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公开(公告)号：CN1310091C
公开(公告)日：2007-04-11
申请号：CN02824118.5
申请日：2002-11-29
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0397
Abstract: 本发明提供一种正型光刻胶组合物，其包含：(A)一种在主链中含有仅衍生自丙烯酸酯的单元的树脂组分，对于该树脂组分，其在碱中的溶解度在酸的作用下增大，和(B)一种通过曝光生成酸的酸生成剂组分，(C)一种有机溶剂组分，其中所述的树脂组分(A)是一种共聚物，所述共聚物包含(a1)一种衍生自丙烯酸酯的结构单元，其包含一种比2-甲基-2-金刚烷基更容易消除的多环溶解抑制基团作为侧链上的可酸离解的溶解抑制基团，(a2)一种衍生自丙烯酸酯的结构单元，其在侧链中包含一种含内酯的多环基团，和(a3)一种衍生自丙烯酸酯的结构单元，其在侧链中包含一种含羟基的多环基团；以及使用这种组合的光刻胶图案形成方法。
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公开(公告)号：CN1841199A
公开(公告)日：2006-10-04
申请号：CN200610007166.1
申请日：2002-11-29
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 提供了一种正型树脂组合物，它含有：(A)树脂组分，它在主链内含有(甲基)丙烯酸酯衍生的结构单元，并在酯基侧链部分结合了含有可被酸离解的、抑制溶解的基团的多环基团；(B)能在曝光时产生酸的产酸剂组分；及(C)有机溶剂，组分(A)含有：(甲基)丙烯酸酯衍生的结构单元，并包含含有可被酸离解的、抑制溶解的基团的多环基团；(甲基)丙烯酸酯衍生的结构单元，并包含含有内酯的单环基团或多环基团；(甲基)丙烯酸酯衍生的结构单元，并包含含有羟基的多环基团；组分(A)还含有结构单元(a4)，由(甲基)丙烯酸酯衍生并含有多环基团，此多环基团不同于含有可被酸离解的、抑制溶解的基团的多环基团、含有内酯的单环基团或多环基团、或含有羟基的多环基团。
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公开(公告)号：CN1800846A
公开(公告)日：2006-07-12
申请号：CN200510137592.2
申请日：2004-01-27
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G01N33/00 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70616 , G03F7/0382 , G03F7/0397 , G03F7/70341 , Y10S430/106 , Y10S430/111
Abstract: 一种在包括浸渍曝光的抗蚀剂图案形成方法中使用的抗蚀剂组合物的评价方法，该方法包括：由抗蚀剂组合物形成抗蚀剂膜，将该膜选择性曝光，其后使在浸渍曝光中使用的浸渍溶剂与膜接触，将如此得到的膜曝光后烘焙，接着将膜显影，以及评价得到的抗蚀剂图案。
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公开(公告)号：CN117939914A
公开(公告)日：2024-04-26
申请号：CN202311339880.0
申请日：2023-10-17
Applicant: 东京应化工业株式会社
Inventor： 岩井武
IPC: H10K50/86 , H10K50/115 , H10K59/121 , H10K59/80 , H10K59/12 , H10K71/00
Abstract: 本发明涉及结构体、显示元件、隔壁用图案及其形成方法。课题是提供能够抑制蓝色光的杂散光导致的子像素间混色的在子像素的至少一部分中埋入颜色不同的发光体而得的显示元件的隔壁用图案、具备该隔壁用图案的结构体、具备该结构体的显示元件及隔壁用图案的形成方法。解决手段为隔壁用图案，其是在子像素的至少一部分中埋入颜色不同的发光体而得的显示元件的隔壁用图案，具备：透明基板；在透明基板上进行图案化而形成的、具有开口部的黑色矩阵；和设置于黑色矩阵上的隔壁，隔壁的光程长度10μm时的透过率在波长440nm～470nm的范围内为30％以下，在波长520nm～700nm的范围内为50％以上。
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公开(公告)号：CN110462380B
公开(公告)日：2022-05-24
申请号：CN201880021278.3
申请日：2018-03-28
Applicant: 国立大学法人横浜国立大学 , 东京应化工业株式会社
IPC: G01N21/41
Abstract: 本发明公开了一种氢检测用元件，将储氢金属以规定的形状以及大小配置于基材，基于由入射的光而感应的表面等离子共振对氢进行检测。储氢金属由包括钯与贵金属的膜体形成。通过了储氢的储氢金属的光的光谱在偏离于二氧化碳相对于光的吸收光谱(C1)与水相对于光的吸收光谱(H1～H3)的波长带宽具有峰。
