一种离轴照明的线视场色散样板干涉仪

    公开(公告)号:CN106931901A

    公开(公告)日:2017-07-07

    申请号:CN201710026407.5

    申请日:2017-01-13

    Inventor: 朱秋东 王姗姗

    CPC classification number: G01B11/2441 G01B9/02055

    Abstract: 本发明涉及一种离轴照明的线视场色散样板干涉仪,属于光电检测技术领域。本发明的干涉仪,每次可对被测玻璃表面的一条母线误差进行检测,辅以截线方向一维扫描,可对具有直线或近似直线母线的双面玻璃、反射镜等进行二维面形误差检测。测量结果无平行表面串扰影响,精度高、量程大、空间分辨率高,且可局部加密采样点,适用于大规模工业生产的流水线高速检测。

    一种基于自适应条纹的逆向哈特曼测量方法

    公开(公告)号:CN118882523A

    公开(公告)日:2024-11-01

    申请号:CN202410997409.9

    申请日:2024-07-24

    Abstract: 本发明公开了一种基于自适应条纹的逆向哈特曼测量方法,该方法包括:搭建逆向哈特曼测量光路;以被测镜的被测面中心顶点作为原点建立测量坐标;根据被测镜理论轮廓方程或者三维模型建立虚拟理想被测镜在测量坐标系下的空间点云坐标M(xm,ym,zm);计算相机靶面与图像发生器映射关系;将所述图像发生器显示理想正弦条纹图案Ic,通过映射函数G对图案Ic进行逆向求解得到图像发生器显示的理想自适应正弦条纹图案Sd;采集镜面反射条纹及解算面形误差;通过调整被测镜位姿,被测镜面形和虚拟理想面形的偏差。本发明的方法,在实现被测镜的快速位姿确定的同时,提高了面形误差的测量精度。

    一种力-磁联合剪切流变抛光方法及装置

    公开(公告)号:CN117564816A

    公开(公告)日:2024-02-20

    申请号:CN202311481826.X

    申请日:2023-11-08

    Abstract: 本发明公开的一种力‑磁联合剪切流变抛光方法及装置,属于超精密加工技术领域。本发明的装置包括工作台支撑柱、抛光工作台、力‑磁联合剪切流变抛光工具、磁场调控装置、自适应工件夹具和力‑磁联合剪切流变抛光液循环系统。在力‑磁联合剪切流变抛光驱动装置的驱动下,力‑磁联合剪切流变抛光工具与工件表面形成相对运动产生剪切力,加工区域的力‑磁联合剪切流变抛光液在剪切力作用下产生剪切增稠效应,在加工区域间隙内形成类固态膜包裹在工件表面进行材料去除;磁敏感粒子在磁场调控装置作用下聚拢产生磁诱导增稠效应调节抛光液黏度,同时会在加工区域形成预定硬度的凸起剪切工件表面进行材料去除,实现工件表面力‑磁联合作用双重材料去除抛光作用。

    一种离轴抛物面镜离轴量的测量装置及测量方法

    公开(公告)号:CN111272083A

    公开(公告)日:2020-06-12

    申请号:CN202010211633.2

    申请日:2020-03-24

    Abstract: 本发明涉及一种离轴抛物面镜离轴量的测量装置及测量方法,属于光学元器件测量技术领域。本发明针对背面垂直于光轴的离轴抛物面镜,基于激光干涉仪和激光器,利用光的直线传播原理,分别定位离轴抛物面镜机械中心和抛物面镜光轴的位置,通过对两个位置距离的测量,实现对离轴抛物面离轴量的测量。本发明能够实现在一般光学实验室中即可方便有效、高效快速的完成离轴量测量,同时,降低了测量装置的复杂性。

