公开(公告)号：CN119098852A

公开(公告)日：2024-12-10

申请号：CN202411292800.5

申请日：2024-09-14

Applicant: 北京空间机电研究所

Inventor： 郭文 ,  李依轮 ,  吕天斌 ,  张宁 ,  周于鸣 ,  李春林 ,  张栋林

IPC: B24B9/14 ,  B24B49/12 ,  B24B49/16 ,  B24B41/04 ,  B24B49/00

Abstract: 本发明提出一种适用于轻质大口径反射镜的力控轮式抛光工具，通过柔性控制的方法，在接触工件的瞬间以及运行过程中，恒力系统以柔性浮动方式，主动适应工件表面的尺寸变化，将力的大小始终控制在所需范围之内，保证加工过程中去除函数的稳定性，从而保证抛光过程中的稳定性。结合柔性加工装置，通过比例积分微分控制规律闭环恒力控制，对工件三维外形任何角度进行抛光打磨同时实现力控系统的快速响应；本发明设置轮式抛光工具转速传感器，在加工至轻质大口径反射镜边缘时，降低加工过程中的转速，从而有效的减少边缘效应。

公开(公告)号：CN114193468B

公开(公告)日：2024-11-29

申请号：CN202111505986.4

申请日：2021-12-10

Applicant: 北京空间机电研究所

Inventor： 王国燕 ,  栗孟娟 ,  王利 ,  梁慧龙 ,  王经华 ,  于秋跃 ,  王兆明 ,  王聪 ,  杜妍 ,  李春林 ,  周于鸣 ,  郝言慧

IPC: B25J11/00 ,  B23K26/082 ,  B23K26/352 ,  B23K26/064

Abstract: 本发明提供了一种用于大口径光学元件的超快激光辅助研抛装置及方法，属于精密光学加工领域。将超快激光辅助研抛盘安装在数控机械臂末端，超快激光脉冲通过光纤传导至研抛盘中心开孔处，经过锥透镜整形为贝塞尔光束垂直入射工件表面；在研抛过程中，超快激光随研抛盘在光学元件表面同步运动，并利用扫描振镜使工件表面快速形成粗糙的微纳复合结构，在此基础上研抛盘绕偏心轴转动，带动磨料颗粒在具有疏松微纳复合结构的工件表面运动，从而大幅提升机械研抛的材料去除效率，同时能有效减小机械抛光产生的残余应力、裂纹和划痕等缺陷，实现大口径光学元件的高效、高质量研抛。

公开(公告)号：CN116380419A

公开(公告)日：2023-07-04

申请号：CN202211604465.9

申请日：2022-12-13

Applicant: 北京空间机电研究所

Inventor： 王兆明 ,  郭文 ,  栗孟娟 ,  于秋跃 ,  王国燕 ,  王超 ,  吕天斌 ,  王经华 ,  张兆健 ,  乔国宝 ,  郝言慧 ,  周于鸣 ,  王永刚 ,  李春林 ,  王小勇

IPC: G01M11/02 ,  G01B11/24 ,  G01B11/26

Abstract: 本发明公开了一种检测两面共体大口径非球面反射镜光轴一致性的装置和方法，属于光学零件加工与检测技术领域。该装置包括干涉仪、2个CGH补偿器。在干涉检测光路中将两个非球面表面的光轴通过精密调整和严格标定后引出到CGH补偿器上，CGH特定区域发出平行光，经另一片CGH反射后在干涉仪中形成表征两片CGH补偿器夹角的干涉条纹，观察统计干涉条纹数量解算出两非球面的光轴一致性偏差。相对于传统干涉测量法检测光轴需要引出机械基准、使用经纬仪等高精度检测仪器，具有检测精度高、误差源少，检测成本低的优点。

公开(公告)号：CN110551979B

公开(公告)日：2021-04-13

申请号：CN201910896598.X

申请日：2019-09-23

Applicant: 北京空间机电研究所

Inventor： 白云立 ,  王利 ,  王刚 ,  张继友 ,  周于鸣 ,  王永刚 ,  孟晓辉 ,  郭文 ,  徐领娣 ,  于建海

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/18 ,  C23C14/58

Abstract: 本发明一种碳化硅表面改性方法，采用PVD(物理气相沉积)改性，先将基片清洗干净，检测改性前粗糙度，后放入整洁的镀膜机内，同时，在镀膜机相应位置放入膜料镍(Ni)、硅(Si)；提高镀膜机真空室内的真空度，达到改性标准后，先镀制膜料镍(Ni)、在镀制膜料硅(Si)，改性完成后检测粗糙度。相比较于传统PVD(物理气相沉积)改性方法，本方法可以直接降低基片表面粗糙度，省去改性后光学研抛过程，节省了光学研抛过程中耗费的人力、物力、财力，规避了相应的风险。

公开(公告)号：CN109212644A

公开(公告)日：2019-01-15

申请号：CN201811249996.4

申请日：2018-10-25

Applicant: 北京空间机电研究所

Inventor： 王利 ,  周于鸣 ,  刘晓林 ,  雷文平 ,  王刚 ,  白云立 ,  于建海 ,  肖正航 ,  张继友

IPC: G02B5/26

CPC classification number: G02B5/26

Abstract: 本发明涉及一种低偏振像差分色片及其制备方法，属于光学仪器技术领域。本发明克服了现有分色片在锥光入射条件下P、S光反射相位大幅波动，引入偏振像差的缺点；本发明既能实现现有分色片分光的功能，又能有效控制P、S光反射相位，大大减小分色片使用对光学系统光学传递函数的影响；该分色片的使用改善了光学系统的成像质量。