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公开(公告)号：CN1526852A
公开(公告)日：2004-09-08
申请号：CN03105058.1
申请日：2003-03-04
Applicant: 中国科学院物理研究所
IPC: C23C14/48
CPC classification number: C23C14/046 , C23C14/48 , H01J37/32009 , H01J37/32082 , H01J37/32541 , H05H1/46 , H05H2001/466
Abstract: 本发明涉及一种管状工件内表面改性的方法及其专用装置。该方法将管状工件置于加工室中，并将一柱状电极和一由周向均匀分布的电极丝制成的管状电极，由内至外同轴布置在管状工件内，将该两电极与射频电源接通，从而在加工室中产生一团沿轴向均匀分布的稳态射频等离子体，在管状工件和管状电极之间施加负高压的同时，使管状电极与管状工件之间作相对转动，从而比较均匀地将离子加速注入到管状工件内表面。本发明方法及其专用装置通过由周向均匀分布的电极丝制成的管状电极，以及使管状电极和管状工件之间的相对转动，消除了被改性的管状工件内表面的栅网阴影，使得改性的内表面更加均匀。另外，尤其适用于细长管状工件的改性。
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公开(公告)号：CN105122419B
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：CN201480013604.8
申请日：2014-03-17
Applicant: 星火工业有限公司
Inventor： 罗博特·S.·斯特博 , 丹尼尔·P.·门特 , 迈克尔·J.·思科斯 , 布瑞恩·E.·尤尔奇克
IPC: H01J33/00
CPC classification number: H01J37/32009 , H05H1/02 , H05H1/46 , H05H3/06 , H05H2001/466 , H05H2001/4667
Abstract: 本文中描述用于将电磁(EM)能量从远程就位的初级天线耦合到等离子体离子源的系统和方法。EM能量由第一结构辐射通过中间的次级天线。本文描述的实施例能够相对于初级天线将等离子体离子源提升到高电势的偏置值，其中初级天线可保持在接地电势值或其接近值。
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公开(公告)号：CN104996000A
公开(公告)日：2015-10-21
申请号：CN201380073180.X
申请日：2013-02-06
Applicant: 安赛乐米塔尔研究与发展有限责任公司
Inventor： 弗洛林·丹尼尔·多米尼克 , 文森特·勒克莱尔 , 埃里克·西尔伯伯格 , 阿兰·丹尼尔
CPC classification number: H01J37/32871 , C23C16/50 , H01J37/3244 , H01J37/32541 , H01J37/32568 , H01J37/32623 , H01J37/3266 , H01J37/32669 , H01J2237/3321 , H01J2237/3323 , H05H1/46 , H05H2001/466
Abstract: 本发明涉及一种用于在衬底(9)上沉积涂层的等离子体源(1)，该等离子体源可连接到电源(P)上并且包括：电极(2)；磁体组件(4)，相对于所述电极圆周放置并且包括一组磁体，该组磁体由磁性支架(46)相互连接，该组磁体包括第一和第二中间磁体(43、44)和至少一个头磁体(45)；以及电绝缘外壳(5)，被设置为包围电极和磁体。
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公开(公告)号：CN103039151B
公开(公告)日：2015-09-02
申请号：CN201210523536.2
申请日：2012-12-07
Applicant: 常州中科常泰等离子体科技有限公司 , 中国科学院南京土壤研究所
IPC: A01C1/00
CPC classification number: A01C1/08 , A01C1/00 , B01J19/088 , B01J2219/0847 , B01J2219/0869 , B01J2219/0879 , B01J2219/0896 , H05H1/46 , H05H2001/466 , H05H2240/20
Abstract: 本发明公开了一种冷等离子体种子处理设备，包括真空装置以及设置在真空装置内的放电装置和传输装置，在真空装置上设置有筒体进料口和筒体出料口，还包括一进料装置和一出料装置，进料装置包括第一进料斗和第二进料斗，第一进料斗和第二进料斗分别设置有进料盖、进料斗放气阀、进料斗出料口以及进料斗抽真空蝶阀，第一进料斗和第二进料斗的进料斗出料口以及筒体进料口分别通过一进料斗蝶阀与一三通管连接；在所述的第一进料斗和第二进料斗的进料斗抽真空蝶阀上连接有第一抽真空泵机组，出料装置包括第一出料斗和第二出料斗。本发明适用于处理各种作物的种子，处理成本低、速度快、无污染，且作物抗旱、抗病虫害等抗逆能力得到提高，增产效果显著。
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公开(公告)号：CN104379513A
公开(公告)日：2015-02-25
申请号：CN201480001535.9
申请日：2014-04-15
Applicant: 松下知识产权经营株式会社
CPC classification number: H05H1/48 , B01J19/088 , B01J19/2465 , B01J2219/00186 , B01J2219/0809 , B01J2219/0815 , B01J2219/0841 , B01J2219/0877 , B01J2219/0894 , C02F1/4608 , C02F1/4672 , C02F2001/46138 , C02F2103/002 , C02F2103/005 , C02F2103/023 , C02F2201/46 , C02F2201/4613 , C02F2201/46135 , C02F2201/4614 , H05H1/2406 , H05H1/46 , H05H2001/2412 , H05H2001/466 , H05H1/24
Abstract: 本公开提供效率良好地产生等离子体、能在短时间内进行液体的处理的液体处理装置以及液体处理方法。本公开的液体处理装置具备：第1电极；配置在液体中的第2电极；被设置成隔着空间包围第1电极，并在与该液体接触的位置具有开口部的绝缘体；和对第1电极与第2电极间施加交流电压或脉冲电压的电源。本公开的液体处理装置通过电源对第1电极与所述第2电极间施加电压来将空间内的液体气化，从而产生气体，在气体从开口部放出到液体中时进行放电，由此产生等离子体。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102355789B
