23

    Applicant: 湖南大学

    CPC classification number: H01L27/0259

    Abstract: 本发明提供一种静电保护器件,包括衬底、在所述衬底内设有深N阱,在深N阱内从左到右依次设有第一N阱、第一P阱以及第二N阱,第一N阱内从左到右依次设有第一N+注入区以及第一P+注入区,第一P阱内依次设有第二N+注入区、第二P+注入区以及第三N+注入区,第二N阱内依次设有第三P+注入区以及第四N+注入区,第一N+注入区以及第一P+注入区均与阳极相连,第三P+注入区以及第四N+注入区均与阴极相连,静电保护器件的形状为轴对称的八边形。本发明提出的静电保护器件,可提高维持电压,增强ESD鲁棒性。

    一种提升单粒子烧毁阈值的LDMOS器件

    公开(公告)号:CN118263327A

    公开(公告)日:2024-06-28

    申请号:CN202410552325.4

    申请日:2024-05-06

    Applicant: 湖南大学

    Inventor: 陈卓俊 徐江

    Abstract: 本发明提出一种提升单粒子烧毁阈值的LDMOS器件,包括衬底P‑SUB和在衬底P‑SUB上部依次设置的第一P阱、第一N阱和第二P+注入区,第一P阱上设置有第一P+注入区和第一N+注入区,第一P+注入区和第一N+注入区之间设置有第一P‑柱注入区,第二P+注入区一侧设置有第二P‑柱注入区,在第一P‑柱注入区和第二P‑柱注入区尾部向其相向面方向延伸分别设置有第三埋层P‑BL和第四埋层P‑BL,第一P‑柱注入区与第三埋层P‑BL构成第一L型非子收集网区,第二P‑柱注入区与第四埋层P‑BL构成第二L型非子收集网区。本发明通过两个L型非子收集网区来新增泄放非平衡载流子的路径,新增第一P‑柱注入区来降低寄生基区的电阻,抑制LDMOS中寄生三极管发射结导通,提高LDMOS的单粒子烧毁阈值电压。

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