一种磁栅式光纤光栅大量程位移传感器

    公开(公告)号:CN117722957B

    公开(公告)日:2024-06-04

    申请号:CN202311573239.3

    申请日:2023-11-22

    Abstract: 本发明提供了一种磁栅式光纤光栅大量程位移传感器,包括:第一磁探头、第二磁探头和磁栅尺;第一磁探头包括第一等强度梁、第一光栅光纤和第一永磁体;第一等强度梁的自由端固定第一永磁体;第二磁探头包括第二等强度梁、第二光栅光纤和第二永磁体;第二等强度梁的自由端固定所述第二永磁体;第一永磁体的磁极与第二永磁体的磁极同向布置;磁栅尺包括等间距阵列的多个磁栅永磁体,并且相邻两个磁栅永磁体的磁极反向布置;第一永磁体和第二永磁体之间的间距L满足如下关系:L=(m±1/4)τ,其中,m为正整数,τ为相邻两个同向布置的所述磁栅永磁体的间距。本发明提高实现了温度解耦控制,实现大量程的位移精确测量。

    一种用于三维重构的软体操作器
    35.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115708719A

    公开(公告)日:2023-02-24

    申请号:CN202211341508.9

    申请日:2022-10-28

    Abstract: 本发明提供了一种用于三维重构的软体操作器包括,圆柱形结构的软体载体,所述软体载体内以螺旋的方式嵌入光纤,所述光纤上刻有光栅阵列;所述软体载体内部贯穿所述软体载体开设第一通孔,以及围绕所述第一通孔开设的第二通孔,所述第一通孔为圆形通孔,所述第二通孔为半圆形通孔。本发明在操作器内布设螺旋光纤光栅进行形状反馈,在操作器外布设镍钛记忆合金导丝约束最大弯曲角度,解决了直线型光纤伸缩弯曲形变范围小的问题,满足微创手术软体操作器大伸缩和各向弯曲形变时的测量需求,并且可以防止气压输入故障时操作器的弯曲扭转出现变故。

    基于榫卯结构的耐辐照传感器无胶化装配封装方法

    公开(公告)号:CN120065408A

    公开(公告)日:2025-05-30

    申请号:CN202510217430.7

    申请日:2025-02-26

    Abstract: 本发明涉及光纤传感技术领域,公开了基于榫卯结构的耐辐照传感器无胶化装配封装方法,包括以下步骤:步骤一,对待封装的光纤光栅用无水酒精擦拭,去除浮尘及碎屑,将光纤光栅放入装有去离子水的超声波清洗仪中进行清洗,清洗完成后使用氮气吹干,步骤二,将封装结构下装配体固定在封装固定系统上,将光纤光栅放置于下装配体与上装配体之间预留的光纤槽自锁结构上,且使光纤光栅位于下装配体正中央。通过采用全金属钽封装结构,通过榫卯机械互锁和无胶化密封设计,彻底避免胶体老化、蠕变导致的监测失效,显著延长传感器在辐射环境下的使用寿命,同时彻底避免胶体老化、蠕变导致的监测失效,显著延长传感器在辐射环境下的使用寿命。

    纳米线超构表面结构的中波多光谱成像器件及其制备方法

    公开(公告)号:CN117782317B

    公开(公告)日:2024-09-24

    申请号:CN202311810577.4

    申请日:2023-12-26

    Abstract: 本发明提供了一种基于纳米线超构表面结构的中波多光谱成像器件包括介质基底层,以及在介质基底层上制备的介质缓冲层;在介质缓冲层上沉积GaN/AlN纳米线;GaN/AlN纳米线的一端为GaN,GaN/AlN纳米线的另一端为AlN,GaN/AlN纳米线的中间段为Al0.4Ga0.6N;GaN/AlN纳米线中N元素的浓度为50%,Ga元素和Al元素沿GaN/AlN纳米线长度逐渐改变,并且Ga元素和Al元素的浓度互补;在介质缓冲层上沉积多个阵列的电极,电极与GaN/AlN纳米线接触。本发明通过在Si/SiO2衬底上生长GaN/AlN纳米线,使用电子束光刻在纳米线上制造平行的In/Au电极阵列,最后沉积Al2O3钝化层。使用这种结构,结合正则化算法即可完成对入射光线光谱的重建,舍弃了传统成像系统中复杂沉重臃肿的色散聚焦等器件,实现了小型化、轻量化。

    纳米线超构表面结构的中波多光谱成像器件及其制备方法

    公开(公告)号:CN117782317A

    公开(公告)日:2024-03-29

    申请号:CN202311810577.4

    申请日:2023-12-26

    Abstract: 本发明提供了一种基于纳米线超构表面结构的中波多光谱成像器件包括介质基底层,以及在介质基底层上制备的介质缓冲层;在介质缓冲层上沉积GaN/AlN纳米线;GaN/AlN纳米线的一端为GaN,GaN/AlN纳米线的另一端为AlN,GaN/AlN纳米线的中间段为Al0.4Ga0.6N;GaN/AlN纳米线中N元素的浓度为50%,Ga元素和Al元素沿GaN/AlN纳米线长度逐渐改变,并且Ga元素和Al元素的浓度互补;在介质缓冲层上沉积多个阵列的电极,电极与GaN/AlN纳米线接触。本发明通过在Si/SiO2衬底上生长GaN/AlN纳米线,使用电子束光刻在纳米线上制造平行的In/Au电极阵列,最后沉积Al2O3钝化层。使用这种结构,结合正则化算法即可完成对入射光线光谱的重建,舍弃了传统成像系统中复杂沉重臃肿的色散聚焦等器件,实现了小型化、轻量化。

Patent Agency Ranking