一种自适应多层控光结构的耦合对位系统与工艺流程

    公开(公告)号:CN117930528B

    公开(公告)日:2024-06-14

    申请号:CN202410323463.5

    申请日:2024-03-21

    Abstract: 本发明涉及静态光场显示技术领域,为了解决现有复合光栅生产过程中遇到的耦合对位精度不足的技术问题,本发明公开了一种自适应多层控光结构的耦合对位系统与工艺流程,包括局部加热器阵列、设置在局部加热器阵列上方的下层金属吸附台、设置在下层金属吸附台上方的控光结构、设置在控光结构上方的透明吸附台、设置在透明吸附台上方的扫描显微镜阵列;局部加热器阵列包括局部加热器和控制器,所述控制器用于控制每个局部加热器的加热温度,从而对周围介质加热。通过控制单层控光结构的膨胀程度实现双层控光结构的耦合对准,完成双层控光结构的贴合,进行重复双层控光结构的耦合对准过程,从而实现高精度的复合控光结构的制备。

    一种基于三维场景风格化的光场显示方法及系统

    公开(公告)号:CN116418961B

    公开(公告)日:2023-08-22

    申请号:CN202310678853.X

    申请日:2023-06-09

    Abstract: 本发明适用于图像处理技术领域,提供了一种基于三维场景风格化的光场显示方法及系统,包括以下步骤:对同一个静态场景进行多视角采集得到多视点图像;对多视点图像进行预处理得到相机内参和相机外参;将多视点图像、相机内参和相机外参输入至神经网络中学习,获得三维隐式表达的真实场景的辐射场;通过神经网络和图像处理将所述的真实场景的辐射场转化为风格化辐射场,实现从真实场景到风格化场景的映射;通过生成虚拟相机阵列重新采集多视点图像,并进行多视点合成编码,加载到三维光场显示器上进行立体显示。本发明能够对三维场景进行视觉上富有美感的风格化并用于三维显示,三维显示效果好。

    根据深度值渲染分辨率的三维光场图像编码方法及系统

    公开(公告)号:CN116095294B

    公开(公告)日:2023-06-16

    申请号:CN202310372968.6

    申请日:2023-04-10

    Abstract: 本发明公开了根据深度值渲染分辨率的三维光场图像编码方法及系统,包括:图像获取步骤,获取用于三维光场图像编码的视点图像阵列以及对应的深度图像;采样分层步骤,根据所述深度图像将所述视点图像阵列中的每张视点图像按照深度分布采样为指定数量个平面;分辨率计算重渲染步骤,按照深度‑分辨率拟合几何关系计算每张视点图像所有深度平面的目标分辨率,并重新渲染拼接,得到分辨率分布优化后的视点图像阵列;合成编码步骤,将优化后的所述视点图像阵列编码合成,得到三维光场图像。本发明能高效、准确地调整三维图像的分辨率分布,根据深度值渲染分辨率处理后,能够在三维光场显示器上显示出无重影三维效果,较好地满足了应用需求。

    根据深度值渲染分辨率的三维光场图像编码方法及系统

    公开(公告)号:CN116095294A

    公开(公告)日:2023-05-09

    申请号:CN202310372968.6

    申请日:2023-04-10

    Abstract: 本发明公开了根据深度值渲染分辨率的三维光场图像编码方法及系统,包括:图像获取步骤,获取用于三维光场图像编码的视点图像阵列以及对应的深度图像;采样分层步骤,根据所述深度图像将所述视点图像阵列中的每张视点图像按照深度分布采样为指定数量个平面;分辨率计算重渲染步骤,按照深度‑分辨率拟合几何关系计算每张视点图像所有深度平面的目标分辨率,并重新渲染拼接,得到分辨率分布优化后的视点图像阵列;合成编码步骤,将优化后的所述视点图像阵列编码合成,得到三维光场图像。本发明能高效、准确地调整三维图像的分辨率分布,根据深度值渲染分辨率处理后,能够在三维光场显示器上显示出无重影三维效果,较好地满足了应用需求。

