公开(公告)号：CN110709161A

公开(公告)日：2020-01-17

申请号：CN201880021509.0

申请日：2018-03-16

Applicant: 东丽工程株式会社

Inventor： 井中千草 ,  丹羽主 ,  岩出卓 ,  中北和德

IPC: B01J14/00 ,  B01J4/02

Abstract: 本发明涉及用于选择性地输送多种溶液而进行化学合成的合成装置，提供改善溶液的利用效率、装置结构简化、可靠性高的合成装置。另外，提供准确地进行溶液的计量以改善溶液的利用效率的计量机构。具体地，合成装置(3)具有：多个导出管(6)，它们分别从收纳有溶液的多个收纳容器(2)设置；送液单元(24)，其通过导出管(6)进行输送；反应容器(9)，所输送的溶液进入该反应容器而生成合成物；以及计量机构(15)，其在收纳容器(2)与反应容器(9)之间设置于整体流路(25)的中途，对向反应容器(9)输送的溶液进行计量。并且，计量机构(15)选择性地获取多种溶液而进行计量。计量机构(15)具有：保持部(27)，其对导出管(6)的下游侧端部(6a)侧进行保持；计量容器(7)，其接受从下游侧端部(6a)流出的溶液；以及重量传感器(26)，其对计量容器(7)中的重量进行测量。

公开(公告)号：CN105983511B

公开(公告)日：2019-07-23

申请号：CN201610148078.7

申请日：2016-03-15

Applicant: 东丽薄膜先端加工有限公司 ,  东丽工程株式会社

Inventor： 谷野圣 ,  谷尚树 ,  岸谷征典 ,  木田威

IPC: B05C5/02

Abstract: 本发明的目的在于提供一种涂布装置和涂布方法，即使提高基材的搬运速度，并且使涂布膜的膜厚变薄，该涂布装置和该涂布方法也能够稳定地保持液珠，从而能够稳定地形成均匀的涂布膜。本发明的涂布装置具备狭缝模(10)和减压单元(20)，狭缝模(10)具有用来喷出涂布液的喷出用狭缝(13)，减压单元(20)设在狭缝模(10)的上游侧，减压单元(20)具备减压用狭缝(21)和减压室(22)，减压用狭缝(21)与喷出用狭缝(13)相邻而设，减压室(22)与减压用狭缝(21)相连结，喷出用狭缝(13)的开口面的上游侧缘部(13a)与减压用狭缝(21)的开口面(21a)的下游侧缘部(21b)之间的距离(L)小于1.0mm，减压用狭缝(21)的开口宽度(W)小于1.0mm。

公开(公告)号：CN105413957B

公开(公告)日：2019-06-21

申请号：CN201510593961.2

申请日：2015-09-17

Applicant: 东丽工程株式会社

Inventor： 堀内展雄 ,  伊藤祯彦

IPC: B05C5/02 ,  B05D1/26

Abstract: 涂布器、涂布装置和涂布方法。提供一种涂布器，能够迅速地将积存在涂布器内的气泡排出到外部。本发明的涂布器具有：第1供给口(31)，其供给涂布液；第1歧管(11)，其与第1供给口(31)连接；喷出缝(22)，其喷出涂布液；第2歧管(12)，其与喷出缝(22)连接；以及连结节流流路(21)，其连结第1歧管(11)和第2歧管(12)，第1歧管(11)连接有将积存在第1歧管(11)内的气泡排出到外部的第1排出口(41)，第2歧管(12)连接有供给涂布液的第2供给口(32)和将积存在第2歧管(12)内的气泡排出到外部的第2排出口(42)。

公开(公告)号：CN107075680B

公开(公告)日：2019-05-28

申请号：CN201580048757.0

申请日：2015-10-29

Applicant: 东丽工程株式会社

Inventor： 山下雅充 ,  藤元高佳 ,  森诚树

IPC: C23C16/505 ,  B32B7/02 ,  H01L21/316 ,  H01L31/048

Abstract: 本发明提供能够稳定地形成具有高阻隔性的密封膜的密封膜形成方法。具体地说，本发明涉及在基材(2)上进行缓冲层(M1)和密度高于缓冲层(M1)的阻隔层(M2)的交替成膜而形成密封膜的密封膜的形成方法，该方法具有下述工序：在基材(2)的表面形成第1缓冲层(M1a)的第1缓冲层成膜工序；在第1缓冲层(M1)的表面形成阻隔层(M2)的第1阻隔层成膜工序；以及在第1阻隔层形成工序中形成的阻隔层(M2)的表面形成第2缓冲层(M1b)的第2缓冲层成膜工序，与第2缓冲层(M1b)中的在与基材(2)的厚度方向倾斜的方向成膜的部分的膜厚相对于在该厚度方向成膜的部分的膜厚的比例相比，第1缓冲层(M1a)中的在与上述厚度方向倾斜的方向成膜的部分的膜厚相对于在上述厚度方向成膜的部分的膜厚的比例更接近于1。

公开(公告)号：CN109478523A

公开(公告)日：2019-03-15

申请号：CN201780044105.9

申请日：2017-05-08

Applicant: 东丽工程株式会社

Inventor： 村田浩之

IPC: H01L21/66 ,  G01N21/88

Abstract: 提供缺陷检查装置，能够使检查对象的拍摄范围可变，并且虽然采用了简单的装置结构，但能够迅速且可靠地进行缺陷的检查，还能够防止缺陷的扩展。具体而言，该缺陷检查装置对产生于宽带隙半导体基板的缺陷进行检查，该缺陷检查装置具有激发光照射部和荧光拍摄部，在荧光拍摄部中具有多个观察倍率不同的物镜，并且具有对该多个物镜中的任意一个进行选择切换的拍摄倍率切换部，在激发光照射部中具有对激发光的照射范围和能量密度进行变更的照射倍率变更部，该缺陷检查装置具有控制部，该控制部根据在拍摄倍率切换部中所选择的物镜的观察倍率，对照明倍率变更部中的激发光的照射范围和能量密度进行变更。

