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公开(公告)号：CN111300261B
公开(公告)日：2022-03-29
申请号：CN202010106777.1
申请日：2014-10-22
Applicant: 应用材料公司
IPC: B24B37/22 , B24B37/24 , B29C64/20 , B29C64/209 , B29C64/393 , B29C64/314 , B33Y30/00 , B33Y40/10 , B33Y50/02
Abstract: 一种制造抛光垫的抛光层的方法包括以下步骤：确定将嵌入在所述抛光层的聚合物母体内的颗粒的期望的分布。利用3D打印机相继地沉积所述聚合物母体的多个层，所述聚合物母体的所述多个层中的每一个层通过从喷嘴喷出聚合物母体前体来沉积。根据所述期望的分布、利用所述3D打印机来相继地沉积所述颗粒的多个层。使聚合物母体前体凝固成具有以所述期望的分布嵌入的颗粒的聚合物母体。
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公开(公告)号：CN110142687B
公开(公告)日：2021-05-25
申请号：CN201910516558.8
申请日：2015-10-16
Applicant: 应用材料公司
Inventor： R·巴贾杰 , D·莱德菲尔德 , M·C·奥里拉利 , B·福 , A·J·康纳 , J·G·方 , M·科尔内霍 , A·乔卡里汉 , M·F·雅玛木拉 , R·卡基雷迪 , A·库马 , V·哈里哈兰 , G·E·蒙柯 , F·C·雷德克 , N·B·帕蒂班德拉 , H·T·恩古 , R·达文波特 , A·辛哈
Abstract: 本公开的实施例是关于具有可调谐化学特性、材料特性及结构特性的高级研磨垫，及制造所述研磨垫的新方法。根据本公开的一或多个实施例，已发现具有改善特性的研磨垫可由诸如三维(3D)打印工艺的积层制造工艺来产生。因此，本公开的实施例可提供具有离散特征及几何形状、由至少两种不同材料形成的高级研磨垫，所述不同材料包括官能性聚合物、官能性寡聚物、反应性稀释剂及固化剂。举例而言，该高级研磨垫可通过自动化依序沉积至少一种树脂前体组成物，随后以至少一个固化步骤而由多个聚合物层形成，其中各层可表示至少一种聚合物组成物和/或不同组成物的区域。
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公开(公告)号：CN112088069A
公开(公告)日：2020-12-15
申请号：CN201980030585.2
申请日：2019-04-04
Applicant: 应用材料公司
IPC: B24B37/22 , B24B37/24 , B29C64/112 , B33Y10/00 , B33Y70/10
Abstract: 在一个实施方式中，提供了一种形成多孔抛光垫的方法。所述方法包含用3D打印机沉积多个复合层以达到目标厚度。沉积多个复合层包含将可固化树脂前驱物组成物的一个或多个液滴分配到支撑件上。沉积多个复合层进一步包含将孔隙度形成组成物的一个或多个液滴分配到支撑件上，其中孔隙度形成组成物的至少一种成分是可移除的，以在多孔抛光垫中形成孔。
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公开(公告)号：CN107107306B
公开(公告)日：2020-11-06
申请号：CN201580069624.1
申请日：2015-10-19
Applicant: 应用材料公司
Inventor： R·巴贾杰 , D·莱德菲尔德 , M·C·奥里拉利 , B·付 , A·J·康纳 , J·G·方 , M·科尔内霍 , A·乔卡里汉 , M·F·雅玛木拉 , R·卡基雷迪 , A·库马 , V·哈里哈兰 , G·E·蒙克 , F·C·雷德克 , N·B·帕蒂班德拉 , H·T·恩古 , R·达文波特 , A·辛哈
Abstract: 本公开的实施例是关于具有可调谐化学特性、材料特性及结构特性的高级研磨垫，及制造所述研磨垫的新方法。根据本公开的一或多个实施例，已发现具有改善特性的研磨垫可由诸如三维(3D)打印工艺的积层制造工艺来产生。因此，本公开的实施例可提供具有离散特征及几何形状、由至少两种不同材料形成的高级研磨垫，所述不同材料包括官能性聚合物、官能性寡聚物、反应性稀释剂及固化剂。举例而言，该高级研磨垫可通过自动化依序沉积至少一种树脂前体组成物，随后以至少一个固化步骤而由多个聚合物层形成，其中各层可表示至少一种聚合物组成物和/或不同组成物的区域。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111633556A
公开(公告)日：2020-09-08
申请号：CN202010532089.1
申请日：2015-10-16
Applicant: 应用材料公司
Inventor： R·巴贾杰 , D·莱德菲尔德 , M·C·奥里拉利 , B·福 , A·J·康纳 , J·G·方 , M·科尔内霍 , A·乔卡里汉 , M·F·雅玛木拉 , R·卡基雷迪 , A·库马 , V·哈里哈兰 , G·E·蒙柯 , F·C·雷德克 , N·B·帕蒂班德拉 , H·T·恩古 , R·达文波特 , A·辛哈