    用于软脆超薄晶体超精密切削的主动变形补偿装夹装置

    公开(公告)号:CN109808086B

    公开(公告)日:2020-05-19

    申请号:CN201910085763.3

    申请日:2019-01-29

    Inventor: 王姗姗 张南生

    Abstract: 本发明涉及一种用于软脆超薄晶体超精密切削的主动变形补偿装夹装置,属于闪烁晶体超精密加工领域。该装置能够主动补偿传统真空吸盘吸附软脆超薄碘化铯晶体时难以避免的吸附变形,以实现吸附变形误差的确定性主动补偿,为加工中降低晶体的厚度,并保持晶体各点厚度一致性提供技术支持。本发明首先基于静态变形原理,通过分析紧支撑条件下双层矩形压电薄板影响函数的解析表达式,建立反映加载电压与变形量之间关系的影响函数,而后在干涉仪等高精度面形检测装置辅助下实现对真空吸附变形的离线检测,最后通过改变各压电陶瓷电极的激发电压主动改变玻璃薄板层的形状,对真空吸附变形进行主动变形补偿,改善超薄碘化铯晶体的超精密切削加工精度。

    用于钝化CsI(TI)晶体表面缺陷的抛光工艺

    公开(公告)号:CN109262377B

    公开(公告)日:2019-09-03

    申请号:CN201811358652.7

    申请日:2018-11-15

    Abstract: 本发明公开了一种用于钝化CsI(TI)晶体表面缺陷的抛光工艺,其包括:步骤1,清洁CsI(TI)晶体;步骤2,吹干CsI(TI)晶体;步骤3,将CsI(TI)晶体放入等离子体气体加工设备的反应室中;步骤4,利用等离子体气体加工设备对CsI(TI)晶体加工处理,其包括:步骤41,往等离子体气体加工设备输入氦气、六氟化硫与四氟化碳的混合气体,氦气和混合气体形成等离子体气体;步骤42,将等离子体气体喷射到CsI(TI)晶体的表面;步骤5,返回步骤4,循环加工处理已加工处理过的CsI(TI)晶体;步骤6,干燥处理经由步骤5处理好的CsI(TI)晶体放入干燥箱。本发明能够在保持面形精度与表面粗糙度的前提下,高效稳定地去除CsI(TI)晶体表面材料,钝化表面划痕,从而有效地提升CsI(TI)晶体的抗辐照损伤能力。

    基于远出瞳、小瞳径比设计的高精度光电自准直仪

    公开(公告)号:CN106052596B

    公开(公告)日:2019-07-23

    申请号:CN201610391194.1

    申请日:2016-06-03

    Inventor: 朱秋东 王姗姗

    Abstract: 本发明涉及一种基于远出瞳、小瞳径比设计的高精度光电自准直仪,属于光电测量仪器技术领域。包括光源、聚光镜、孔径光阑、会聚透镜、针孔、偏振分光棱镜、λ/4波片、准直物镜、探测器。通过在照明光路中增加孔径光阑,使其经自准直仪光学系统所成的像,即出瞳,位于准直物镜之后,并且出瞳直径小于准直物镜的口径。靶镜位于出瞳位置附近。通过控制出瞳距离、出瞳直径及准直物镜口径的关系,确保被测镜反射回来的光束口径小于准直物镜口径,消除光束切割,避免切割引起的测量误差。在自准直光路中采用偏振分光棱镜与λ/4波片组合的偏振杂光阻断技术,有效抑制光学表面多次反射的杂散光干扰。

    一种球面面形误差和曲率半径误差在线检测装置和方法

    公开(公告)号:CN108007380A

    公开(公告)日:2018-05-08

    申请号:CN201711183639.8

    申请日:2017-11-23

    CPC classification number: G01B11/2441 G01B11/255

    Abstract: 本发明公开了一种球面面形误差和曲率半径误差在线检测装置和方法,该装置包括:样板、待测件、球面LED光源、干涉条纹采集单元、球面面形误差和曲率半径误差检测单元和控制单元;球面LED光源的正面为照射面且相对样板设置,用于提供多种波长的均匀照明光,并以其中至少两种被选定的波长的照明光源分时逐次照射样板和待测件;干涉条纹采集单元用于采集和输出等厚干涉条纹图像;球面面形误差和曲率半径误差检测单元用于获得不同波长照明下等厚干涉条纹图像上同一点的强度变化,得到该点的绝对光程差,并以此类推确定待测件的被测面的上所有点的绝对光程差,进而得到待测件的被测面的面形误差和曲率半径误差。本发明能够实现客观、自动化、高精度、低成本的球面面形误差和曲率半径误差的检测。

Patent Agency Ranking