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公开(公告)号：CN112179851A
公开(公告)日：2021-01-05
申请号：CN202011044645.7
申请日：2020-09-29
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明属于精密光学仪器的系统参数校准相关技术领域，其公开了一种快照式穆勒矩阵椭偏仪器件的方位角误差校准方法，所述方法首先建立包含器件方位角误差的系统模型，然后对模型进行合理约减，通过标准样品获得足够的线性无关的方程组以求解器件方位角误差，并将求解结果拟合为不随波长变动的定值作为最终校准结果，此外，将校准结果代入至系统模型中可以进一步校准待测样品穆勒矩阵。本发明公开的方法能够准确地校准快照式穆勒矩阵椭偏仪各个器件的方位角误差，能够同时适用于透射式与反射式测量配置；同时，所述方法校准出方位角误差后，可以代入至包含方位角误差的系统模型，能够有效提升穆勒矩阵的测量精度。
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公开(公告)号：CN110347017B
公开(公告)日：2020-09-08
申请号：CN201910581646.6
申请日：2019-06-30
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明属于光刻领域，公开了一种基于光学衍射的套刻误差提取方法，包括：(1)确定套刻标记结构及材料光学常数；(2)建立套刻标记正向光学特性模型；(3)基于光学特性模型生成训练集；(4)确定神经网络结构；(5)神经网络训练；(6)套刻误差提取。与现有的套刻误差提取方法相比，本发明提供的方法不依赖于光学分辨率和经验线性关系，可基于一个单元实现单个方向的套刻误差测量，套刻标记面积更小，并且可从更复杂的非线性套刻光学表征量中提取套刻误差，提取过程快速、准确、鲁棒性好。
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公开(公告)号：CN111458984A
公开(公告)日：2020-07-28
申请号：CN202010176579.2
申请日：2020-03-13
Applicant: 华中科技大学
IPC: G03F7/20 , H01L21/66 , H01L23/544
Abstract: 本发明属于光刻领域，并具体公开了一种套刻标记及测量配置的分步优化方法，包括如下步骤：S1确定待优化变量和多个优化目标，所述待优化变量包括套刻标记形貌参数和测量配置参数；S2根据一个优化目标，结合预设的套刻标记基本参数，对所确定的待优化变量进行优化，并设置终止条件，得到多组优化结果；S3设置另一个优化目标的阈值，并根据该优化目标的阈值对优化结果进行筛选，保留满足条件的优化结果；S4重复S3，直至所有优化目标都已使用，得到最终优化结果，完成套刻标记及测量配置的分步优化。本发明能提供准确度高、重复性测量精度好、鲁棒性好的套刻标记与对应的测量配置，能够满足套刻误差的测量需求。
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公开(公告)号：CN108061709B
公开(公告)日：2019-09-24
申请号：CN201711323981.3
申请日：2017-12-13
Applicant: 华中科技大学
IPC: G01N21/21
Abstract: 本发明属于材料冲击动力学参数测量领域，并公开了一种透明材料冲击动力学参数获取方法。该方法包括：(a)建立了平稳冲击波加载下透明薄膜样品的双层薄膜分层模型(b)利用第一性原理，证明了P偏振光以布儒斯特角入射样品时，反射光相位对时间导数的波形呈周期性震荡特性，推导出了震荡特性与冲击动力学参数之间的表达式；(c)采用泵浦探测测试系统测量待测样品的实际震荡周期、实际幅值、和实际震荡偏离值；(d)将获得的测量实际值带入获得的表达式中进而获得实际冲击动力学参数。通过本发明，实现了双层薄膜模型中，使用公式直接提取透明材料冲击动力学参数，该方法使用的测量光路简单，易于实施，数据易于处理。
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公开(公告)号：CN110057401A
公开(公告)日：2019-07-26
申请号：CN201910315611.8
申请日：2019-04-19
Applicant: 华中科技大学
IPC: G01D21/02
Abstract: 本发明属于薄膜测量表征领域，并具体公开了一种透明超薄膜折射率及厚度测量方法，包括如下步骤：S1以2πdT/λ为变量对透明超薄膜椭偏比ρ1进行二阶泰勒展开获得幂级数形式：S2分离出幂级数形式中与透明超薄膜相关的参量T1和T2，并获得表达式；S3计算幂级数形式的实部与虚部平方的斜率R，根据斜率R计算 的具体值；S4将计算的 具体值带入步骤S2的表达式中求解出透明超薄膜的折射率nT，并根据折射率计算透明超薄膜的厚度。本发明可实现透明超薄膜的折射率和厚度的快速、直接、准确测量，具有适用范围广，测量准确，无复杂分析过程等优点。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106844825A
