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公开(公告)号：CN105700134A
公开(公告)日：2016-06-22
申请号：CN201610216319.7
申请日：2016-04-08
Applicant: 同济大学
CPC classification number: G02B27/0012 , G02B5/18
Abstract: 本发明涉及一种X射线宽光谱多层膜闪耀光栅设计方法，该方法包括以下步骤：1)确定宽光谱多层膜闪耀光栅的非周期多层膜结构的材料和膜对数，建立评价函数，以多层膜膜厚度变化最小和效率曲线平坦为优化目标，获取非周期多层膜结构中每一膜层的厚度；2)根据目标光谱波长范围和步骤1)中获得的非周期多层膜结构，选取闪耀光栅最优结构参数，使得到的宽光谱多层膜闪耀光栅在目标光谱波长范围内不同波长位置的衍射效率都达到最大，接近多层膜反射率。与现有技术相比，本发明方法设计的多层膜闪耀光栅膜层厚度变化小，制备简单，在目标光谱范围内理论上可以实现最高衍射效率的平坦响应。
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公开(公告)号：CN103323474B
公开(公告)日：2015-10-28
申请号：CN201210076770.5
申请日：2012-03-21
Applicant: 同济大学
IPC: G01N23/22
Abstract: 本发明涉及一种基于薄膜标记层的多层膜结构的表征方法，在多层膜结构内特定位置插入合适材料的标记膜层，以在电镜测试过程中确定不同区域膜层的位置，从而利用高倍数电镜对多层膜膜系整体结构实现精确拼接和表征。与现有技术相比，本发明利用薄膜标记层的方法，克服了传统电镜在表征厚多层膜或非周期多层膜结构时，由于无法同时实现大视场和高分辨率，不同区域膜层拼接的位置误差对膜系整体结构测试造成的影响，是对多层膜结构进行纳米级精确表征的有效方法，为高精度多层膜元件的制作提供保证。
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公开(公告)号：CN103151089A
公开(公告)日：2013-06-12
申请号：CN201110400987.2
申请日：2011-12-06
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及硬X射线微聚焦多厚度比复合多层膜Laue透镜，针对透镜结构中，从中心到外层不同区域的局部光栅选择不同的膜层厚度比γ(以WSi2/Si材料组合为例，γ＝dsi/(dWSi2+dsi)：对中心区域周期较大的光栅选择较小的γ，减小应力；对外层区域周期较小的光栅选择相对较大的γ，保证衍射效率。与传统的多层膜Laue透镜相比，本发明提出多厚度比复合结构的设计，在保证衍射效率的前提下，减小上千层膜层镀制过程中膜系的应力，从而可以制作更厚的多层膜结构，有效增大Laue透镜的口径和光通量。
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公开(公告)号：CN116953833A
公开(公告)日：2023-10-27
申请号：CN202310816605.7
申请日：2023-07-04
Applicant: 同济大学
IPC: G02B5/18
Abstract: 本发明涉及一种减小高线密度X射线闪耀光栅闪耀角的调控方法，包括在目标闪耀角小于光栅基底闪耀角前提下，根据基底制作闪耀角α0和目标闪耀角的差值，及最终衍射效率影响最小化原则，利用不同薄膜材料生长平滑特性，选取平滑层膜系结构和镀膜材料，获取镀膜后闪耀角随优化参数变化的变化曲线，根据变化曲线确定镀制参数，使得镀膜后闪耀角等于目标闪耀角。与现有技术相比，本发明提供了一种高线密度闪耀光栅闪耀角的修正方法，克服了高线密度闪耀光栅闪耀角难以自由调控导致应用能点受限，工作级次受限，衍射效率低等难题，提高高线密度多层膜闪耀光栅在目标级次的衍射效率。
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公开(公告)号：CN113253449B
公开(公告)日：2022-08-30
申请号：CN202110378331.9
申请日：2021-04-08
