一种基于薄膜标记层的多层膜结构的表征方法

    公开(公告)号:CN103323474A

    公开(公告)日:2013-09-25

    申请号:CN201210076770.5

    申请日:2012-03-21

    Applicant: 同济大学

    Abstract: 本发明涉及一种基于薄膜标记层的多层膜结构的表征方法,在多层膜结构内特定位置插入合适材料的标记膜层,以在电镜测试过程中确定不同区域膜层的位置,从而利用高倍数电镜对多层膜膜系整体结构实现精确拼接和表征。与现有技术相比,本发明利用薄膜标记层的方法,克服了传统电镜在表征厚多层膜或非周期多层膜结构时,由于无法同时实现大视场和高分辨率,不同区域膜层拼接的位置误差对膜系整体结构测试造成的影响,是对多层膜结构进行纳米级精确表征的有效方法,为高精度多层膜元件的制作提供保证。

    一种基于薄膜标记层的多层膜结构的表征方法

    公开(公告)号:CN103323474B

    公开(公告)日:2015-10-28

    申请号:CN201210076770.5

    申请日:2012-03-21

    Applicant: 同济大学

    Abstract: 本发明涉及一种基于薄膜标记层的多层膜结构的表征方法,在多层膜结构内特定位置插入合适材料的标记膜层,以在电镜测试过程中确定不同区域膜层的位置,从而利用高倍数电镜对多层膜膜系整体结构实现精确拼接和表征。与现有技术相比,本发明利用薄膜标记层的方法,克服了传统电镜在表征厚多层膜或非周期多层膜结构时,由于无法同时实现大视场和高分辨率,不同区域膜层拼接的位置误差对膜系整体结构测试造成的影响,是对多层膜结构进行纳米级精确表征的有效方法,为高精度多层膜元件的制作提供保证。

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