公开(公告)号：CN102310410B

公开(公告)日：2014-05-07

申请号：CN201110184412.1

申请日：2011-06-29

Applicant: 芝浦机械电子株式会社

Inventor： 古矢正明

IPC: B25J15/00 ,  B25J9/00 ,  H01L21/687 ,  H01L21/677

CPC classification number: B25J15/00 ,  B25J11/0095 ,  H01L21/67766 ,  H01L21/67778 ,  H01L21/67781 ,  H01L21/68707 ,  Y10S414/141 ,  Y10S901/32 ,  Y10S901/36 ,  Y10S901/38 ,  Y10S901/39

Abstract: 本发明提供夹持装置、输送装置、处理装置和电子设备的制造方法。夹持装置具有夹持部，所述夹持部包括：第一夹持板，具有与被处理物的周向边缘抵接的第一夹持件；以及第二夹持板，具有与所述周向边缘抵接的第二夹持件，并且所述夹持部使所述第一夹持板和所述第二夹持板中的至少一个移动，以使所述第一夹持件和所述第二夹持件彼此接近或离开。夹持装置还包括：升降部，使所述夹持部升降；以及动作控制部，控制由所述夹持部进行的开闭动作和由所述升降部进行的升降动作。而且，所述动作控制部以机械方式依次控制第一升降动作、所述开闭动作和第二升降动作，所述第二升降动作与所述第一升降动作的升降方向相同。

公开(公告)号：CN112951750B

公开(公告)日：2024-02-27

申请号：CN202110213053.1

申请日：2017-03-31

Applicant: 芝浦机械电子株式会社

Inventor： 古矢正明

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/687 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明涉及基板输送装置、基板处理装置和基板处理方法，能够缩短基板输送时间。作为实施方式的基板输送装置发挥功能的第2输送机器人(14)具备：第1把持板(21)；第1爪部(21b)，被该第1把持板支撑，相对于第1把持板的表面在上下具有与基板(W)的外周面抵接的抵接面；第2把持板(22)，被设置成与第1把持板重叠；第2爪部(22b)，被该第2把持板支撑，相对于第1把持板的表面在上下具有与基板的外周面抵接的抵接面；和把持部(23)，以使第1爪部以及第2爪部在与基板的外周面相交的方向上接近或分离的方式，使第1把持板以及第2把持板相对移动。

公开(公告)号：CN109585339B

公开(公告)日：2023-05-23

申请号：CN201811145723.5

申请日：2018-09-29

Applicant: 芝浦机械电子株式会社

Inventor： 古矢正明 ,  森秀树

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677

Abstract: 本发明提供一种能够提高生产性的基板处理装置及基板处理方法。实施方式的基板处理装置(10)具有：开闭单元(11)，作为收纳基板(W)的收纳容器发挥作用；多个处理室(17a)，用于对基板(W)进行处理；缓冲单元(14)，位于开闭单元(11)和处理室(17a)之间，作为用于放置在处理室(17a)进行了处理的基板(W)或者未处理的基板(W)的交接台发挥作用；第2输送机器人(15)，作为从缓冲单元(14)输送基板(W)的输送部发挥作用；以及移动机构(16)，根据与基板(W)的处理相关的基板处理信息，使缓冲单元(14)及第2输送机器人(15)沿多个处理室(17a)排列的列方向单独移动。

公开(公告)号：CN110323159A

公开(公告)日：2019-10-11

申请号：CN201910248042.X

申请日：2019-03-29

Applicant: 芝浦机械电子株式会社

Inventor： 古矢正明

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明的目的是提供一种能够缩短在基板处理中花费的整体时间的基板处理装置。有关实施方式的基板处理装置(1)具备：多个夹紧部(3d)，设置为以基板旋转轴(A1)为中心与旋转板(3c)一起旋转，以各个销旋转轴(A2)为中心旋转，由各个销(21)把持基板(W)；同步环(外轮(24a)及母齿轮(3f))，设置为以基板旋转轴(A1)为中心与旋转板(3c)一起及单独地旋转，使各个夹紧部(3d)以各个销旋转轴(A2)为中心同步地旋转；惯性环(44)，设置为以基板旋转轴(A1)为中心与旋转板(3c)一起及单独地旋转；以及连杆臂(46)，以使同步环的以基板旋转轴(A1)为中心的惯性力矩及惯性环(44)的以基板旋转轴(A1)为中心的惯性力矩均衡的方式使同步环及惯性环(44)联接。

公开(公告)号：CN108140572A

公开(公告)日：2018-06-08

申请号：CN201680058403.9

申请日：2016-09-30

Applicant: 芝浦机械电子株式会社

Inventor： 宫崎邦浩 ,  古矢正明 ,  林航之介 ,  山崎克弘 ,  齐藤裕树 ,  古川长树

IPC: H01L21/306

CPC classification number: H01L21/306

Abstract: 一种处理至少形成有氮化膜和氧化膜的基板的基板处理装置，所述基板处理装置具有：磷酸水溶液贮留部，其将磷酸水溶液贮留；磷酸水溶液供给部，其通过磷酸水溶液供给配管将磷酸水溶液供给至所述磷酸水溶液贮留部；二氧化硅添加剂供给部，其通过二氧化硅添加剂供给配管将二氧化硅添加剂供给至所述磷酸水溶液贮留部；水供给部，其通过水供给配管将水供给至所述磷酸水溶液贮留部；和处理部，其通过贮留在所述磷酸水溶液贮留部中的所述磷酸水溶液来处理所述基板；所述二氧化硅添加剂供给配管连接在所述水供给配管的中途，即使是使用了二氧化硅添加剂的处理，也可以用适当的二氧化硅浓度来实行基板处理。

