公开(公告)号：CN110692140B

公开(公告)日：2023-07-04

申请号：CN201880036426.9

申请日：2018-10-05

Applicant: 富士电机株式会社

Inventor： 小幡智幸 ,  吉田崇一 ,  今川铁太郎 ,  百田圣自

IPC: H01L29/78 ,  H01L21/336 ,  H01L21/8234 ,  H01L27/06 ,  H01L29/06 ,  H01L29/12 ,  H01L29/739 ,  H01L29/861 ,  H01L29/868

Abstract: 提供一种半导体装置，其是具有晶体管部和二极管部的半导体装置，该半导体装置具备：栅极金属层，其设置于半导体基板的上表面的上方；发射电极，其设置于半导体基板的上表面的上方；第一导电型的发射区，其在晶体管部设置于半导体基板的上表面侧；栅极沟槽部，其在晶体管部设置于半导体基板的上表面侧，与栅极金属层电连接并且与发射区接触；发射极沟槽部，其在二极管部设置于半导体基板的上表面侧，并与发射电极电连接；以及虚设沟槽部，其设置于半导体基板的上表面侧，与栅极金属层电连接并且不与发射区接触。

公开(公告)号：CN109314139B

公开(公告)日：2022-04-15

申请号：CN201780032407.4

申请日：2017-09-15

Applicant: 富士电机株式会社 ,  株式会社电装

Inventor： 宫田大嗣 ,  野口晴司 ,  吉田崇一 ,  田边広光 ,  河野宪司 ,  大仓康嗣

IPC: H01L29/78 ,  H01L21/28 ,  H01L21/322 ,  H01L21/329 ,  H01L21/336 ,  H01L29/41 ,  H01L29/739 ,  H01L29/861 ,  H01L29/868

Abstract: 对插塞电极(12)进行凹蚀而使其仅残留在接触孔(8a)的内部，并且使层间绝缘膜(8)的上表面(8e)上的阻挡金属(9)露出。然后，对阻挡金属(9)进行凹蚀，使层间绝缘膜(8)的上表面(8e)露出。然后，形成其余的元件结构，并利用氦或电子束照射控制寿命，之后进行氢退火。在该氢退火时，由于在覆盖栅电极(4)的层间绝缘膜(8)的上表面(8e)不存在阻挡金属(9)，所以能够使氢原子到达台面部。由此，因氦或电子束的照射而产生于台面部的晶格缺陷恢复，栅极阈值电压恢复。由此，即使在对于具备插塞电极隔着阻挡金属埋入接触孔的结构的半导体装置进行了寿命控制的情况下也能稳定且容易地得到该半导体装置的预定特性。

公开(公告)号：CN113544846A

公开(公告)日：2021-10-22

申请号：CN202080018066.7

申请日：2020-09-25

Applicant: 富士电机株式会社

Inventor： 佐藤茂树 ,  松井俊之 ,  荒木龙 ,  宫田大嗣 ,  吉田崇一

IPC: H01L27/02 ,  H01L27/07 ,  H03K17/687

Abstract: 提供一种半导体装置，该半导体装置具备：半导体基板；温度感测部，其设置于半导体基板的正面；阳极焊盘和阴极焊盘，其与温度感测部电连接；正面电极，其被设定为预先确定的基准电位；以及双向二极管部，其以双向串联的方式电连接于阴极焊盘与正面电极之间。输出比较二极管部可以配置于阳极焊盘与阴极焊盘之间。温度感测部可以包括温度感测二极管，且输出比较二极管部可以包括与温度感测二极管反向并联地连接的二极管。

公开(公告)号：CN113474886A

公开(公告)日：2021-10-01

申请号：CN202080016044.7

申请日：2020-08-31

Applicant: 富士电机株式会社

Inventor： 佐藤茂树 ,  荒木龙 ,  宫田大嗣 ,  吉田崇一

IPC: H01L23/60 ,  H01L23/544

Abstract: 提供一种半导体装置，其具备：半导体基板；温度感测部，其设置于半导体基板的正面；阳极焊盘和阴极焊盘，其与温度感测部电连接；正面电极，其被设定为预先确定的基准电位；以及双向二极管部，其以双向串联的方式电连接于阴极焊盘与正面电极之间。双向二极管部在正面可以配置于阳极焊盘与阴极焊盘之间。

公开(公告)号：CN112640129A

公开(公告)日：2021-04-09

申请号：CN202080004709.2

申请日：2020-01-31

Applicant: 富士电机株式会社

Inventor： 吉田崇一 ,  佐藤宪一郎

IPC: H01L29/78 ,  H01L21/336 ,  H01L21/66 ,  H01L21/8234 ,  H01L27/06 ,  H01L29/739

Abstract: 在半导体装置中确保能够配置晶体管等元件的面积。提供一种半导体装置，该半导体装置具备：半导体基板、具有在俯视半导体基板时有间隔地配置的至少两个部分电极的发射电极、以及配置为被两个部分电极夹着的有源侧栅极布线和有源侧虚设布线，半导体基板具有：与有源侧栅极布线连接并且在俯视时的第一方向上具有长边的栅极沟槽部、以及与有源侧虚设布线连接并且在第一方向上具有长边的虚设沟槽部，有源侧栅极布线和有源侧虚设布线中的一个在第一方向上全部被栅极布线部和虚设布线部中的另一个覆盖。