Abstract: 本公开的实施例是关于具有可调谐化学特性、材料特性及结构特性的高级研磨垫，及制造所述研磨垫的新方法。根据本公开的一或多个实施例，已发现具有改善特性的研磨垫可由诸如三维(3D)打印工艺的积层制造工艺来产生。因此，本公开的实施例可提供具有离散特征及几何形状、由至少两种不同材料形成的高级研磨垫，所述不同材料包括官能性聚合物、官能性寡聚物、反应性稀释剂及固化剂。举例而言，该高级研磨垫可通过自动化依序沉积至少一种树脂前体组成物，随后以至少一个固化步骤而由多个聚合物层形成，其中各层可表示至少一种聚合物组成物和/或不同组成物的区域。
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公开(公告)号：CN111633555A
公开(公告)日：2020-09-08
申请号：CN202010531656.1
申请日：2015-10-16
Applicant: 应用材料公司
Inventor： R·巴贾杰 , D·莱德菲尔德 , M·C·奥里拉利 , B·福 , A·J·康纳 , J·G·方 , M·科尔内霍 , A·乔卡里汉 , M·F·雅玛木拉 , R·卡基雷迪 , A·库马 , V·哈里哈兰 , G·E·蒙柯 , F·C·雷德克 , N·B·帕蒂班德拉 , H·T·恩古 , R·达文波特 , A·辛哈
Abstract: 本公开的实施例是关于具有可调谐化学特性、材料特性及结构特性的高级研磨垫，及制造所述研磨垫的新方法。根据本公开的一或多个实施例，已发现具有改善特性的研磨垫可由诸如三维(3D)打印工艺的积层制造工艺来产生。因此，本公开的实施例可提供具有离散特征及几何形状、由至少两种不同材料形成的高级研磨垫，所述不同材料包括官能性聚合物、官能性寡聚物、反应性稀释剂及固化剂。举例而言，该高级研磨垫可通过自动化依序沉积至少一种树脂前体组成物，随后以至少一个固化步骤而由多个聚合物层形成，其中各层可表示至少一种聚合物组成物和/或不同组成物的区域。
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公开(公告)号：CN111633554A
公开(公告)日：2020-09-08
申请号：CN202010531179.9
申请日：2015-10-16
Applicant: 应用材料公司
Inventor： R·巴贾杰 , D·莱德菲尔德 , M·C·奥里拉利 , B·福 , A·J·康纳 , J·G·方 , M·科尔内霍 , A·乔卡里汉 , M·F·雅玛木拉 , R·卡基雷迪 , A·库马 , V·哈里哈兰 , G·E·蒙柯 , F·C·雷德克 , N·B·帕蒂班德拉 , H·T·恩古 , R·达文波特 , A·辛哈
Abstract: 本公开的实施例是关于具有可调谐化学特性、材料特性及结构特性的高级研磨垫，及制造所述研磨垫的新方法。根据本公开的一或多个实施例，已发现具有改善特性的研磨垫可由诸如三维(3D)打印工艺的积层制造工艺来产生。因此，本公开的实施例可提供具有离散特征及几何形状、由至少两种不同材料形成的高级研磨垫，所述不同材料包括官能性聚合物、官能性寡聚物、反应性稀释剂及固化剂。举例而言，该高级研磨垫可通过自动化依序沉积至少一种树脂前体组成物，随后以至少一个固化步骤而由多个聚合物层形成，其中各层可表示至少一种聚合物组成物和/或不同组成物的区域。
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公开(公告)号：CN110997236A
公开(公告)日：2020-04-10
申请号：CN201880051442.5
申请日：2018-07-24
Applicant: 应用材料公司
Inventor： A·库马 , A·乔卡里汉 , S·嘎纳帕西亚潘 , R·巴贾杰 , 傅博诣 , D·莱德菲尔德 , N·B·帕蒂班德拉 , M·D·科尔内霍 , A·辛哈 , Y·赵 , R·R·阿内帕利 , F·C·雷德克
Abstract: 本文所述的实施例涉及整合研磨(IA)抛光垫，以及制造IA抛光垫的方法，所述方法在增材制造工艺(诸如3D喷墨打印工艺)中至少部分使用表面官能化的研磨颗粒。在一个实施例中，形成抛光制品的方法包括：分配第一前驱物的第一多个液滴；固化所述第一多个液滴以形成第一层，所述第一层包括子抛光元件的一部分；将所述第一前驱物及第二前驱物的第二多个液滴分配至所述第一层上；以及固化所述第二多个液滴以形成第二层，所述第二层包括所述子抛光元件的部分与多个抛光元件的部分。在此，所述第二前驱物包括官能化的研磨颗粒，所述官能化的研磨颗粒具有化学结合至所述官能化的研磨颗粒的表面的可聚合基团。
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公开(公告)号：CN107267962A
公开(公告)日：2017-10-20
申请号：CN201710525409.9
申请日：2013-01-31
Applicant: 应用材料公司
IPC: C23C16/455 , C23C16/458 , C23C16/54
Abstract: 提供一种用于处理多个基板的基板处理系统及方法，且该基板处理系统大体上包括至少一个基板处理平台以及至少一个基板储备平台。该基板处理平台包括旋转轨道系统，该旋转轨道系统能够支撑多个基板支撑组件，且能够连续地旋转该等基板支撑组件，每一基板支撑组件上搭载基板。每一基板定位在配置于旋转轨道系统上的基板支撑组件上，且透过至少一个喷头站与至少一个缓冲站受处理，该至少一个喷头站与至少一个缓冲站定位在该基板处理平台的该旋转轨道系统顶上。配置在该等基板支撑组件上的多个基板进出该基板处理平台而受处理。该基板储备平台包括至少一个双基板处理站，每一双基板处理站包括两个基板支撑组件，以在该等基板支撑组件上支撑两个基板。
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