公开(公告)号：CN107275270A

公开(公告)日：2017-10-20

申请号：CN201710206582.2

申请日：2017-03-31

Applicant: 芝浦机械电子株式会社

Inventor： 古矢正明

IPC: H01L21/677

Abstract: 本发明涉及基板输送装置、基板处理装置和基板处理方法，能够缩短基板输送时间。作为实施方式的基板输送装置发挥功能的第2输送机器人(14)具备：第1把持板(21)；第1爪部(21b)，被该第1把持板支撑，相对于第1把持板的表面在上下具有与基板(W)的外周面抵接的抵接面；第2把持板(22)，被设置成与第1把持板重叠；第2爪部(22b)，被该第2把持板支撑，相对于第1把持板的表面在上下具有与基板的外周面抵接的抵接面；和把持部(23)，以使第1爪部以及第2爪部在与基板的外周面相交的方向上接近或分离的方式，使第1把持板以及第2把持板相对移动。

公开(公告)号：CN102956531B

公开(公告)日：2015-10-14

申请号：CN201210286785.4

申请日：2012-08-13

Applicant: 芝浦机械电子株式会社

Inventor： 古矢正明 ,  田内丰泰

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种被处理物的处理系统及被处理物的处理方法，该被处理物的处理系统具备：收纳部，收纳被处理物；处理部，对所述被处理物实施处理；承载部，在层叠方向上隔着第1间隔具有多个承载所述被处理物的保持部；第1搬送部，在所述收纳部与所述承载部之间进行所述被处理物的搬送，在所述层叠方向上的第1位置进入所述承载部；及第2搬送部，在所述处理部与所述承载部之间进行所述被处理物的搬送，在所述层叠方向上的与所述第1位置不同的第2位置进入所述承载部。而且，所述第1位置夹着所述第2位置在所述层叠方向上设置有2处，所述第1搬送部与所述第2搬送部能够同一时候进入所述承载部。

公开(公告)号：CN104465359A

公开(公告)日：2015-03-25

申请号：CN201410497873.8

申请日：2014-09-25

Applicant: 芝浦机械电子株式会社

Inventor： 古矢正明

IPC: H01L21/304 ,  B05C13/00

CPC classification number: G03F7/162 ,  G03F7/3021 ,  G03F7/42 ,  H01L21/68728 ,  H01L21/67011 ,  B05C9/08 ,  B05C11/08 ,  B05C13/00

Abstract: 一种自旋处理装置，能够抑制灰尘的发生及夹持时的基板位置的偏移。实施方式的自旋处理装置使基板旋转来进行处理，具备：至少三个夹持销，分别与基板的外周面抵接来把持基板；能够旋转的多个销旋转体，对各夹持销分别设置该销旋转体，该销旋转体将夹持销从与基板的旋转轴平行的该销旋转体本身的旋转轴偏心地进行保持；多个磁齿轮，该磁齿轮按各销旋转体分别设置在该销旋转体的外周面上，磁极沿着销旋转体的旋转轴的轴方向形成为螺旋状；多个旋转用磁铁，对各磁齿轮分别设置该旋转用磁铁，该旋转用磁铁被定位成与磁齿轮的磁极相互吸引；以及移动机构，使多个旋转用磁铁沿着销旋转体的旋转轴的轴方向移动。

公开(公告)号：CN102842525A

公开(公告)日：2012-12-26

申请号：CN201210243147.4

申请日：2012-06-21

Applicant: 芝浦机械电子株式会社 ,  株式会社东芝

Inventor： 古矢正明 ,  石见宗宪 ,  和歌月尊彦 ,  近藤正纪 ,  山田胜哉

IPC: H01L21/67 ,  H05B3/34 ,  B01D46/12

CPC classification number: H01L21/67103 ,  B01D46/10 ,  B01D46/4263 ,  B01D2273/30 ,  H05B3/283 ,  H05B2203/022

Abstract: 本发明提供加热器单元、使用该加热器单元的风扇过滤器单元、使用该风扇过滤器单元的基板处理装置，可以使通过加热器单元内的空气均匀且效率高地加热，并且可以抑制从加热器对配置在加热器单元周围的部件的热传递。实施方式所涉及的加热器单元(15)包括：将线状发热体(26)弯曲成平面状而形成的平面状加热器(22)；以导热性高的材料形成为网状并且在平面状加热器(22)的至少一面侧与该平面状加热器(22)相对配置的第一网状体(23)；以及以比第一网状体(23)的导热性低的材料形成为网状并且与第一网状体(23)的与平面状加热器(22)相对的面的相反侧的面相对配置的第二网状体(24、25)。