公开(公告)日：2017-06-13
申请号：CN201611094546.3
申请日：2016-12-01
Applicant: 华中科技大学
IPC: G06F17/50
Abstract: 本发明属于光学测量相关技术领域，其公开了一种电磁散射建模中分离可变参数的快速算法，其包括以下步骤：(1)根据电磁散射建模的对象来确定包含可变参数的算子及参数域；(2)将所述参数域离散为采样点数目递增的N重采样网格，其中N为正整数，获得N个参数训练集合；(3)利用逐级自适应优化策略在第一重采样网格上构造具有预定精度的近似空间；(4)以第i‑1(i为大于1的正整数)重采样网格上的近似空间的基函数为基础，在第i重采样网格上构造与所述第i‑1重采样网格上的近似空间的精度相同的近似空间；(5)重复步骤(4)直至i等于N，所述N重采样网格上的近似空间的基函数的集合即为最终的近似空间的基函数。
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公开(公告)号：CN103424797B
公开(公告)日：2016-04-13
申请号：CN201310321074.0
申请日：2013-07-26
Applicant: 华中科技大学
IPC: G02B5/30
Abstract: 本发明公开了一种四分之一双波片相位延迟器，可在紫外、可见及近红外的波段范围内实现消色差，其特征在于，该双波片相位延迟器由两个同种材料或者不同材料的四分之一零级波片构成，该两零级波片沿光轴平行布置，且两光轴夹角为45°，其中，所述两个四分之一零级波片的中心波长在波段范围内，且满足使得两零级波片组成的双波片在该波段范围内各波长点对应的相位延迟量δe(λ)与理想相位延迟量值π/2之间差值的最大值取得最小值。与现有的双波片相比，该相位延迟器将两个零级波片光轴按45°组合，而不是90°，得到的双波片相位延迟器在全波段内有更好的消色差等特性，能够满足光谱椭偏测量等宽光谱光学系统的使用要求。
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公开(公告)号：CN103134592B
公开(公告)日：2015-11-04
申请号：CN201310040729.7
申请日：2013-01-31
Applicant: 华中科技大学
IPC: G01J3/447
Abstract: 本发明公开了一种透射式全穆勒矩阵光谱椭偏仪及其测量方法，方法是将起偏臂产生的调制光线投射到待测样件表面，检偏臂将待测样件反射(或透射)的光线解调并接收，通过对测量光谱进行谐波分析，计算获得待测样件的全穆勒矩阵信息，并通过非线性回归，库匹配等算法拟合提取待测样件的光学常数，特征形貌尺寸等信息。椭偏仪包括起偏臂(包括光源，透镜组，起偏器和伺服电机驱动的补偿器)，待测样件和检偏臂(包括伺服电机驱动的补偿器，检偏器，透镜组和光谱仪)。本发明可实现各种信息光电子功能材料和器件，以及纳米制造中各种纳米结构的在线测量，具有非破坏性，快速和低成本的特点。
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公开(公告)号：CN103217988B
公开(公告)日：2015-07-29
申请号：CN201310089535.6
申请日：2013-03-20
Applicant: 华中科技大学
IPC: G05D3/12
Abstract: 本发明属于广义椭偏仪的控制技术，具体为一种广义椭偏仪的同步控制系统。该同步控制系统至少包括：第一、第二中空伺服电机及其内置的增量式编码器、伺服电机控制器、两个补偿器、光谱仪、计算机和单片机。其中伺服电机控制器、光谱仪分别与计算机通过USB端口连接，单片机通过串口与计算机相连，同时单片机对应引脚又分别与两中空伺服电机编码器Z向信号线和光谱仪I/O口连接。光谱仪识别到高电平并在高电平持续时间内完成光谱数据采集；根据计时器返回时间就可以计算出光谱仪开始采集时刻两补偿器光轴的位置。该方法可以精确控制并计算出光谱仪开始采集时刻两中空伺服电机中补偿器光轴的位置，装置简易，操作简单。
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公开(公告)号：CN102508346B
公开(公告)日：2014-07-30
申请号：CN201110349669.8
申请日：2011-11-08
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明公开了提供的一种用于复合波片光轴对准的装夹装置，该装置包括电控旋转台、固定波片卡盘和旋转波片卡盘；波片支架安装在电控旋转台，固定波片卡盘与电控旋转台基座连在一起，旋转波片卡盘与电控旋转台转盘连在一起，使用时，将安装有晶片的波片支架安装在固定波片卡盘和旋转波片卡盘上。本发明提供的装夹装置可以实现在对复合波片光轴进行高精度对准时，对组成复合波片的各晶片进行夹持，并保证不同晶片间能产生高精度高分辨率的相对转动。与现有波片夹具相比，本发明所提供的装夹装置不仅能够实现对两片晶片的夹持和精确定位，而且能够使两片晶片间产生高精度高分辨率地相对转动，更适合用于复合波片光轴的对准过程。
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