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公开(公告)号：CN111971165A
公开(公告)日：2020-11-20
申请号：CN201980024859.7
申请日：2019-04-03
Applicant: 东京应化工业株式会社 , 辉创株式会社
IPC: B29C65/16 , B23K26/342
Abstract: 本发明提供一种在接合金属基材与树脂部件时，使用含有金属粉末、粘合剂与有机溶剂的覆层用组合物。并且使用具有以下工序的金属/树脂接合部件的制造方法：在金属基材的至少一部分涂布该覆层用组合物的工序；对金属基材中的该覆层用组合物的涂布部照射激光的工序；在金属基材中的激光照射部上配置树脂部件的工序；加热激光照射部与树脂部件的界面从而将金属基材与树脂部件接合的工序。
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公开(公告)号：CN111595825A
公开(公告)日：2020-08-28
申请号：CN202010097888.0
申请日：2020-02-17
Applicant: 国立大学法人横浜国立大学 , 东京应化工业株式会社
IPC: G01N21/552
Abstract: 本发明涉及纳米结构体阵列、氢检测用元件及氢检测装置。纳米结构体阵列，其具备基体、和形成于该基体上的纳米结构体，且所述纳米结构体阵列排列有多个上述纳米结构体，上述纳米结构体由存在表面等离振子、且具有吸藏及释放氢的性质的金属形成，上述基体由与氢反应而从导体可逆地向电介质变化的氢响应性材料形成，通过入射至上述纳米结构体的光而发生表面等离振子共振。
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公开(公告)号：CN101644896B
公开(公告)日：2012-12-05
申请号：CN200910164463.0
申请日：2003-12-18
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: B01D61/58 , B01D69/02 , B01D71/26 , B01D71/56 , G03F7/0397 , G03F7/16 , G03F7/162
Abstract: 本发明提供了能够获得可以抑制显影后抗蚀图案的疵点的光致抗蚀剂组合物的技术。另外，为了提供能获得杂质时效特性(保存稳定性)优良的光致抗蚀剂组合物的技术，并提供能获得处理前后不易引起感光度和抗蚀图案尺寸变化的光致抗蚀剂组合物的技术，而进行了下述的光致抗蚀剂组合物的制造方法，该方法具有使光致抗蚀剂组合物通过设置有在pH7.0的蒸馏水中具有-20mV以上、15mV以下ζ电位的第1膜的第1过滤器的工序，其中所述光致抗蚀剂组合物含有树脂成分(A)、由曝光产生酸的酸产生剂成分(B)和有机溶剂(C)。
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公开(公告)号：CN101644896A
公开(公告)日：2010-02-10
申请号：CN200910164463.0
申请日：2003-12-18
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: B01D61/58 , B01D69/02 , B01D71/26 , B01D71/56 , G03F7/0397 , G03F7/16 , G03F7/162
Abstract: 本发明提供了能够获得可以抑制显影后抗蚀图案的疵点的光致抗蚀剂组合物的技术。另外，为了提供能获得杂质时效特性(保存稳定性)优良的光致抗蚀剂组合物的技术，并提供能获得处理前后不易引起感光度和抗蚀图案尺寸变化的光致抗蚀剂组合物的技术，而进行了下述的光致抗蚀剂组合物的制造方法，该方法具有使光致抗蚀剂组合物通过设置有在pH7.0的蒸馏水中具有-20mV以上、15mV以下ζ电位的第1膜的第1过滤器的工序，其中所述光致抗蚀剂组合物含有树脂成分(A)、由曝光产生酸的酸产生剂成分(B)和有机溶剂(C)。
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公开(公告)号：CN100582938C
公开(公告)日：2010-01-20
申请号：CN200480018215.0
申请日：2004-06-28
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F220/18
Abstract: 一种正型抗蚀剂组合物，该抗蚀剂组合物包括在酸作用下显示增加的碱溶解度的树脂组分(A)、通过曝光生成酸的酸生成剂组分(B)和有机溶剂(C)。组分(A)具有：(i)结构单元(a1)，其含有可酸解离的、溶解抑制基团并且衍生自(甲基)丙烯酸酯，(ii)结构单元(a2)，其含有比结构单元(a1)中含有的可酸解离的、溶解抑制基团更不容易解离的可酸解离的、溶解抑制基团并且衍生自(甲基)丙烯酸酯，和(iii)结构单元(a3)，其含有内酯官能团并且衍生自(甲基)丙烯酸酯。
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