半导体结构及其制造方法
    23.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107564893A

    公开(公告)日:2018-01-09

    申请号:CN201710342283.1

    申请日:2017-05-16

    摘要: 本发明实施例涉及一种半导体结构及其制造方法。其中,半导体结构包含衬底,所述衬底包含第一面、第二面,相对于所述第一面、以及凹槽,从所述第一面向所述第二面延伸;第一裸片,至少部分设置在所述凹槽内,且包含第一裸片衬底及第一结合件,所述第一结合件设置在所述第一裸片衬底上方;第二裸片,设置在所述第一裸片上方,且包含第二裸片衬底及第二结合件,所述第二结合件设置在所述第一裸片衬底与所述第二裸片衬底之间;重布线层RDL,设置在所述第二裸片上方;以及导电凸块,设置在所述RDL上方,其中所述第一结合件相对于所述第二结合件设置且与所述第二结合件结合。

    形成半导体器件的方法
    24.
    发明授权

    公开(公告)号:CN113517203B

    公开(公告)日:2024-06-07

    申请号:CN202110307375.2

    申请日:2021-03-23

    IPC分类号: H01L21/50 H01L21/56

    摘要: 在方法中,将晶圆接合至第一载体。该晶圆包括半导体衬底和延伸到该半导体衬底中的多个第一通孔。该方法还包括:在晶圆上方接合多个芯片,其中,间隙位于多个芯片之间;执行间隙填充工艺以在间隙中形成间隙填充区域;将第二载体接合至多个芯片和间隙填充区域上,使第一载体与晶圆剥离;以及形成电连接至晶圆中的导电部件的电连接件。电连接件通过多个第一通孔电连接至多个芯片。本申请的实施例还涉及形成半导体器件的方法。

    形成封装件的方法
    25.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116344509A

    公开(公告)日:2023-06-27

    申请号:CN202210861195.3

    申请日:2022-07-20

    IPC分类号: H01L23/544 H01L21/60

    摘要: 一种形成封装件的方法包括将第一多个有源管芯接合到晶圆中的第二多个有源管芯。第二多个有源管芯在晶圆的内部区域中。第一多个伪管芯接合到晶圆中的第二多个伪管芯。第二多个伪管芯在晶圆的外围区域中,并且外围区域包围内部区域。根据本申请的其他实施例,还提供了其他形成封装件的方法。

    封装及其制造方法
    29.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112420646A

    公开(公告)日:2021-02-26

    申请号:CN201911126604.X

    申请日:2019-11-18

    摘要: 封装包括第一管芯、第二管芯、包封体、以及绝缘层穿孔。第一管芯具有第一接合结构。第一接合结构包括第一介电层及嵌置在第一介电层中的第一连接件。第二管芯具有第二接合结构。第二接合结构包括第二介电层及嵌置在第二介电层中的第二连接件。第一介电层与第二介电层混合接合。第一连接件与第二连接件混合接合。包封体侧向包封第二管芯。绝缘层穿孔穿透包封体且与第一接合结构连接。

    三维集成电路结构及其制造方法

    公开(公告)号:CN112242344A

    公开(公告)日:2021-01-19

    申请号:CN201910932389.6

    申请日:2019-09-29

    IPC分类号: H01L21/762 H01L25/065

    摘要: 本发明实施例公开三维集成电路结构及形成所述三维集成电路结构的方法。所述三维集成电路结构中的一者包括第一管芯、多个第二管芯以及介电结构。所述第二管芯结合到所述第一管芯。所述介电结构设置在所述第二管芯之间。所述介电结构包括第一介电层及第二介电层。所述第一介电层具有侧壁及底部,所述侧壁的第一表面与所述底部的第一表面接触所述第二介电层且形成第一角度。所述侧壁的第二表面与所述底部的第二表面形成比所述第一角度小的第二角度。