一种二维纳米硼碳氮半导体材料的制备方法

    公开(公告)号:CN110668457A

    公开(公告)日:2020-01-10

    申请号:CN201911047283.4

    申请日:2019-10-30

    Abstract: 本发明涉及一种二维纳米硼碳氮半导体材料的制备方法,所述二维硼碳氮纳米材料的片状直径为1~50μm,层数为1~10层;所述二维纳米硼碳氮半导体材料的制备方法包括:(1)将硼源、固体碳源和纳米氧化铁催化剂加入溶剂中并混合得到混合浆料;所述硼源选自固体硼源或/和液体硼源,优选为无定形硼粉、硼酸三甲酯、硼砂中的至少一种;所述固体碳源选自石墨、石墨烯、活性炭中的至少一种;(2)将所得混合浆料涂敷在衬底表面并烘干,置于压力2~40atm的氮气气氛中、在800~1400℃下热处理0.5~20小时,得到所述二维纳米硼碳氮半导体材料。

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