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公开(公告)号：CN118330903B
公开(公告)日：2024-12-24
申请号：CN202410748646.1
申请日：2024-06-12
Applicant: 深圳臻像科技有限公司 , 北京邮电大学
IPC: G02B30/27
Abstract: 本发明涉及三维光场显示技术领域，为了解决现有空中成像显示系统中因杂散光的存在严重影响了空气成像的技术问题，本发明公开了一种空中成像显示系统，由两组对称设置的远心结构组成，每组远心结构均包括光阑层、厚度层和透镜阵列层，光阑层由透光阵列区域与遮光阵列区域组成；光阑层和透镜阵列层分别位于厚度层两侧，并与厚度层紧贴；光阑层位于透镜阵列层的焦面附近；厚度层位于光阑层与透镜阵列层之间，并与光阑层与透镜阵列层紧密贴合，其作用是保证光阑层与透镜阵列层之间有一定的距离，使光阑层位于透镜阵列层的焦平面附近。光阑层紧贴于厚度层，其作用是对经过透镜阵列层的部分光线进行遮挡，确保光线能够高效地通过并会聚。
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公开(公告)号：CN116528065B
公开(公告)日：2023-09-26
申请号：CN202310787597.8
申请日：2023-06-30
Applicant: 深圳臻像科技有限公司 , 北京邮电大学
IPC: H04N23/957 , H04N13/117 , H04N13/15 , G06T15/00
Abstract: 本发明涉及光场显示技术领域，为了解决现有数据处理算法不足导致的实时性和保真性低的技术问题，本发明公开了一种高效虚拟场景内容光场获取与生成方法，根据光场视角以及所需视点数，设定虚拟相机位置，通过指定虚拟相机获取彩色视频流和深度视频流，通过光场编码模块对视频流编码，压缩上传云端传输；通过在预定位置的虚拟相机，实时获取虚拟场景的彩色视频流和深度视频流，并从云端实现远端到本地端传输，获取单帧对应的彩色图与深度图，经过光场编码后进行具有高保真和实时性的远程渲染，能够极大地降低传输成本，解决了通过模型传输代价高、无法实时的问题，同时保证了光场下的渲染精度，满足了高保真和实时的传输和生成需求。
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公开(公告)号：CN116663429A
公开(公告)日：2023-08-29
申请号：CN202310912663.X
申请日：2023-07-25
Applicant: 深圳臻像科技有限公司 , 北京邮电大学
IPC: G06F30/27 , G06T15/06 , G02B27/00 , G02B30/00 , G06F111/06 , G06F111/18
Abstract: 本发明涉及一种面向光场显示器的参数联合调优方法，解决现有技术中没有有效方法来高效率地对光场显示系统的全局参数进行自动联合设计的问题。本发明由光线追踪可视化仿真模块、优化环境构建模块、参数联合调优模块、有效性验证模块组成。光线追踪可视化仿真模块包括仿真、建模、同步和调节等步骤；优化环境构建模块用于建立包含决策变量、约束条件和目标函数的优化环境；参数联合调优模块综合考虑光场参数建立优化模型，联合寻找合适的系统参数；有效性验证模块根据全局优化的参数设计三维光场显示器，并根据人眼评价方法进行有效性验证。本技术方案能协同优化三维光场显示系统的设计参数，使光场显示系统能够产生清晰、完整的重建立体图像。
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公开(公告)号：CN116338977B
公开(公告)日：2023-08-04
申请号：CN202310580642.2
申请日：2023-05-23
Applicant: 深圳臻像科技有限公司 , 北京邮电大学
Abstract: 本发明公开一种像素利用率高的三维显示系统，包括：背光源，用于发出在竖直方向上准直、在水平方向上发散的光线；光阑层，光阑层包括周期性交替排列的透光条和遮光条，背光源发出的水平方向发散光线一部分透过透光条后出射，另一部分被遮光条遮挡；显示面板，显示面板以最小显示单元为单位，为通过显示单元的光线加载可动态调节的图像信息；波导层，波导层包括周期性排列的波导单元，每个波导单元用于对经过其的光线进行独立传导；控光结构，控光结构包括周期性排列的遮光区和控光区，遮光区用于对经过其的光线进行遮挡，控光区用于对经过其的光线进行调控。本发明通过改变控光结构中遮透光区域的排布方式对光线进行优化，进而提升像素利用率。
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公开(公告)号：CN116224619A
公开(公告)日：2023-06-06
申请号：CN202310452214.1
申请日：2023-04-25
Applicant: 深圳臻像科技有限公司 , 北京邮电大学
IPC: G02B30/30
Abstract: 本发明公开了一种密集视点的三维显示设备，其包括有LED屏幕、准直透镜阵列、反光阵列和衍射光栅阵列，LED屏幕包括有多个呈阵列式分布的LED光源，准直透镜阵列包括有多个准直透镜，反光阵列包括有多个呈阵列式分布的斜向反光镜，斜向反光镜用于将由准直透镜出射的准直光束反射至衍射光栅阵列，该准直光束在衍射光栅阵列上的照射点与LED光源交错设置，衍射光栅阵列用于根据衍射光栅预设的结构差异控制各准直光束按照水平方向的不同角度出射，以令三维显示设备在水平方向的不同位置形成不同的视差图像。本发明能使显示设备在不同水平方向形成不同的视差图像，进而构建立体视觉，实现立体图像的三维显示，较好地满足了应用需求。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103929364A
