一种非入侵式电缆防挖断监测装置及方法

    公开(公告)号:CN112803341A

    公开(公告)日:2021-05-14

    申请号:CN202011633333.X

    申请日:2020-12-31

    Abstract: 本发明涉及供电线缆运维技术领域,具体涉及一种非入侵式电缆防挖断监测装置及方法,包括振动传感器组、控制器、存储器、通信模块和服务器,振动传感器组埋设在电缆易被挖断处附近靠近地表处,检测所在位置的地面振动,控制器、存储器及通信模块均安装在电缆易被挖断处最近的电缆桩内,电缆桩内设有空腔,检测振动传感器、存储器以及通信模块均与控制器连接,通信模块与服务器通信连接,存储器存储有振动传感器组的编号和位置信息。本发明的实质性效果是:通过振动传感器组不能能够获得路面施工的振动信息,还能判断施工是否在电缆区域内,进而不仅能够在路面施工可能挖断电缆前发出预警,还能够有效避免误报。

    一种基于雾计算与区块链的智慧能源调度系统及方法

    公开(公告)号:CN111369144A

    公开(公告)日:2020-07-03

    申请号:CN202010142352.6

    申请日:2020-03-04

    Applicant: 浙江大学

    Abstract: 本发明公开了一种基于雾计算与区块链的智慧能源调度系统及方法,本发明在智慧能源调度系统中引入雾计算和侧链技术,后者用于搭建区块链底层框架,前者在侧链内执行局部数据处理与小规模计算;本发明可提升主链的处理效率,减少故障响应延迟,保证专家库中的规则真实可靠、未被篡改,辅助定责,在技术上更好地落实“三公”调度的要求。

    一种耐高温双用途晶控仪
    36.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110205600A

    公开(公告)日:2019-09-06

    申请号:CN201910598742.1

    申请日:2019-07-04

    Inventor: 冯斌 金浩 王德苗

    Abstract: 本发明公开了一种耐高温双用途晶控仪,包括于真空室内与衬底支架相连的石英片载台、置于真空室内与石英片载台连接的射频接线座和置于真空室外的晶控主机,所述石英片载台包括相对的上载台和下载台,分别用于放置一片石英晶片,所述上载台石英晶片其中一面以适当面积正对镀膜方向裸露,所述下载台石英晶片置于镀膜方向的反方向,且只通过少量通气孔暴露于外面,使其在镀膜时不会被沉积上薄膜,所述上载台和所述下载台之间良好导热。本装置可在高温镀膜环境下应用,无需水冷装置,一方面消除了镀膜阴影,降低了漏气漏水概率,另一方面也便于晶片载台和射频接线座的设计和制作,且结构小巧,制作成本低,同时该晶控仪可以在镀膜时实时测量膜厚和温度。

    一种应用于柱形旋转靶的挡板组件

    公开(公告)号:CN107779830A

    公开(公告)日:2018-03-09

    申请号:CN201711096028.X

    申请日:2017-11-09

    CPC classification number: C23C14/3407 C23C14/3464

    Abstract: 本发明公开了一种应用于柱形旋转靶的挡板组件,包括自由环、半圆环挡板、连轴环、环状压板、轴承和滚珠;自由环呈U型,其外侧部上对称设置有两个限位件;半圆环挡板与自由环的底端相连;连轴环呈U型,设于自由环内部,包括圆环状的底部和环状凸起部;环状压板和轴承均套设在连轴环的环状凸起部外侧,环状压板通过外侧套设有弹性件的螺杆与自由环相连;连轴环的圆环状的底部的底表面与自由环的圆环状的底部的顶表面的对应位置处均设有环形凹槽,环形凹槽上设有球形凹坑,滚珠设于环形凹槽或者球形凹坑内。本发明无需使用单独配套的电机或者气缸等驱动装置,同时无需使用单独配套的真空腔体开孔结构和轴封结构,能够减少故障点的同时降低挡板的制作成本。

    一种用于气相沉积镀膜的掩膜夹具

    公开(公告)号:CN105908124A

    公开(公告)日:2016-08-31

    申请号:CN201610522031.2

    申请日:2016-07-05

    CPC classification number: C23C14/042 C23C16/042

    Abstract: 本发明公开了一种用于气相沉积镀膜的掩膜夹具,包括上掩膜板、下掩膜板和被上下掩膜板夹于中间的弹性板;所述上掩膜板和下掩膜板上均设置有所需镀膜形状的掩膜开孔、第一紧固孔、第一定位孔;所述弹性板上设置有弹性机构、与上掩膜板和下掩膜板配合使用的第二紧固孔和第二定位孔;所述弹性机构包括第一半岛形结构和第二半岛形结构,第一半岛形结构和第二半岛形结构的形状为任意互补配合的几何形状,并分别向弹性机构平面的上下面翘起。本发明可以低成本地实现样品的一个需镀膜表面与掩膜板掩膜开孔边缘紧贴,以防止气相沉积过程中沉积粒子进入不需要镀膜的遮掩部分,从而提高镀膜产品的品质。

    柔性衬底上室温反应溅射沉积氮化铝压电薄膜的方法

    公开(公告)号:CN102383095A

    公开(公告)日:2012-03-21

    申请号:CN201110345284.4

    申请日:2011-11-04

    Abstract: 本发明属于电子材料技术领域,特别是涉及一种柔性衬底上室温反应溅射沉积氮化铝压电薄膜的方法;其特征在于,包括以下步骤:清洗柔性衬底;抽真空;制备底金属层;充入工作气体;接通衬底冷却装置;紫外线在线辐照并反应溅射制备氮化铝压电薄膜;该方法的特点是衬底为柔性材料,制备的氮化铝压电薄膜可弯曲,膜层致密,不脱落,高c轴择优取向,并且具有制造工艺简单、可卷绕式(roll-to-roll)连续化生产、成本低廉的优点。

    同端进出式连续溅射镀膜设备

    公开(公告)号:CN102181839A

    公开(公告)日:2011-09-14

    申请号:CN201110149168.5

    申请日:2011-06-03

    Applicant: 浙江大学

    Abstract: 本发明涉及一种同端进出式连续溅射镀膜设备,它包括真空腔体和真空抽气装置,所述真空抽气装置与真空腔体相连通,其特征在于所述真空腔体由相邻且相通的预抽室和溅射室两个真空室构成,两个真空室之间设有隔离阀,腔体的末端和前端分别设有盲法兰和真空锁阀,所述真空锁阀外侧设有一个装卸片台,在溅射室内设置有工件架传输装置,在预抽室内装有复合传输装置,所述溅射室内装有至少三对相对布置的磁控溅射靶,所述工件架传输装置能够与工件架相配合;具有结构紧凑、占地面积小,需要的超净区域少、吞吐量大,能耗低、膜层质量好等优点。

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