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公开(公告)号：CN113167948A
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN201980081505.6
申请日：2019-12-05
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 约瑟夫·C·奥尔森 , 摩根·埃文斯 , 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森
IPC: G02B5/18
Abstract: 本文中所述的实施方式涉及方法及装置，这些方法及装置用于使用成角度蚀刻系统及/或光学设备来在基板上形成具有带有不同斜角的多个鳍片的光栅及在相继的基板上形成带有不同斜角的鳍片。这些方法包括以下步骤：将固位在工作台上的基板的部分定位在离子束的路径中。这些基板具有设置在这些基板上的光栅材料。该离子束被配置为相对于这些基板的表面法线用离子束角Q接触该光栅材料及在该光栅材料中形成光栅。
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公开(公告)号：CN113039627A
公开(公告)日：2021-06-25
申请号：CN201980073367.7
申请日：2019-10-18
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森 , 约瑟夫·C·奥尔森 , 摩根·埃文斯
IPC: H01L21/265 , H01L21/768 , H01L21/3065 , H01L21/033 , H01L21/311
Abstract: 本文论述的系统和方法能够用于在单一基板上遍及光栅材料上形成处于各种倾斜角的光栅，这是通过下述方式实现的：确定离子束角度，以及将离子束的角度在多个离子束角度之间改变，从而形成具有变化的角度和截面几何形状的多个光栅。所述基板能够绕着中心轴旋转，并且能够调控一个或多个工艺参数(诸如离子束的占空比)，从而形成具深度梯度的光栅。
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公开(公告)号：CN112513688A
公开(公告)日：2021-03-16
申请号：CN201980047037.0
申请日：2019-07-01
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 摩根·埃文斯 , 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森
IPC: G02B5/18
Abstract: 公开一种具有光栅结构的设备和用于形成所述设备的方法。所述光栅结构包括在光栅层中形成凹部。在所述光栅层中形成多个通道，以在所述光栅层中限定斜向光栅结构。所述凹部和斜向光栅结构是使用选择性蚀刻工艺形成的。
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公开(公告)号：CN110709775A
公开(公告)日：2020-01-17
申请号：CN201880035227.6
申请日：2018-07-11
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森 , 史蒂文·韦尔韦贝克 , 约瑟夫·R·约翰逊
IPC: G03F7/20 , G03F1/80 , G03F7/00 , H01L21/027
Abstract: 本文描述的实施方式整体涉及一种波导和一种产生波导的方法。在一个实施方式中，本文公开了一种形成波导的方法。形成反转母衬底，所述反转母衬底具有从所述反转母衬底延伸的多个凸起。在所述反转母衬底的顶表面上形成高折射率材料。在所述高折射率材料的顶表面上设置玻璃层。从所述高折射率材料移除所述反转母衬底。
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公开(公告)号：CN113196453B
公开(公告)日：2025-01-24
申请号：CN201980082070.7
申请日：2019-12-06
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 约瑟夫·C·奥尔森 , 卢多维克·戈代 , 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森 , 摩根·埃文斯 , 傅晋欣
IPC: H01L21/265 , H01L21/67 , H01L23/538
Abstract: 本公开内容的多个实施方式涉及一种用于在基板上形成装置的系统和方法。例如，一种用于在基板上形成装置的方法可以包括从一个或多个离子束腔室投射一个或多个离子束，以在基板的第一表面上形成一个或多个装置，以及从一个或多个离子束腔室投射一个或多个离子束，以在基板的第二表面上形成一个或多个装置。在这些实施方式中，第一表面和第二表面在基板的相对侧上。因此，离子束可以在基板的两侧上形成装置。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113195151B
公开(公告)日：2024-04-16
申请号：CN201980082330.0
申请日：2019-12-05
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 约瑟夫·C·奥尔森 , 摩根·埃文斯 , 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森
IPC: G02B5/18
Abstract: 本文中所述的实施方式涉及方法及装置，这些方法及装置用于使用成角度蚀刻系统和/或光学设备来在基板上形成具有带有不同斜角的多个鳍片的光栅以及在相继的基板上形成带有不同斜角的鳍片。这些方法包括以下步骤：将保持在工作台上的基板的那些部分定位在离子束的路径中。这些基板具有设置在这些基板上的光栅材料。该离子束被配置为相对于这些基板的表面法线以离子束角θ接触该光栅材料并且在该光栅材料中形成光栅。
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公开(公告)号：CN117387912A
公开(公告)日：2024-01-12
申请号：CN202311318201.1
申请日：2020-04-06
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 傅晋欣 , 王诣斐 , 伊恩·马修·麦克马金 , 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森 , 卢多维克·戈代 , 约瑟夫·C·奥尔森 , 摩根·埃文斯
Abstract: 本公开内容的实施方式涉及测量系统和用于衍射光的方法。该测量系统包括台架、光学臂和一个或多个检测器臂。衍射光的方法包括提供一种衍射光的方法，该方法包括以固定的光束角θ0和最大定向角φmax将具有波长λlaser的光束投射到第一基板的第一区域；获得位移角Δθ；确定目标最大光束角θt‑max，其中θt‑max＝θ0+Δθ，并通过经修改的光栅间距公式Pt‑grating＝λlaser/(sinθt‑max+sinθ0)确定测试光栅间距Pt‑grating。该测量系统和方法允许测量光学元件的区域的非均匀特性，例如光栅间距和光栅取向。
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公开(公告)号：CN113168020B
公开(公告)日：2023-08-25
申请号：CN201980081016.0
申请日：2019-12-16
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 约瑟夫·C·奥尔森 , 卢多维克·戈代 , 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森 , 摩根·埃文斯 , 傅晋欣
Abstract: 本公开内容的实施方式大致涉及形成光栅的方法。该方法包括在设置于基板上的光栅材料上沉积抗蚀材料，将该抗蚀材料图案化为抗蚀层，投射第一离子束至第一元件区域以形成第一组多个光栅，及投射第二离子束至第二元件区域以形成第二组多个光栅。利用图案化抗蚀层允许在大区域上投射离子束，此举往往比将离子束聚焦在特定区域中更容易。
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公开(公告)号：CN113168021B
公开(公告)日：2023-07-11
申请号：CN201980080151.3
申请日：2019-12-17
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 摩根·埃文斯 , 约瑟夫·C·奥尔森 , 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森
Abstract: 本申请的实施方式大致关于用于形成多个光栅的方法。该方法大致包括在设置于基板上的波导组合器的一个或多个保护的区域上沉积材料，该材料具有当离子束引导朝向基板时抑制设置于波导组合器上的光栅材料移除的厚度；及将离子束引导朝向基板。本文所公开的方法允许在一个或多个未受保护的区域中形成多个光栅，同时在保护的区域中不会形成光栅。
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