公开(公告)日：2014-06-11
申请号：CN201110180474.5
申请日：2005-11-03
Applicant: 陶氏康宁爱尔兰有限公司
IPC: H05H1/24
CPC classification number: H05H1/46 , H05H2001/466 , H05H2001/4697 , H05H2240/10 , H05H2240/20
Abstract: 在等离子体处理表面的工艺中，在具有入口和出口的介电壳体内产生非平衡大气压等离子体，通过该壳体工艺气体从入口流向出口。在至少部分由介质材料形成的容管从壳体出口向外延伸，其中容管的末端形成等离子体出口。待处理的表面位于等离子体出口附近，使得表面与等离子体接触并相对于等离子体出口而移动。
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公开(公告)号：CN101534930B
公开(公告)日：2013-02-13
申请号：CN200780034250.5
申请日：2007-08-10
Applicant: CM技术有限公司
IPC: B01D53/32
CPC classification number: B01D53/323 , B01D2259/818 , B01J2219/0875 , B01J2219/0896 , C01B13/10 , C01B13/11 , F01N3/0892 , H05H1/46 , H05H2001/466
Abstract: 本发明提供了一种能够持久产生稳定和均匀等离子体的等离子体反应器。由于该反应器在由系统要求的位置具有允许在该系统中进行简单和有效安装和操作的结构，所以该反应器具有各种优点例如增大商业应用的范围。该反应器包括通过连续地堆叠正电极和负电极以及隔离物所构成的叠层以及设置在该叠层的一端用于固定该叠层的反应器体。利用隔离物交替地布置正电极和负电极以定义允许气体通过的通道。正电极和负电极的每个具有变形防止装置，用于分散电极的应力以及防止通过热膨胀和收缩所导致的局部热应力，由此增大抗热冲击性能。连接到正电极和负电极的外部端子设置在反应器体上。凸起在垂直于该叠层的堆叠方向的方向上形成于该反应器体的表面上从而反应器能够容易地固定到壳。
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公开(公告)号：CN102823331A
公开(公告)日：2012-12-12
申请号：CN201080065601.0
申请日：2010-02-17
Applicant: 视觉动力控股有限公司
Inventor： 保卢斯·佩特鲁斯·玛利亚·布洛姆 , 阿尔昆·阿方斯·伊丽莎白·史蒂文斯 , 劳伦西亚·约翰娜·回吉布雷格特斯 , 雨果·安东·玛丽·德哈恩 , 安东尼尔斯·休伯特斯·万斯基恩戴尔 , 埃德温·特斯莱格特 , 尼古拉斯·克尼里斯·约瑟夫斯·万海宁根 , 汤姆·惠斯卡姆普
CPC classification number: H05H1/46 , C23C16/042 , C23C16/503 , C23C16/509 , H05H1/24 , H05H1/44 , H05H2001/466
Abstract: 用于在衬底附近产生用于图案化衬底表面的等离子体放电的设备，包括：具有第一放电部分的第一电极和具有第二放电部分的第二电极、在第一电极和第二电极之间产生高电压差的高压源、和相对于衬底定位第一电极的定位装置。该设备还具有中间结构，在使用时，该中间结构设置在第一电极和衬底之间，同时相对于衬底定位第一电极。
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公开(公告)号：CN101112132B
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN200580047253.3
申请日：2005-12-02
Applicant: 株式会社丰田自动织机 , 国立大学法人爱媛大学
CPC classification number: B01J19/088 , B01J2219/0809 , B01J2219/0835 , B01J2219/0877 , H05H1/46 , H05H1/48 , H05H2001/466
Abstract: 根据本发明的液体中等离子电极1是在液体L中产生等离子的液体中等离子电极，具有导电元件11和绝缘元件16，其导电元件11具有与液体L接触的放电端表面111，其绝缘元件16覆盖导电元件11的至少除放电端表面111之外的外围。d和x优选满足-2d≤x≤2d，其中当具有放电端表面11的导电元件11的导电端部分110具有大致的圆形横截面时，d是横截面短轴的长度，或者，当导电端部分110具有大致的矩形横截面时，d是横截面短边的长度，而当参照平面161是与放电端表面111大致平行的绝缘元件16的端表面161时，x是从参照平面161到含有放电端表面111的平面的距离。由于该结构，可提供能在多种液体，包括导电液体，例如水和醇中简便地产生等离子的液体中等离子电极，还有具有这种电极的液体中等离子产生装置和采用这种电极的液体中等离子产生方法。
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公开(公告)号：CN101645386A
公开(公告)日：2010-02-10
申请号：CN200910164075.2
申请日：2009-08-07
Applicant: 克朗斯股份公司
CPC classification number: C23C16/509 , A61L2/14 , C23C16/045 , C23C16/54 , H01J37/32009 , H01J37/32366 , H01J37/3244 , H01J37/32541 , H05H1/46 , H05H2001/466
Abstract: 本发明涉及一种用于对中空体进行等离子体处理的设备，其包括真空处理室和用于产生等离子体的装置，其中，该设备的特征在于：用于产生等离子体的装置包括设置在真空处理室中的基本为U形剖面的电极，当进行等离子体处理时中空体至少部分置入所述U形电极中，并且该中空体至少暂时地相对于U形电极移动。此外，本发明涉及用于对中空体进行等离子体处理的方法，其中，将所述中空体移入真空处理室中，在其中进行等离子体处理，并且所述等离子体是通过电磁场产生的，所述方法的特征在于当进行等离子体处理时将中空体至少部分置入电磁场中，以及所述中空体至少暂时地相对于电磁场移动。
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