公开(公告)日：2014-07-16
申请号：CN201410191788.9
申请日：2014-05-07
Applicant: 北京邮电大学
IPC: H04L12/801 , H04L12/841 , H04L12/703
Abstract: 本发明提出一种接收端智慧协同的多路传输控制方法及装置，对现有的流控制传输协议(SCTP)进行改进。所述方法包括：建立一种基于接收端的发送速率评估器(SRE-rev)，根据路径参数决策理想的数据发送速率(ASR)并反馈ASR值；建立一种接收端协助的路径切换触发器(PST-rev)，在接收端执行主路径选择和路径切换后的快速恢复；定义四种传输状态：慢启动、拥塞避免、路径选择与路径快速恢复，并描述四种传输状态的转换过程；通过本方案实现了接收端参与的速率控制和路径管理，均衡发送端和接收端的负载开销，提高用户对流媒体多路径传输的体验质量，为未来新型互联网中多节点智慧协同传输机制的建立提供有益的解决思路。
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公开(公告)号：CN103841043A
公开(公告)日：2014-06-04
申请号：CN201410124205.0
申请日：2014-03-28
Applicant: 北京邮电大学
IPC: H04L12/807 , H04L1/18
Abstract: 本发明提出了一种基于友好性的平行数据传输窗口机制，解决多路并行传输在资源共享的网络中因过度占用带宽而引起的TCP不友好的公平性问题。流控制传输协议的拥塞控制都是路径独立的，无法从整体上对多路传输的速率进行了解和控制。基于此，本发明设计了一个多路径友好窗口，在会话范围内模拟TCP的拥塞控制。将友好窗口值与活动路径总拥塞窗口值进行比较，判断当前带宽占用情况是否合理，若超出一定范围，则进行相应的拥塞窗口增加或减少的调整，从而保证数据传输的效率和友好性。通过基于友好性的平行数据传输窗口机制，能够在不过度损害多路径数据传输效率的同时有效减小其对传统单路径传输的侵略性，获得稳定的网络性能。
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公开(公告)号：CN102054772A
公开(公告)日：2011-05-11
申请号：CN200910207134.X
申请日：2009-10-27
Applicant: 北京邮电大学
IPC: H01L21/82 , H01L21/8252
Abstract: 本发明涉及一种具有多波长处理功能的单片集成光探测器阵列的制备方法，特别涉及此器件中阶梯型谐振腔结构，以及基于该结构的单片集成光探测器阵列的制备方法，和基于该阵列器件的多波长处理功能的实现方法。本发明用于多波长处理的单片集成光探测器阵列的制备方法，包括如下工艺步骤：经多次刻蚀工艺和二次外延生长工艺制备多台阶F-P谐振腔；通过GaAs/InP大失配异质外延生长工艺实现InP系有源器件与GaAs系无源滤波器件的单片集成。本发明解决了可重构光分插复用器件对具有多波长处理功能的单片集成光探测器件的需求问题，并广泛用于光通信及光信号处理等领域，对今后光电子器件的集成化产生重要的影响。
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公开(公告)号：CN101615564B
公开(公告)日：2011-01-12
申请号：CN200810132429.0
申请日：2008-07-15
Applicant: 北京邮电大学
CPC classification number: Y02P70/521
Abstract: 本发明提供一种异质外延生长工艺，外延层材料生长阶段包括预生长阶段和二次生长阶段，且所述两个生长阶段之间为刻槽工序，其中衬底材料与外延层材料之间热膨胀系数失配度大于10％。本发明成功解决了热失配较大的材料间异质外延的裂纹问题，特别为硅基半导体光电子集成中的材料兼容技术提供新的思路。实现无裂纹、高质量的异质外延生长方法。
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公开(公告)号：CN101685774A
公开(公告)日：2010-03-31
申请号：CN200810161833.0
申请日：2008-09-24
Applicant: 北京邮电大学
IPC: H01L21/20
Abstract: 本发明提供一种基于界面纳米结构的异质外延生长工艺。其中衬底材料与外延层材料之间存在晶格失配，且外延层的形成包括四个阶段：首先在衬底上形成金属纳米颗粒；接着生长纳米线；然后沉淀掩膜层并使得纳米线的上部露出；最后以露出的纳米线部分作为窗口横向生长外延层。本发明利用高晶体质量的纳米线作为横向生长的窗口，横向生长的外延层与衬底之间间隔着掩膜层，消除了外延层材料和衬底材料之间晶格匹配的限制。本发明能成功解决晶格失配的晶体材料间异质生长的问题，为实现光电子集成提供新思路。
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