公开(公告)号：CN107408576B

公开(公告)日：2020-11-13

申请号：CN201680012460.3

申请日：2016-08-08

Applicant: 富士电机株式会社

Inventor： 向井弘治 ,  吉田崇一

IPC: H01L29/78 ,  H01L21/265 ,  H01L21/322 ,  H01L21/329 ,  H01L21/336 ,  H01L21/8234 ,  H01L27/04 ,  H01L27/06 ,  H01L29/739 ,  H01L29/861 ,  H01L29/868

Abstract: 从基板背面侧以不同的射程进行多次质子照射，在形成深度不同的第一～第四n型层(10a)～(10d)后，使质子活化。接着，从基板背面向比质子照射的射程更深的位置照射氦，导入晶格缺陷。在调整晶格缺陷量的热处理时，使第四n型层(10d)中未活化的质子扩散，形成在第四n型层(10d)的阳极侧与第四n型层(10d)接触，并且具有伴随着朝向阳极侧而以比第四n型层(10d)更平缓的倾斜来减小的载流子浓度分布的第五n型层(10e)。由包含该质子及氦的第五n型层(10e)、和包含质子的第一～第四n型层(10a)～(10d)构成n型FS层(10)。由此，提供能够提高可靠性并且能够实现低成本化的半导体装置。

公开(公告)号：CN109478570A

公开(公告)日：2019-03-15

申请号：CN201880002921.8

申请日：2018-02-15

Applicant: 富士电机株式会社

Inventor： 吉田崇一 ,  宫田大嗣

IPC: H01L29/78 ,  H01L29/861 ,  H01L29/868 ,  H01L21/336 ,  H01L29/739

Abstract: 由于掩模下垂或掩模图案的错位，存在在半导体基板的表面露出的P型区域变为N型区域的情况。本发明提供具有半导体基板的半导体装置。半导体基板包含晶体管区，晶体管区具备漂移区、多个沟槽部、多个发射区和多个接触区、以及积累区，该积累区在深度方向上设置于漂移区与多个发射区之间并具有比漂移区高的第一导电型的掺杂浓度，多个接触区中的在与第一方向平行的方向上位于最外侧的第一最外接触区在第一方向上的长度比多个接触区中的除第一最外接触区以外的一个接触区长，积累区在第一最外接触区的下方终止。

公开(公告)号：CN107534042A

公开(公告)日：2018-01-02

申请号：CN201680024918.7

申请日：2016-06-10

Applicant: 富士电机株式会社 ,  株式会社电装

Inventor： 吉田崇一 ,  田村正树 ,  河野宪司 ,  田边広光

IPC: H01L27/04 ,  H01L21/329 ,  H01L21/336 ,  H01L21/8234 ,  H01L27/06 ,  H01L27/088 ,  H01L29/739 ,  H01L29/78 ,  H01L29/861 ,  H01L29/868

Abstract: 在n‑半导体基板的正面侧，从IGBT部(21)遍及FWD部(22)设有p基层(2)，由沟槽(3)、栅氧化膜(4)和栅电极(5)构成的沟槽栅，以及发射电极(8)。被夹在相邻的沟槽(3)之间的p基层(2)中的具有n+发射区(6)的p基层(2)为IGBT发射极部(31)，不具有n+发射区(6)的p基层(2)为FWD阳极部(32)。n+阴极区(12)的短边方向宽度L12比FWD阳极部(32)的短边方向宽度L32窄。FWD阳极部(32)的短边方向宽度L32与n+阴极区(12)的短边方向宽度L12的差值ΔL1为50μm以上。由此，能够提供减小正向压降，并且抑制反向恢复时的波形振动，且具有软恢复特性的半导体装置。

公开(公告)号：CN113544846B

公开(公告)日：2025-03-07

申请号：CN202080018066.7

申请日：2020-09-25

Applicant: 富士电机株式会社

Inventor： 佐藤茂树 ,  松井俊之 ,  荒木龙 ,  宫田大嗣 ,  吉田崇一

IPC: H10D89/60 ,  H03K17/687

Abstract: 提供一种半导体装置，该半导体装置具备：半导体基板；温度感测部，其设置于半导体基板的正面；阳极焊盘和阴极焊盘，其与温度感测部电连接；正面电极，其被设定为预先确定的基准电位；以及双向二极管部，其以双向串联的方式电连接于阴极焊盘与正面电极之间。输出比较二极管部可以配置于阳极焊盘与阴极焊盘之间。温度感测部可以包括温度感测二极管，且输出比较二极管部可以包括与温度感测二极管反向并联地连接的二极管。

公开(公告)号：CN112640129B

公开(公告)日：2024-12-13

申请号：CN202080004709.2

申请日：2020-01-31

Applicant: 富士电机株式会社

Inventor： 吉田崇一 ,  佐藤宪一郎

IPC: H01L29/78 ,  H01L21/336 ,  H01L21/66 ,  H01L21/8234 ,  H01L27/06 ,  H01L29/739

Abstract: 在半导体装置中确保能够配置晶体管等元件的面积。提供一种半导体装置，该半导体装置具备：半导体基板、具有在俯视半导体基板时有间隔地配置的至少两个部分电极的发射电极、以及配置为被两个部分电极夹着的有源侧栅极布线和有源侧虚设布线，半导体基板具有：与有源侧栅极布线连接并且在俯视时的第一方向上具有长边的栅极沟槽部、以及与有源侧虚设布线连接并且在第一方向上具有长边的虚设沟槽部，有源侧栅极布线和有源侧虚设布线中的一个在第一方向上全部被有源侧栅极布线和有源侧虚设布线中的另一个覆盖。