公开(公告)号：CN104649015B

公开(公告)日：2018-12-11

申请号：CN201410639844.0

申请日：2014-11-13

Applicant: 东丽工程株式会社

Inventor： 滨川健史 ,  奥田哲也

IPC: B65G54/00

Abstract: 本发明提供一种基板浮起装置，该基板浮起装置能够始终使基板以一定的浮起高度浮起。基板浮起装置(1)具有：浮起板(10)，其具有多个喷出口(11)和抽吸口(12)；正压供给源(20)，其对喷出口(11)供给气体；正压配管(21)，其连接喷出口(11)和正压供给源(20)；负压供给源(30)，其对抽吸口(12)供给抽吸力；以及负压配管(31)，其连接抽吸口(12)和负压供给源(30)，其中，在正压配管(21)和负压配管(31)上设置有缓冲罐(24)和缓冲罐(34)。

公开(公告)号：CN108700531A

公开(公告)日：2018-10-23

申请号：CN201780014814.2

申请日：2017-01-04

Applicant: 东丽工程株式会社

Inventor： 山本比佐史

IPC: G01N21/956 ,  H01L21/66

Abstract: 提供一种能够抑制缺陷的漏检或缺陷的误检的缺陷检查装置。具体地说，所述缺陷检查装置(100)具有控制部(50)，所述控制部(50)根据由摄像部(40)拍摄的元件芯片(70)的图像来检测元件芯片(70)的周缘区域(72)的外侧的边缘(74)和有效区域(71)，并根据所检测出的周缘区域(72)的外侧的边缘(74)和有效区域(71)来决定用于检查元件芯片(70)的缺陷的检查区域(75)，通过比较与元件芯片(70)的检查区域(75)相对应的图像和预先存储的合格的元件芯片(70)的图像来检测元件芯片(70)的缺陷。

公开(公告)号：CN105103533B

公开(公告)日：2018-05-25

申请号：CN201480018385.2

申请日：2014-02-21

Applicant: 东丽工程株式会社

Inventor： 大久保宪治 ,  井中千草

IPC: H04N5/225 ,  G01B11/00 ,  G01N21/956 ,  G06T1/00 ,  H04N1/19

CPC classification number: G01N21/8901 ,  G01N21/956

Abstract: 不依赖摄像机的摄像特性、高速地对工件进行摄像。具体而言，在一边使由多台具有线传感器的摄像机构成的摄像单元和对工件进行保持的保持台以规定的移动速度相对地水平移动一边对该工件进行摄像的摄像过程中，根据摄像机的台数将移动速度调整为比由线传感器的分辨率和扫描频率所决定的最佳移动速度快的速度，根据摄像机的台数均等地分割扫描频率，将该扫描频率轮流分配给摄像机，一边重复在各扫描频率的起始点进行摄像机的快门开启、并且将摄像机的曝光时间调整到各扫描频率内的循环，一边对所述工件进行摄像，并根据由摄像机取得的亮度值对工件的图像进行重构。

公开(公告)号：CN103506238B

公开(公告)日：2017-05-24

申请号：CN201310244298.6

申请日：2013-06-19

Applicant: 东丽工程株式会社

Inventor： 堀内展雄

IPC: B05B15/02 ,  B05C11/10 ,  B05C5/00

Abstract: 本发明提供能够强有力地去除粘着在唇上的粘着物且价格低廉的洗涤装置和洗涤方法。该洗涤装置(4)包括：洗涤单元(5)；洗涤液供给口(14)，其供给用于洗涤唇面(23)的洗涤液，通过移动装置(6)使洗涤单元和洗涤液供给口向唇面的长尺寸方向移动的同时对唇面进行洗涤，洗涤单元包括超声波振动部(11)，在该超声波振动部上安装有超声波振子(15)且形成有对向槽(13)，通过使对向槽和唇面接近，并从洗涤液供给口向该对向槽和唇面的间隙供给洗涤液，由此形成浸渍部(19)，并在该状态下通过使超声波振动部产生超声波振动来进行对唇面的部分洗涤，进而通过使洗涤单元和洗涤液供给口向所述长尺寸方向移动，使唇面沿长尺寸方向被洗涤。

公开(公告)号：CN106684014A

公开(公告)日：2017-05-17

申请号：CN201610579895.8

申请日：2016-07-21

Applicant: 东丽工程株式会社

Inventor： 滨川健史 ,  奥田大辅 ,  森俊裕 ,  冈本贯志

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/67 ,  H01L21/677 ,  H01L21/67703

Abstract: 提供基板浮起输送装置，即使对于宽度方向上尺寸大的宽幅基板也能够一边高精度地维持平面度一边进行输送。该基板浮起输送装置具有：浮起载台部，其在输送方向上延伸，使基板浮起于基板浮起面上；以及基板保持部，其对浮起于基板浮起面上的基板进行保持，基板保持部在对浮起于基板浮起面上的状态的基板进行保持的状态下沿着输送方向进行移动，由此基板在浮起于基板浮起面上的状态下被输送，在浮起载台部与基板保持部之间具有辅助浮起支承部，在对宽度方向尺寸比基准大小的基板大的宽幅基板进行输送的情况下，辅助浮起支承部使从基板浮起面在宽度方向上伸出的宽幅基板的伸出区域浮起，宽度方向与输送方向垂直。