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公开(公告)号：CN112764327B
公开(公告)日：2021-09-07
申请号：CN202110184852.0
申请日：2021-02-10
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种双光束干涉曝光系统中光栅基板表面光刻胶涂层在线扫描曝光预处理装置，包括：连续紫外激光光源，用于对光栅基板表面光刻胶涂层进行曝光；双光束干涉曝光系统；干涉场扫描测量系统，用于对干涉曝光场的强度分布进行二维扫描测量；扫描曝光预处理系统，将来自连续紫外激光光源的激光光束调制为具有一定空间强度分布和一定宽度的线激光束，并辐照在待处理光栅基板涂覆光刻胶的光刻胶面上。通过控制空间光调制器输出强度分布和一维位移台扫描速度实现光刻胶纳米涂层不同位置、不同曝光剂量的预处理。本发明解决了双光束干涉曝光技术制备衍射光栅中因干涉光束强度分布不均匀导致的光栅掩膜不均匀性的技术难关。
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公开(公告)号：CN111580205B
公开(公告)日：2021-07-27
申请号：CN202010488461.3
申请日：2020-06-02
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G02B5/18
Abstract: 一种适用于54度～62度入射使用的宽谱脉宽压缩光栅，包括衬底以及所述衬底上的弦形光栅结构。所述弦形光栅结构的外形轮廓可由特定公式进行定义。所述的弦形光栅结构包括光敏材料光栅层和覆盖在光敏材料光栅层上的金属层。所述光栅的周期Λ为600～750纳米，占空比f1为0.4～1。所述弦形光栅层结构的槽深h为170～260纳米。所述金属层材料为金或者银(Au/Ag)，其厚度为100～220纳米。本发明的光栅中心波长为910纳米，在入射角θ为大角度54度～62度入射时，光栅的TM偏振光的‑1级衍射效率在200纳米(810～1010纳米)以上带宽范围内大于90％。本发明中的脉宽压缩光栅在拍瓦级啁啾脉冲压缩技术中具有重要的实用价值。
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公开(公告)号：CN110879433B
公开(公告)日：2021-01-01
申请号：CN201911167157.2
申请日：2019-11-25
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G02B5/18
Abstract: 一种基于光热折变玻璃的反射式体光栅制备方法，包括步骤：(1)曝光面进行精抛光；采用双束紫外平行光形成的干涉条纹对PTR玻璃进行曝光；采用450‑550℃的温度进行热显影；沿垂直于曝光入射面方向切割；对切割面精抛光处理后镀上对使用波长λ使透过率大于99.5％的全介质减反膜，完成反射式体光栅的制备。本发明通过调节曝光角度θ可实现对使用波长的调控，通过对曝光时长、热处理温度和时长实现对反射式体光栅的衍射效率(10％～99％)进行调控，通过切割厚度(0.3mm～30mm)调控实现对光谱半高宽(0.02nm～1nm)进行调控。通过工艺参数调节实现自由调控，且有利于实现规模化量产。
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公开(公告)号：CN111769425A
公开(公告)日：2020-10-13
申请号：CN202010580234.3
申请日：2020-06-23
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种用于1064纳米波段的全介质反射式光谱合束光栅，由上而下依次是三明治结构光栅层、位相匹配层和高反射层构成。本发明具有易于制备、偏振无关、宽带、高衍射效率的特点，可以使无偏激光在80纳米(1030纳米-1100纳米)波长带宽内的-1级衍射效率高于97.5％；在40纳米(1042纳米-1082纳米)波长带宽内的-1级衍射效率高于99％。本发明在高功率、高能激光光谱合束以及激光脉冲压缩等领域具有重要的实用前景。
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公开(公告)号：CN110736561A
公开(公告)日：2020-01-31
申请号：CN201911012197.X
申请日：2019-10-23
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种高功率激光系统中反射光学元件的制备及其测温方法，反射光学元件的制备包括步骤：在基底材料上利用磁控溅射镀制一层VO2相变薄膜；在VO2相变薄膜上镀制高反膜。由于VO2的相变特性，反射光学元件的透过率会随温度发生变化，高功率激光系统中测温方法包括利用接触式测温的方法测试反射光学元件在某一波长处透过率随温度变化的曲线；高功率激光系统中，增加该波长的探测激光入射至反射光学元件表面的辐照区域，并利用功率计测试探测激光的透过率；结合上述透过率随温度变化曲线利用透射率计算光学元件的表面温度。本发明相比红外热像仪测温的方法不仅成本较低，而且可以高精度的测试光学元件表面微米深度的温度变化。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108873316A