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种小角度高衍射效率多层膜矩形光栅结构优化设计方法，所述多层膜矩形光栅结构包括矩形光栅基底、周期多层膜和表面层，包括以下步骤：获取目标能点，对在该目标能点下不同材料对的周期多层膜获得的最高反射率进行排序；针对最高反射率高于或等于设定阈值的材料对，计算在设定的吸收层厚度与周期厚度比值下的平均折射率小量，选择平均折射率小量最小的材料对作为多层膜材料；选择在所述目标能点下吸收系数与折射率小量的比值最小的材料作为表面层材料；通过数值优化方法确定多层膜每个周期内吸收层占比和表面层厚度。与现有技术相比，本发明可以工作在更小工作角度，在保证较高效率的同时，提高分辨率。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113253449A
公开(公告)日：2021-08-13
申请号：CN202110378331.9
申请日：2021-04-08
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种小角度高衍射效率多层膜矩形光栅结构优化设计方法，所述多层膜矩形光栅结构包括矩形光栅基底、周期多层膜和表面层，包括以下步骤：获取目标能点，对在该目标能点下不同材料对的周期多层膜获得的最高反射率进行排序；针对最高反射率高于或等于设定阈值的材料对，计算在设定的吸收层厚度与周期厚度比值下的平均折射率小量，选择平均折射率小量最小的材料对作为多层膜材料；选择在所述目标能点下吸收系数与折射率小量的比值最小的材料作为表面层材料；通过数值优化方法确定多层膜每个周期内吸收层占比和表面层厚度。与现有技术相比，本发明可以工作在更小工作角度，在保证较高效率的同时，提高分辨率。
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公开(公告)号：CN112342513A
公开(公告)日：2021-02-09
申请号：CN202011079375.3
申请日：2020-10-10
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种直线型多功能磁控溅射镀膜设备及镀膜方法，所述设备包括真空腔以及设置于所述真空腔内的移动机构、样品架以及多个靶枪机构，所述移动机构位于真空腔底部，贯穿真空腔，所述样品架设置于移动机构上，所述多个靶枪机构沿所述样品架移动方向排列设置，形成镀膜区域，以实现掠靶式直线镀膜；各所述靶枪机构包括沿溅射方向依次设置的靶枪基座、磁控溅射靶枪、气动挡板和掩膜板，所述磁控溅射靶枪通过多功能连接件安装于靶枪基座上，所述气动挡板连接有控制该气动挡板打开或关闭的控制件，所述掩膜板连接有升降件。与现有技术相比，本发明能够实现在同一块反射镜分区镀制不同结构膜系，降低制备周期，能满足实现不同尺寸反射镜的镀制。
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公开(公告)号：CN111996506A
公开(公告)日：2020-11-27
申请号：CN202010761773.7
申请日：2020-07-31
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种高反射率高纯度X射线多层膜反射镜的制备方法及反射镜，该方法包括以下步骤：1)在磁控溅射镀膜真空腔内的样品架上放置基板，该基板的表面粗糙度小于0.3纳米；2)对磁控溅射镀膜真空腔进行抽真空后，向该真空腔内充入高纯氪气作为溅射气体以调节磁控溅射镀膜真空腔内的工作气压，使工作气压接近等离子体稳定启辉的最低临界值，工作过程中，氪气气压变化幅度小于5％；3)开启直流磁控溅射电源，进行钯靶材和碳化硼靶材的预溅射；4)控制装有基板的样品架交替停留在钯靶材和碳化硼靶材的溅射区域，完成制备。与现有技术相比，本发明能够有效降低靶材反溅效果，保障成膜质量，具有工艺重复性好、可控性强等优点。
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公开(公告)号：CN106987817A
公开(公告)日：2017-07-28
申请号：CN201710247339.5
申请日：2017-04-17
Applicant: 同济大学
CPC classification number: C23C14/35 , C23C14/044 , C23C14/54
Abstract: 本发明涉及一种提高线型磁控溅射靶枪在凹形柱面基底镀膜质量的方法，分别利用安装在靶枪前方的掩膜板和安装在样品架上位于样品两侧对称位置的分隔板，限制大尺寸线型磁控溅射靶枪在水平和竖直方向溅射粒子的发散角度，使得溅射粒子倾斜轰击基板的入射角度减小，减小倾斜轰击基板的溅射粒子对成膜质量的不利影响，提高凹形柱面基底的薄膜质量。
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