    一种高清彩色静态三维显示系统及制备方法

    公开(公告)号:CN116047787A

    公开(公告)日:2023-05-02

    申请号:CN202310326124.8

    申请日:2023-03-30

    Abstract: 本发明公开了一种高清彩色静态三维显示系统及制备方法,其包括有光源模块和多角度控光单元,光源模块与多角度控光单元之间设有滤光着色机构和透遮光机构,透遮光机构包括有多个呈阵列式分布的单位透遮光区域,每个单位透遮光区域的形状为线条型或矩形,通过控制遮光透光面积比而设定该单位透遮光区域,滤光着色机构内布设有RGB颜色频率选择透过区域,RGB颜色频率选择透过区域沿滤光着色机构的第一方向循环分布,RGB颜色频率选择透过区域沿滤光着色机构的第二方向以单一颜色横贯滤光着色机构,第一方向与第二方向相互垂直。本发明通过光学结构的合理设置优化提升显示质量,进而实现高清晰度、平滑视差、高色阶的静态三维显示系统。

    一种裸眼3D显示光学器件
    36.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114660824A

    公开(公告)日:2022-06-24

    申请号:CN202210402922.X

    申请日:2022-04-18

    Abstract: 本申请实施例涉及光学显示领域,公开了一种裸眼3D显示光学器件及裸眼3D显示系统。该裸眼3D显示光学器件包括光阑层和至少一个透镜阵列层,光阑层包括间隔设置的透光区和遮光区,至少一个透镜阵列层中每个透镜阵列层包括透镜组件,透镜组件包括若干间隔设置的透镜区。其中,光阑层的透光区与任一透镜阵列层的透镜区一一对应,且中心点在一条直线上光阑层中每一透光区的口径小于或者等于该透光区相对应透镜区的口径。采用本技术方案裸眼3D显示光学器件的裸眼3D显示系统,经过光阑层的过滤,能够确保呈3D显示的光线是像差相对较小的光线,从而能够减小像差对3D显示图像的影响,提高裸眼3D显示图像的清晰度。

    异质纳米线制备方法
    37.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102050426A

    公开(公告)日:2011-05-11

    申请号:CN200910237082.0

    申请日:2009-11-10

    Abstract: 本发明提供一种基于组分变化结构的异质兼容纳米线的外延生长方法,其中纳米线由不同晶格常数的各种材料的沿单一轴向串接而成,所述方法包括如下步骤:a.在衬底上形成金属纳米颗粒;b.以所述金属纳米颗粒作为催化剂,在所述有金属颗粒的位置,生长出第一种材料的纳米线;c.在所述第一种材料纳米线上继续生长出晶格常数逐渐改变的纳米线缓冲段;d.然后生长第二种材料的纳米线。本发明利用组分变化结构的晶格常数变化特性,实现不同晶格常数材料纳米线的单一轴向可控生长。本发明能成功解决晶格失配的纳米线材料间外延生长的问题,为实现新型纳米线光电子器件提供新思路。

    晶片键合表面处理剂及晶片键合方法

    公开(公告)号:CN1632925A

    公开(公告)日:2005-06-29

    申请号:CN200410088544.4

    申请日:2004-11-08

    Abstract: 本发明揭示了一种晶片键合工艺中的表面处理剂以及晶片键合方法,本发明所提供的表面处理剂是硫化物溶液,其溶质选自硫脲(CS(NH2)2),硫化氨((NH4)2Sx)或氯化硫(S2Cl2),溶剂选自硫化碳、四氯化碳、甲醇、乙醇、氨水,溶液浓度为0.1%~50%;本发明所提供的晶片键合方法,先将待键合的两块晶片在乙醇和丙酮中清洗,除去表面的油渍,将处理过的晶片置于本发明所提供的表面处理剂中水浴中加热后将两块晶片取出用夹具夹紧放入退火炉中进行热处理,实现在较低的热处理温度下,半导体晶片间的高质量键合,并且环保。

    高速、高灵敏度的谐振腔增强型光电探测器的实现方法

    公开(公告)号:CN1170381C

    公开(公告)日:2004-10-06

    申请号:CN01139734.9

    申请日:2001-11-27

    Abstract: 本发明涉及一种高速、高灵敏度的谐振腔增强型(RCE)光电探测器的制备方法。本发明其特征在于:它通过离子注入造成器件部分电极绝缘,使得导电区域呈现梳状或网孔状的微结构,降低了探测器的固有电容。本发明涉及的方法解除了RCE光电探测器的光耦合效率与响应速率之间互相制约的矛盾,势将对今后光波与光电子器件的发展产生重要而深远的影响。

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