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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110879433A
公开(公告)日：2020-03-13
申请号：CN201911167157.2
申请日：2019-11-25
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G02B5/18
Abstract: 一种基于光热折变玻璃的反射式体光栅制备方法，包括步骤：(1)曝光面进行精抛光；采用双束紫外平行光形成的干涉条纹对PTR玻璃进行曝光；采用450-550℃的温度进行热显影；沿垂直于曝光入射面方向切割；对切割面精抛光处理后镀上对使用波长λ使透过率大于99.5％的全介质减反膜，完成反射式体光栅的制备。本发明通过调节曝光角度θ可实现对使用波长的调控，通过对曝光时长、热处理温度和时长实现对反射式体光栅的衍射效率(10％～99％)进行调控，通过切割厚度(0.3mm～30mm)调控实现对光谱半高宽(0.02nm～1nm)进行调控。通过工艺参数调节实现自由调控，且有利于实现规模化量产。
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公开(公告)号：CN110230096A
公开(公告)日：2019-09-13
申请号：CN201910559682.2
申请日：2019-06-26
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种三硼酸锂晶体表面增透微结构，其对紫外、可见、近红外光具有增透效果。微结构参数有周期、深度、占空比等。微结构各单元形状为长方体、圆柱体、圆锥体或圆台结构。微结构参数及各单元形状由特定使用波长所决定。本发明的表面增透微结构能够有效提升三硼酸锂晶体在特定波长的透过率，且透过带宽也很宽，很好地满足了高透过率、宽带的要求，对于高功率激光系统具有非常重要的实际意义。
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公开(公告)号：CN110879433B
公开(公告)日：2021-01-01
申请号：CN201911167157.2
申请日：2019-11-25
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
IPC: G02B5/18
Abstract: 一种基于光热折变玻璃的反射式体光栅制备方法，包括步骤：(1)曝光面进行精抛光；采用双束紫外平行光形成的干涉条纹对PTR玻璃进行曝光；采用450‑550℃的温度进行热显影；沿垂直于曝光入射面方向切割；对切割面精抛光处理后镀上对使用波长λ使透过率大于99.5％的全介质减反膜，完成反射式体光栅的制备。本发明通过调节曝光角度θ可实现对使用波长的调控，通过对曝光时长、热处理温度和时长实现对反射式体光栅的衍射效率(10％～99％)进行调控，通过切割厚度(0.3mm～30mm)调控实现对光谱半高宽(0.02nm～1nm)进行调控。通过工艺参数调节实现自由调控，且有利于实现规模化量产。
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公开(公告)号：CN110673444B
公开(公告)日：2020-06-09
申请号：CN201910863246.4
申请日：2019-09-12
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种超大超重衬底表面光刻胶均匀涂覆的旋涂设备，包括旋涂主机、上下样系统和总控系统,该设备主要由气浮转台、密封腔体、匀胶转盘、自动滴胶系统、上下样系统及控制台组成。所述的具有自动动平衡调节功能的气浮转台是该设备的关键所在，所述的匀胶转盘是采用补圆法尽可能地降低方形衬底旋转时产生的不规则气流对涂胶均匀性的影响，所述的上下样系统用于保障超大/超重衬底安全地上下涂胶机工位。本发明设备能够满足在直径近两米、重量约700kg的衬底表面进行光刻胶的涂布工艺，在通光口径内的涂胶不均匀性优于±3％。
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公开(公告)号：CN110673444A
公开(公告)日：2020-01-10
申请号：CN201910863246.4
申请日：2019-09-12
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所
Abstract: 一种超大超重衬底表面光刻胶均匀涂覆的旋涂设备，包括旋涂主机、上下样系统和总控系统,该设备主要由气浮转台、密封腔体、匀胶转盘、自动滴胶系统、上下样系统及控制台组成。所述的具有自动动平衡调节功能的气浮转台是该设备的关键所在，所述的匀胶转盘是采用补圆法尽可能地降低方形衬底旋转时产生的不规则气流对涂胶均匀性的影响，所述的上下样系统用于保障超大/超重衬底安全地上下涂胶机工位。本发明设备能够满足在直径近两米、重量约700kg的衬底表面进行光刻胶的涂布工艺，在通光口径内的涂胶不均匀性优于±3％。
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