公开(公告)号：CN102081304B

公开(公告)日：2013-03-20

申请号：CN201010559623.4

申请日：2010-11-23

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 田中启顺 ,  增永惠一 ,  土门大将 ,  渡边聪

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/00 ,  G03F1/48

CPC classification number: G03F7/0382 ,  G03F7/0045

Abstract: 本发明是一种负型光阻组合物，其特征在于：基础树脂至少含有由下述通式(1)及(2)所表示的重复单元，且重量平均分子量为1,000～10,000，作为碱性成分的含氮化合物包含一种以上的具有羧基且不具有以共价键与作为碱性中心的氮原子键合的氢的胺化合物。根据本发明，可提供一种不易于产生桥接，并且基板依存性较小，可形成解像性优异的图案的负型光阻组合物及使用此负型光阻组合物的图案形成方法，

公开(公告)号：CN102221780A

公开(公告)日：2011-10-19

申请号：CN201110105553.X

申请日：2011-02-16

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 增永恵一 ,  渡边聪 ,  田中启顺 ,  土门大将

IPC: G03F7/038 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/0382 ,  G03F7/038

Abstract: 提供一种化学放大负性抗蚀剂组合物，包括(A)碱可溶性聚合物，(B)酸产生剂，和(C)作为碱性组分的含氮化合物，该聚合物(A)在酸催化剂存在下变为碱不溶性。在侧链上具有仲或叔胺结构的碱性聚合物用作组分(A)和(C)。由EB或EUV平版印刷方法处理负性抗蚀剂组合物可以形成精细尺寸的抗蚀剂图案，优点包括碱均匀扩散、LER改善、酸在基材界面的钝化受控和咬边程度降低。

公开(公告)号：CN111100043B

公开(公告)日：2022-08-09

申请号：CN201911021773.7

申请日：2019-10-25

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 土门大将 ,  井上直也 ,  大桥正树 ,  增永惠一 ,  小竹正晃

IPC: C07C311/48 ,  C07C321/20 ,  C07D327/08 ,  C07C309/31 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明为鎓盐、负型抗蚀剂组合物和抗蚀剂图案形成方法。提供负型抗蚀剂组合物，其包含具有式(A)的鎓盐和基础聚合物。该抗蚀剂组合物在图案形成期间表现出高分辨率并且形成具有最小LER的图案。

公开(公告)号：CN109212903B

公开(公告)日：2022-03-29

申请号：CN201810721204.2

申请日：2018-07-04

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 铃木贵大 ,  土门大将 ,  小竹正晃 ,  增永惠一 ,  渡边聪

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明提供一种在以高能量射线为光源的照相平版印刷中，缺陷少、且通过抑制酸扩散而具有优异平版印刷性能的抗蚀剂组合物，以及使用了该抗蚀剂组合物的抗蚀图案形成方法。所述抗蚀剂组合物的特征在于，包括：(A)包含阴离子及阳离子、且在所述阳离子中具有下述通式(A1)表示的局部结构的锍盐；以及(B)包含下述通式(B1)表示的重复单元的高分子化合物。[化学式1][化学式2]

公开(公告)号：CN106054521B

公开(公告)日：2020-03-10

申请号：CN201610212742.X

申请日：2016-04-07

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 土门大将 ,  增永恵一 ,  渡边聪

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039

Abstract: 提供了负型抗蚀剂组合物，其包含(A)包含具有酸能消除的基团的重复单元和能够在曝光时产生酸的重复单元的聚合物，和(B)羧酸鎓盐。当该负型抗蚀剂组合物通过微加工技术、特别是EB光刻法处理时，它形成具有非常高的分辨率和最小LER的图案。

公开(公告)号：CN110526841A

公开(公告)日：2019-12-03

申请号：CN201910438807.6

申请日：2019-05-24

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 井上直也 ,  渡边聪 ,  土门大将

IPC: C07C309/73 ,  C07C303/32 ,  C07C381/12 ,  C07C51/41 ,  C07C63/04 ,  C07C309/31 ,  C07D279/20 ,  C07D327/08 ,  C07D519/00 ,  C07D215/48 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039

Abstract: 具有含桥接环的基团的芳烃磺酸的鎓盐产生了具有适当强度和受控的扩散的大体积酸。当包含该鎓盐和基础聚合物的正型抗蚀剂组合物通过光刻法加工时，形成了具有高分辨率和降低的LER的矩形轮廓的图案。

公开(公告)号：CN105629664B

公开(公告)日：2019-11-26

申请号：CN201510827923.9

申请日：2015-11-25

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 阿达铁平 ,  渡边聪 ,  土门大将 ,  增永惠一

IPC: G03F7/039 ,  G03F1/76

Abstract: 光掩模坯具有化学增幅型正型抗蚀剂膜，该化学增幅型正型抗蚀剂膜包含：(A)包含在芳环上具有特定的取代基的重复单元和具有至少一个氟原子的重复单元的聚合物；(B)在酸的作用下分解以增加其在碱性显影剂中的溶解性的基础树脂；(C)产酸剂；和(D)碱性化合物。该抗蚀剂膜在时效稳定性和抗静电膜接受性上得到改善。

公开(公告)号：CN104199255B

公开(公告)日：2018-03-13

申请号：CN201410471281.9

申请日：2011-02-16

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 增永恵一 ,  渡边聪 ,  田中启顺 ,  土门大将

IPC: G03F7/038 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/0382 ,  G03F7/038

Abstract: 提供一种化学放大负性抗蚀剂组合物，包括(A)碱可溶性聚合物，(B)酸产生剂，和(C)作为碱性组分的含氮化合物，该聚合物(A)在酸催化剂存在下变为碱不溶性。在侧链上具有仲或叔胺结构的碱性聚合物用作组分(A)和(C)。由EB或EUV平版印刷方法处理负性抗蚀剂组合物可以形成精细尺寸的抗蚀剂图案，优点包括碱均匀扩散、LER改善、酸在基材界面的钝化受控和咬边程度降低。

公开(公告)号：CN106054529A

公开(公告)日：2016-10-26

申请号：CN201610212743.4

申请日：2016-04-07

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 阿达铁平 ,  渡边聪 ,  土门大将 ,  增永恵一

IPC: G03F7/038 ,  G03F7/004 ,  G03F7/00 ,  G03F1/00 ,  G03F1/40

Abstract: 光掩模坯具有化学增幅型负型抗蚀剂膜，该化学增幅型负型抗蚀剂膜包括(A)包含特定结构的重复单元和具有氟的重复单元的聚合物，(B)适于在酸的作用下降低其在碱显影剂中的溶解性的基础树脂，(C)产酸剂，和(D)碱性化合物。该抗蚀剂膜对于抗静电膜的接受性得到改善。

公开(公告)号：CN105676592A

公开(公告)日：2016-06-15

申请号：CN201510893749.8

申请日：2015-12-08

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 熊木健太郎 ,  渡边聪 ,  长谷川幸士 ,  土门大将 ,  山田健司

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明提供收缩材料，其包括特定的聚合物和含有抗消失性溶剂的溶剂。通过将包含基础树脂和产酸剂的抗蚀剂组合物涂布到基材上以形成抗蚀剂膜、曝光、在有机溶剂显影剂中显影以形成负型抗蚀剂图案、将该收缩材料涂布到该图案上和用有机溶剂将过量的收缩材料除去以由此使该图案中的孔和/或狭缝的尺寸收缩，从而形成图案。