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公开(公告)号：CN106103805B
公开(公告)日：2018-03-09
申请号：CN201580013302.5
申请日：2015-09-09
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: C25B11/03 , C02F1/46109 , C02F1/4672 , C02F1/4674 , C02F2001/46157 , C02F2001/4619 , C02F2201/46115 , C25B9/08
Abstract: 根据实施方式，电解装置(10)的电解槽具备第1电极、隔膜及第2电极。第1电极(14)具有与隔膜对置的第1表面(17a)、位于第1表面的相反侧的第2表面(17b)、在第1表面上以第1图案形成的第1凹陷部(42)、及在第2表面及第1凹陷部分别开口的多个贯通孔。
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公开(公告)号：CN106661743A
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201580043891.1
申请日：2015-03-04
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 根据实施方式，电解装置的电极单元(12)具备：第1电极(20)，其具有第1表面(21a)、位于该第1表面的相反侧的第2表面(21b)、和分别在第1表面及第2表面开口的多个贯通孔(13)；第2电极(22)，其与第1电极的第1表面相对地设置；和多孔质膜(24)，其形成于第1电极的第1表面上，覆盖第1表面及贯通孔，并含有无机氧化物。
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公开(公告)号：CN103357241A
公开(公告)日：2013-10-23
申请号：CN201310063080.0
申请日：2013-02-28
Applicant: 株式会社东芝
Abstract: 本发明为减氧装置、冰箱、减氧装置的驱动系统和冰箱的驱动系统。实施方式涉及的发明的目的是提供耐疲劳性优异的减氧装置。实施方式的减氧装置的特征为，具有能密闭的容器、在上述容器上开口的闸门、至少包含氧吸附释放材料的在上述容器中具备的氧吸收释放部，和至少对上述氧吸收释放部进行加热的调温部。
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公开(公告)号：CN100446090C
公开(公告)日：2008-12-24
申请号：CN200610094230.4
申请日：2006-06-27
IPC: G11B5/84 , H01L21/3065
CPC classification number: C23F4/00 , B82Y10/00 , G11B5/012 , G11B5/743 , G11B5/82 , G11B5/855 , H01J2237/30466 , H01J2237/3174
Abstract: 一种用于制造磁记录介质的方法，该方法包括：在基底(15，35，51，61)上的记录磁道部分以及伺服部分上形成具有铁磁性材料(54，64)的凸起和凹陷的图形；在该铁磁性材料(54，64)上形成平化膜(56，66)，该平化膜的顶表面高于铁磁性材料(54，64)的凸起的顶表面；以及在该平化膜(56，66)上进行离子束蚀刻直到铁磁性材料(54，64)的凸起的顶表面，并且通过离子计数器(13，33)基于入射颗粒的总数的变化来确定平化蚀刻的终点，该离子计数器被安装成根据平化膜(56，66)的材料相对于基底(15，35，51，61)的垂直方向成角度θ。
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公开(公告)号：CN1892833A
公开(公告)日：2007-01-10
申请号：CN200610094230.4
申请日：2006-06-27
IPC: G11B5/84 , H01L21/3065
CPC classification number: C23F4/00 , B82Y10/00 , G11B5/012 , G11B5/743 , G11B5/82 , G11B5/855 , H01J2237/30466 , H01J2237/3174
Abstract: 一种用于制造磁记录介质的方法，该方法包括：在基底(15，35，51，61)上的记录磁道部分以及伺服部分上形成具有铁磁性材料(54，64)的凸起和凹陷的图形；在该铁磁性材料(54，64)上形成平化膜(56，66)，该平化膜的顶表面高于铁磁性材料(54，64)的凸起的顶表面；以及在该平化膜(56，66)上进行离子束蚀刻直到铁磁性材料(54，64)的凸起的顶表面，并且通过离子计数器(13，33)基于入射颗粒的总数的变化来确定平化蚀刻的终点，该离子计数器被安装成根据平化膜(56，66)的材料相对于基底(15，35，51，61)的垂直方向成角度θ。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119768899A
公开(公告)日：2025-04-04
申请号：CN202380061904.2
申请日：2023-03-08
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝能源系统株式会社
IPC: H01L21/368 , H01L21/208
Abstract: 根据实施方式，提供一种能够形成均匀的涂布膜的、用于通过弯月面法来形成涂布膜的涂布装置和涂布方法。该涂布装置具备：涂布棒；基材输送部件，输送所述基材；多个喷嘴，向所述涂布棒的表面供给所述涂布液；以及涂布液供给部件，向所述喷嘴供给所述涂布液，在所述喷嘴各自的上游侧具备涂布液供给量调整部件，所述涂布液供给量调整部件调整向所述喷嘴供给的涂布液的供给量。
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公开(公告)号：CN119744203A
公开(公告)日：2025-04-01
申请号：CN202380061041.9
申请日：2023-03-08
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝能源系统株式会社
Abstract: 根据实施方式，提供涂敷头、涂敷装置以及涂敷方法，能够形成均匀的涂敷膜且用于通过狭缝涂敷来形成涂敷膜。该涂敷头具备：歧管，在内部暂时存积涂敷液；狭缝，排出存积在上述歧管内的涂敷液；以及多个涂敷液供给口，向上述歧管导入涂敷液，上述歧管具有柱状形状，与上述涂敷头的长度方向大致平行地配置在上述涂敷头的内部，在上述歧管的长度方向的两端配置有上述多个涂敷液供给口。
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公开(公告)号：CN119731773A
公开(公告)日：2025-03-28
申请号：CN202380059793.1
申请日：2023-03-08
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝能源系统株式会社
IPC: H01L21/368 , H01L21/208
Abstract: 根据实施方式，提供一种能够形成均匀的涂布膜的涂布装置及涂布方法。该涂布装置(100)具备涂布杆、搬送基材的基材搬送部件和向所述涂布杆供给涂布液的涂布液供给部件。并且，在所述涂布杆的涂布下游还具备均匀化杆，所述均匀化杆配置于使所述涂布液在所述均匀化杆与所述基材之间形成弯液面的位置。
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公开(公告)号：CN115997281A
公开(公告)日：2023-04-21
申请号：CN202180050684.4
申请日：2021-08-19
Applicant: 株式会社东芝 , 东芝能源系统株式会社
IPC: H01L21/768
Abstract: 本发明提供一种能够得到稳定特性的导电部件、电子装置以及导电部件的制造方法。根据实施方式，导电部件包括：包括金属纳米线的第1层、包括聚噻吩部件的第2层、以及包括含有石墨烯骨架的石墨烯部件的第3层。所述第2层设置在所述金属纳米线与所述第3层之间。
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公开(公告)号：CN115569648A
公开(公告)日：2023-01-06
申请号：CN202211426631.0
申请日：2019-09-12
Applicant: 株式会社东芝
IPC: B01J23/652 , B01J23/60 , B01J23/50 , B01J23/648 , B01J23/62 , B01J37/02 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , A01N59/16 , A01P1/00 , B01D53/86 , B01D53/72 , B01D53/58 , C02F1/30
Abstract: 本发明提供高活性且能够简便地制作且不易剥离的光催化剂复合材料、其制作方法及光催化剂装置。一种光催化剂复合材料，其包含基材和由光催化剂粒子形成的光催化剂层，与基材表面相接的光催化剂层的平均粒径小于光催化剂层表面的平均粒径。
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