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公开(公告)号：CN119265509A
公开(公告)日：2025-01-07
申请号：CN202411245832.X
申请日：2024-09-06
Applicant: 北京理工大学
Abstract: 本发明公开的一种基于双脉冲源的溅射沉积光学薄膜方法及装置，属于光学制造中的光学薄膜制造技术领域。本发明针对不同基底和靶材，调节相应的沉积参数，实现多种光学薄膜的沉积制备；双脉冲源分为主源和辅源，主脉冲源产生的高能量荷能粒子轰击靶材表面，在靶材表面的几个原子层内发生级联碰撞，粒子与靶材发生能量交换，当靶材原子获得足够的能量克服自身的原子势垒后，离开靶材表面，沉积在基底表面形成薄膜，辅脉冲源产生的高能粒子轰击正在生长的薄膜表面，膜料分子与高能粒子发生能量和动量转移而获得较大动能，使得薄膜附着性增强，表面排布更加致密。本发明能够实现多中光学薄膜制备，同时还能提高光学薄膜的填充密度和使用性能。
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公开(公告)号：CN117564816A
公开(公告)日：2024-02-20
申请号：CN202311481826.X
申请日：2023-11-08
Applicant: 北京理工大学
Abstract: 本发明公开的一种力‑磁联合剪切流变抛光方法及装置，属于超精密加工技术领域。本发明的装置包括工作台支撑柱、抛光工作台、力‑磁联合剪切流变抛光工具、磁场调控装置、自适应工件夹具和力‑磁联合剪切流变抛光液循环系统。在力‑磁联合剪切流变抛光驱动装置的驱动下，力‑磁联合剪切流变抛光工具与工件表面形成相对运动产生剪切力，加工区域的力‑磁联合剪切流变抛光液在剪切力作用下产生剪切增稠效应，在加工区域间隙内形成类固态膜包裹在工件表面进行材料去除；磁敏感粒子在磁场调控装置作用下聚拢产生磁诱导增稠效应调节抛光液黏度，同时会在加工区域形成预定硬度的凸起剪切工件表面进行材料去除，实现工件表面力‑磁联合作用双重材料去除抛光作用。
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