公开(公告)日：2018-11-23
申请号：CN201810746871.6
申请日：2018-07-09
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种多块多通道复用体布拉格光栅级联角度偏转器，构成是：沿入射光方向依次是第1块复用体布拉格光栅的前表面的第1增透膜、第1块复用透射式体布拉格光栅、第2块复用透射式体布拉格光栅、…、第N块复用透射式体布拉格光栅和第N块复用透射式体布拉格光栅的后表面的第2增透膜，N为2以上的正整数。所包含的所有光栅通道的最小偏转角度从小到大依次级联。本发明提高了入射光束的绝对衍射效率，具有性能优越，结构简单，可大批量生产，在激光光束扫描技术领域具有重要的实用前景。
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公开(公告)号：CN103726018A
公开(公告)日：2014-04-16
申请号：CN201310545333.8
申请日：2013-11-06
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种微波遥控镀膜挡板装置，构成包括基片平面夹具、微波遥控器、发射天线、微波接受器、耐高温电池、控制电路、电机、连接线、连接杆和挡板。所述的微波遥控器通过所述的发射天线发射的微波遥控信号被所述的微波接收器接收，经所述的控制电路处理后，控制所述的电机的运转，驱动连接杆带动所述的挡板转动，使挡板根据需要处在基片平面夹具的下方的合理位置，本发明对挡板的位置具有遥感、经济、方便和高效的控制作用。
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公开(公告)号：CN102491649A
公开(公告)日：2012-06-13
申请号：CN201110363911.7
申请日：2011-11-16
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种减反射玻璃的制备方法，包括对硅酸盐玻璃基片清洗、激光预处理、浸入刻蚀水溶液刻蚀、清洗和烘干等步骤，获得减反射玻璃。本发明的优点：工艺简单、增透效果可控、经过激光预处理后的玻璃表面不仅腐蚀速度快速且均匀，并且能有效提高刻蚀后玻璃的激光损伤阈值。
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公开(公告)号：CN119002147A
公开(公告)日：2024-11-22
申请号：CN202410665068.5
申请日：2024-05-27
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 本发明公开了一种基于非对称Treacy压缩器构型的反射式巨色散量啁啾平面光栅脉冲展宽器，即第一光栅与第二光栅互相平行放置，第三光栅与第四光栅互相平行放置。其中，所述的第一光栅和第四光栅是光栅周期恒定的光栅，所述的第二光栅和第三光栅是光栅周期变化的啁啾平面光栅。与Martinez展宽器或Offner展宽器相比，在等量光栅间距的条件下，所述的反射式巨色散量啁啾平面光栅脉冲展宽器能够提供更巨量的正色散以对入射光实现更显著的脉宽展宽。调整所述的第二光栅和第三光栅的光栅周期范围、第三光栅的有效区域宽度、位置和第四光栅的位置，可实现所述的反射式巨色散量啁啾平面光栅脉冲展宽器输出色散的调节。本发明提出的结构与涉及原理简单，所提供的技术方案能够有力支撑脉冲展宽器产生巨量色散，进而实现对入射光脉冲宽度的显著展宽。
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公开(公告)号：CN114879293A
公开(公告)日：2022-08-09
申请号：CN202210388807.1
申请日：2022-04-12
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G02B5/18
Abstract: 兼容大方位角、超400nm带宽大底宽小尖角金属脉冲压缩光栅，包括光栅参数优化设计和制备工艺。所述的光栅其底宽占比需大于0.6，形状因子为0.5～2.5，槽深为160～250nm，线密度为1300～1650g/mm。所述的制备工艺包括基底清洗、涂胶、烘烤、曝光、显影和金属膜镀制。本发明的宽带高效率光栅具有大底宽小尖角结构，在正负15或20°的大方位角内，TM偏振光以‑1级Littrow角入射时，光栅在超400nm带宽内效率超过90％。本发明的光栅及相关工艺参数可支撑数百拍瓦单周期脉冲压缩光栅储备。
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