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公开(公告)号：CN119197336A
公开(公告)日：2024-12-27
申请号：CN202411401655.X
申请日：2024-10-09
Applicant: 同济大学
IPC: G01B11/02
Abstract: 本发明公开了一种基于铬原子跃迁频率的纳米长度计量系统及方法，属于纳米长度计量领域，所述纳米长度计量系统包括物理波长基准和工作标准物质，所述物理波长基准为锁定至铬原子(7S3→7P4)跃迁谱线的425.55nm激光波长，所述工作标准物质为利用原子光刻方法制备的铬自溯源系列光栅，光栅周期均溯源于物理波长基准，所述铬自溯源系列光栅包括一维铬自溯源光栅和二维铬自溯源光栅。本发明采用上述的一种基于铬原子跃迁频率的纳米长度计量系统，利用激光汇聚原子沉积的方式将铬原子跃迁频率这一自然常数物化到铬自溯源光栅上，使光栅具有独立溯源性的同时又具有超高准确性和一致性。
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公开(公告)号：CN119124001A
公开(公告)日：2024-12-13
申请号：CN202411278096.8
申请日：2024-09-12
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明公开了一种基于自溯源光栅的外差式精密位移测量系统，属于精密位移测量技术领域。包括单频激光模块、移频模块、外差位移测量模块、自溯源光栅和信号处理模块。单频激光模块产生单频激光，经过移频模块，得到两个频率不同且偏振态互相正交的线偏振光，构成外差光源。外差激光经外差位移测量模块，入射至自溯源光栅上，衍射光沿原光路返回至外差位移测量模块，得到具有位移信息的测量信号与参考信号，最后通过信号处理模块解算出两路信号的相位差并做位移换算。实现一种具有高稳定性与分辨力，且位移量值独立溯源的超精密位移测量系统，兼具外差光栅干涉仪的抗环境干扰能力，有着测量高分辨力，测量结果独立且可靠溯源的优势。
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公开(公告)号：CN118938606A
公开(公告)日：2024-11-12
申请号：CN202410993764.9
申请日：2024-07-24
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明公开了一种基于自溯源光栅的电子束直写加工偏差校准修正方法，包括以下步骤:利用原子光刻技术制备标准光栅；获取涂有电子束光刻胶的衬底；生成特定周期的光栅GDS文件，并导入电子束光刻机的电脑，利用电子束光刻技术制备待测光栅；通过信号比对装置对标准光栅和待测光栅的周期信号进行计算和比对测量，得到电子束光刻制备的待测光栅的误差值；通过周期误差值反馈，在版图绘制中修改曝光版图的周期，并利用电子束光刻重新制备新光栅。本发明通过自溯源光栅修正电子束光刻制备光栅的周期误差，具有测量学上周期的自溯源性，可以为电子束光刻技术提供直接的精准标尺，解决了制备过程和传统测量方法带来的误差，减小了电子束光刻技术的误差。
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公开(公告)号：CN115753021B
公开(公告)日：2024-05-31
申请号：CN202211443973.3
申请日：2022-11-18
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种基于自溯源光栅零差干涉法的光栅周期标定系统，用于标定待定值光栅的光栅周期，包括相干光源、自溯源光栅干涉信号光电探测模块、待定值光栅干涉信号光电探测模块、已知周期值的自溯源光栅和信号处理模块，所述自溯源光栅和待定值光栅以光栅矢量同向的方式设置于一维位移运动平台上。与现有技术相比，本发明利用同时测量两块光栅沿光栅矢量方向平移时非零级衍射光的相位差计算待定值光栅的周期，其定值结果以自溯源光栅周期为基准，不再依赖严格溯源于碘原子跃迁频率的高性能稳频激光器，具有测量面积大、测量精度高、可溯源的特点，同时具备操作条件极易复现、光路对准容易的优势。
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公开(公告)号：CN114690298B
公开(公告)日：2024-03-26
申请号：CN202210284007.5
申请日：2022-03-21
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种基于拼接原子光刻技术的大面积自溯源光栅制备方法，包括以下步骤：基于原子光刻技术在基板上进行一次原子光刻，获得原子光刻光栅样板；至少循环执行一次以下操作：利用光阑的限位作用，保持会聚光指向不变，将主透镜及当前的原子光刻光栅样板作为整体沿激光驻波场方向平移一段距离并固定，调整主透镜使返回的会聚光形成驻波场并与金属原子束待沉积区域存在重叠部分，在当前的原子光刻光栅样板上进行一次原子光刻；通过相邻次原子光刻光栅的无缝拼接，获得大面积自溯源光栅。与现有技术相比，本发明有效地解决了自溯源光栅驻波场方向扩展的技术问题，并具备光栅无缝衔接，扩展空间大的优点。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116500711A
