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公开(公告)号:CN100575541C
公开(公告)日:2009-12-30
申请号:CN200710176699.7
申请日:2007-11-01
Applicant: 北京科技大学
Abstract: 本发明提供了一种用反铁磁材料提高金属磁性多层膜矫顽力的方法,利用磁控溅射仪,在清洗干净的玻璃基片沉积铂Pt/[钴铬CoCr/铂Pt]5/铁锰FeMn/铂Pt多层膜。本发明的优点在于:薄膜的厚度较小,同时又具有良好的垂直磁各向异性和较高的矫顽力,比较适合应用于CoCr合金薄膜的超高密度垂直磁记录。此外,沉积后的薄膜无需进行后退火处理,所以它还具有成本低,制备简单等优点,适用于未来的生产。
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公开(公告)号:CN101217041A
公开(公告)日:2008-07-09
申请号:CN200810056065.2
申请日:2008-01-11
Applicant: 北京科技大学
Abstract: 本发明提供了一种用于超高密度垂直磁记录介质的制备方法。利用磁控溅射方法,在加热的MgO(001)单晶基片上沉积[FePt(5~20)/Au(2.5~ 7)]5~10多层膜。基片温度为100~450℃,溅射室本底真空为1×10-5~7× 10-5Pa,溅射时氩气压为0.9~1.6Pa。沉积完毕后,将薄膜降至室温,再放入真空退火炉中进行热处理,退火温度为470~700℃,退火时间为20分钟~4小时,退火炉本底真空度为 2×10-5~7×10-5Pa。所制备出的L10-FePt薄膜具有垂直膜面取向、磁性能优良、颗粒尺寸小于10nm等特点,适合应用于超高密度垂直磁记录介质。本方法还具有成本低,制备简单等优点,适合于工业应用。
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公开(公告)号:CN101150171A
公开(公告)日:2008-03-26
申请号:CN200710177709.9
申请日:2007-11-20
Applicant: 北京科技大学
Abstract: 本发明提供了一种用于交换偏置型磁电阻传感器元件的多层膜材料,Ta/NiCo/Ta多层膜中插入FeMn层制得Ta/NiCo/FeMn/Ta多层膜材料,磁电阻传感器元件由Ta/NiCo/FeMn/Ta多层膜结构元件和Au电极层构成,NiCo合金的成分为Ni65Co35,FeMn合金成分为Fe50Mn50,为反铁磁性合金。该方法通过NiCo/FeMn界面产生的交换偏置场来减小磁电阻传感器元件的磁滞。该方法结构及工艺简单,成本低,适于较高磁场使用。
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公开(公告)号:CN101046394A
公开(公告)日:2007-10-03
申请号:CN200710064729.5
申请日:2007-03-23
Applicant: 北京科技大学
IPC: G01D5/249
Abstract: 一种高精度磁编码器用磁鼓的制备方法,属于磁编码器技术领域。以铝合金为基体,以钴盐、还原剂、络合剂、缓冲剂按比例配成溶液,化学镀法制备Co-P或Co-Ni-P薄膜作为磁鼓的记录介质。薄膜中P含量为5~10%,为晶态,有磁性;膜厚为1~10μm。对用该法制得的磁鼓,可写入1024~2500对N、S磁极。本发明的优点在于:磁性薄膜磁性能优异,制备工艺稳定,实施性强,易于工业化批量生产;制得的磁鼓分辨率高,与各向异性磁电阻薄膜探头结合,可得到高精度的磁旋转编码器。
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公开(公告)号:CN1648610A
公开(公告)日:2005-08-03
申请号:CN200510011202.7
申请日:2005-01-19
Applicant: 北京科技大学
IPC: G01D5/12
Abstract: 本发明提供了一种提高磁编码器磁鼓分辨率的方法。采用涂布工艺,挤压成形制备磁鼓后,用精细抛光砂纸抛光磁性层,使磁性涂层减薄至0.1~0.05mm。再用窄漏磁间隙的磁头对磁鼓写入磁极,采用的窄漏磁间隙为0.1~0.05mm漏磁间隙的磁头对磁鼓进行充磁,写入磁极为512对极。本发明的优点在于,工艺精简,易于操作,可写入512对极,脉冲计数完整,输出波形信号良好,元器件性能优异。
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