公开(公告)号：CN115038549A

公开(公告)日：2022-09-09

申请号：CN202180012632.8

申请日：2021-06-10

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 许昆 ,  B·切里安 ,  钱隽 ,  K·L·什里斯塔

IPC: B24B49/02 ,  B24B49/10 ,  B24B37/10 ,  G06N3/08 ,  H01L21/67

Abstract: 一种训练神经网络的方法包括获得测试基板的两个地表实况厚度轮廓，当测试基板在不同厚度的研磨垫上时获得通过原位监测系统测量的测试基板的两个厚度轮廓，通过在两个轮廓之间内插来产生针对在两个厚度值之间的另一厚度值的估计的厚度轮廓，以及使用估计的厚度轮廓来训练神经网络。

公开(公告)号：CN111699074A

公开(公告)日：2020-09-22

申请号：CN201980012030.5

申请日：2019-12-18

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 锡瓦库马尔·达丹帕尼 ,  托马斯·李 ,  钱隽

IPC: B24B37/005 ,  B24B37/20 ,  H01L21/67 ,  H01L21/306

Abstract: 一种产生矩阵以将化学机械抛光系统的多个可控制参数与抛光速率分布相关的方法包括抛光测试基板。使用将第一参数设置为第一值的基线参数值，来针对第一时间段抛光测试基板，并且使用将第一参数设置为修改的第二值的第一修改参数值，来针对第二时间段抛光测试基板。在抛光期间监控测试基板的厚度，并且针对第一时间段决定基线抛光速率分布，并且针对第二时间段决定第一修改抛光速率分布。基于基线参数值、第一修改参数、基线抛光速率分布和第一修改抛光速率分布，来计算矩阵。

公开(公告)号：CN111246970A

公开(公告)日：2020-06-05

申请号：CN201980005214.9

申请日：2019-03-28

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 徐坤 ,  丹尼斯·伊万诺夫 ,  哈里·Q·李 ,  钱隽

IPC: B24B37/005 ,  B24B37/20 ,  B24B49/10 ,  H01L21/304 ,  H01L21/67

Abstract: 针对传感器的每次扫描，从原位监测系统所接收的数据包括层上的多个不同位置的多个测量到的信号值。基于来自该原位监测系统的该数据确定抛光垫的厚度。针对每次扫描，基于该抛光垫的该厚度来调整该些测量到的信号值的一部分。针对多次扫描中的每次扫描和多个不同位置中的每个位置，生成表示该位置处的该层的厚度的值。此举包括使用由机器学习来构造的一个或多个处理器来处理这些调整后信号值。基于表示该多个不同位置处的该些厚度的该些值来检测抛光终点或更改抛光参数。