公开(公告)日：2023-07-28
申请号：CN202310400575.1
申请日：2023-04-14
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种具备自溯源角度的二维光栅标准物质及其制备方法，该方法具体为：掩膜版基板的设计和加工，掩膜版基板上开有四个窗口(3)，四个相同大小的窗口(3)在掩膜版基板中间区域呈十字形对称分布；掩膜版的制造，采用激光汇聚原子沉积技术，在掩膜版基板上沉积原子光刻光栅；光刻胶光栅的制备，采用软X射线干涉光刻技术，曝光和显影光刻胶得到光刻胶图形；二维光栅标准物质的获取，经过刻蚀将光刻胶图形转移到第二衬底上。与现有技术相比，本发明制备的在亚200nm尺度内的二维自溯源光栅标准物质，不仅同时具备自溯源的长度标准与角度标准，而且可以向硅材料转移，具有准确性高、一致性好和兼容性强等优点。
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公开(公告)号：CN116298397A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202310294579.6
申请日：2023-03-23
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种用于加速度振动传感器的校准方法，方法采用一种用于加速度振动传感器的校准装置，方法包括以下步骤：S1、将待校准振动传感器以待校准轴与激振方向平行的姿态固定于水平滑台上；S2、采用信号采集与传输设备，对自溯源光栅干涉仪输出的干涉信号和待校准振动传感器的输出电压信号进行采样，并基于干涉信号提取干涉相位；S3、确定干涉相位信号和振动位移信号之间的函数关系；S4、基于函数关系和采样的待校准振动传感器的输出电压信号，对待校准振动传感器进行校准。与现有技术相比，本发明具有校准精度高、测量基准不依赖波长、抗环境干扰等优点，解决了振动校准现场溯源难题。
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公开(公告)号：CN118938605B
公开(公告)日：2025-04-29
申请号：CN202410993763.4
申请日：2024-07-24
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明公开了一种分振幅型准直平顶光束激光干涉光刻系统，属于微纳结构技术领域，包括激光器、第一反射镜、第一半波片、偏振分光棱镜、第二半波片、第二反射镜、第三反射镜、第四反射镜、第五反射镜、第六反射镜、条纹锁定系统、激光光束整形系统和干涉系统。本发明采用上述的一种分振幅型准直平顶光束激光干涉光刻系统，光束通过光学系统后形成大面积、能量分布均匀的准直平顶光束，可实现占空比均匀性强的高性能光栅制造，满足高精度的纳米光栅加工需求。
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公开(公告)号：CN119245502A
公开(公告)日：2025-01-03
申请号：CN202411278097.2
申请日：2024-09-12
Applicant: 同济大学
IPC: G01B9/02055 , G01B11/02
Abstract: 本发明公开了一种基于自溯源光栅干涉仪校准空气折射率的系统及方法，属于空气折射率测量技术领域。本发明采用上述的一种基于自溯源光栅干涉仪校准空气折射率的系统及方法，采用光栅作为位移测量基准，避免了空气因素对测量数据的干扰，在相同测量环境下比用激光波长作为基准的激光干涉仪更稳定，测得的数据可比性更高，测量重复稳定性更大。避免了传统依赖于大量环境传感器(如温度、湿度、气压传感器)的校准方法，简化校准过程，提高校准效率，校准过程与测量过程并行进行，无需中断测量执行独立的校准操作。在动态变化的测量环境中，能够即时调整校准参数以响应环境的波动，确保测量数据的精确性和可靠性。
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公开(公告)号：CN119125604A
公开(公告)日：2024-12-13
申请号：CN202411284558.7
申请日：2024-09-13
Applicant: 同济大学
IPC: G01P15/03 , G01P15/097 , G01B11/02
Abstract: 本发明公开了一种基于自溯源光栅的超高线性度MOMES加速度计，属于检测仪表领域，包括MEMS谐振子、自溯源光栅干涉仪和数据处理模块，所述MEMS谐振子包括折叠梁、固定外框和质量块，所述折叠梁外侧壁与所述固定外框内侧壁连接，所述质量块设置在所述折叠梁底部，所述自溯源光栅干涉仪包括自溯源光栅和干涉测量读数头，所述自溯源光栅设置在所述质量块上。本发明采用上述的一种基于自溯源光栅的超高线性度MOMES加速度计，具有极高测量线性度，并且位移测量可实时溯源，相比于传统MOMES加速度计能够提高其位移测量的准确度，减小加速度测量的非线性效应。
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