一种ZrC-SiC复相陶瓷材料的制备方法

    公开(公告)号:CN103193484A

    公开(公告)日:2013-07-10

    申请号:CN201210005002.0

    申请日:2012-01-09

    Abstract: 本发明公开了一种ZrC-SiC复相陶瓷材料的制备方法,所述方法是一种原位反应法,即,首先将酚醛树脂、锆粉、硅粉加入有机溶剂中,球磨使混合均匀;然后干燥除去有机溶剂,制得先驱体粉末;再将先驱体粉末在800~1000℃进行裂解处理;裂解处理后,再在惰性气氛下,于1500~1800℃进行热处理。本发明提供的ZrC-SiC复相陶瓷材料的制备方法,具有操作简单,成本低,可规模化实施及可任意调节其中两相比例等优点,有助于实现ZrC-SiC复相陶瓷材料在超高温领域的广泛应用。

    一种高产率低温合成碳化硼粉体的方法

    公开(公告)号:CN104891495B

    公开(公告)日:2017-05-03

    申请号:CN201510398199.2

    申请日:2015-07-08

    Abstract: 本发明涉及一种高产率低温合成碳化硼粉体的方法,包括:按(4~7):10的摩尔配比分别称取硼酸和聚乙烯醇,将硼酸与丙三醇混合搅拌至完全溶解,加入碱调节pH至4~6,得到硼酸溶液;将聚乙烯醇与水混合搅拌至完全溶解,得到聚乙烯醇溶液;将所得硼酸溶液和所得聚乙烯醇溶液混合搅拌并在加热下蒸发溶剂至完全形成凝胶;将所得凝胶进行干燥,得到干凝胶;将所得干凝胶在真空或惰性气氛下于500~700℃保温2~4小时进行裂解;将裂解产物在真空或惰性气氛下于1300~1500℃保温3~5小时进行碳热还原,得到碳化硼粉体。本发明同时克服了硼酸‑丙三醇体系凝胶后续处理过程中B2O3挥发损耗严重和硼酸‑聚乙烯醇体系硼酸浓度过低的局限。

    提高SiC基复合材料支撑结构环境适应性的原位结合工艺

    公开(公告)号:CN105519255B

    公开(公告)日:2014-01-15

    申请号:CN201218000406.1

    申请日:2012-03-14

    Abstract: 本发明提出了一种提高SiC基复合材料支撑结构环境适用性的原位结合工艺,其特征在于所述的原位结合工艺包括三种途径:途径一,对PIP工艺制备的SiC基复合材料试样/构件进行清洗,烘干后放入气相渗透处理炉中,抽真空,在真空状态下升温至沉积温度,通入反应气体,通过CVI工艺在PIP工艺制备的SiC基复合材料试样/构件上形成陶瓷增强层;途径二,在途径一制备的陶瓷增强层的基础上于其表面均匀喷涂树脂溶液形成液膜并使其固化形成一层树脂膜;途径三,对PIP工艺制备的SiC基复合材料试样/构件进行清洗、烘干后在其表面均匀喷涂树脂溶液形成液膜并使其固化形成一层树脂膜。本发明可广泛应用于空间光学系统反射镜支撑结构中。

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