晶圆级超声波芯片组件及其制造方法

    公开(公告)号:CN111403591B

    公开(公告)日:2023-04-07

    申请号:CN201811530871.9

    申请日:2018-12-14

    Abstract: 本发明公开了一种晶圆级超声波芯片组件及其制造方法,其中晶圆级超声波芯片组件包含晶圆基板、超声波元件、第一保护层、导电线路、第二保护层、传导材料、特用芯片、导电柱及焊接部。晶圆基板包含贯通晶圆基板的贯通槽。超声波元件曝露于贯通槽。导电线路位于第一保护层上,并连接超声波元件。第二保护层覆盖导电线路,第二保护层具有对应于超声波元件的开口。传导材料接触超声波元件。特用芯片连接晶圆基板,使贯通槽在特用芯片及超声波元件间形成空间。导电柱设置于贯穿特用芯片、晶圆基板及第一保护层的穿孔中,并分别连接导电线路及焊接部。

    复杂磁扰动场景MEMS电子罗盘的动态方位角解算方法

    公开(公告)号:CN111272158B

    公开(公告)日:2021-12-31

    申请号:CN201911310478.3

    申请日:2019-12-18

    Abstract: 本发明公开了复杂磁扰动场景MEMS电子罗盘的动态方位角解算方法,包括:获取多冗余传感器中加速度计、磁力计和陀螺仪的输出值;判断是否需要进行滤波;若需要进行滤波,构建扩展卡尔曼滤波器,输出加速度计、磁力计和陀螺仪的输出值的最优估值;若不需要进行滤波,直接输出多冗余传感器中加速度计、磁力计和陀螺仪的输出值;分别用倾角补偿算法、磁场比例角补偿算法和陀螺仪Z轴积分算法解算方位角;根据载体当前运动姿态进行数据融合,得到最优方位角。本发明提供的复杂磁扰动场景MEMS电子罗盘的动态方位角解算方法,使MEMS电子罗盘在磁扰动和动态条件下,自适应完成准确的方位角解算,提高定向精度;算法结构简单,收敛速度快。

    化合物半导体续流功率晶体管

    公开(公告)号:CN113270478A

    公开(公告)日:2021-08-17

    申请号:CN202110443694.6

    申请日:2021-04-23

    Abstract: 本申请公开了一种化合物半导体续流功率晶体管。包括:衬底、缓冲层、势垒层,缓冲层设置于衬底上,势垒层设置于缓冲层上,势垒层上设置有源极、漏极和栅极,栅极位于源极和漏极之间,势垒层中设有用于形成电子陷阱的陷阱区,陷阱区位于源极和漏极之间,栅极不接触陷阱区。通过在势垒层中设置陷阱区,当器件工作时,在栅极上施加的正负电压需要向陷阱区抽取或注入电子,以此实现器件平缓的导通和关断,降低了器件被感应电压击穿或烧毁的风险,提高了化合物半导体功率晶体管在系统中的可靠性。

    晶圆级超声波芯片组件及其制造方法

    公开(公告)号:CN111403591A

    公开(公告)日:2020-07-10

    申请号:CN201811530871.9

    申请日:2018-12-14

    Abstract: 本发明公开了一种晶圆级超声波芯片组件及其制造方法,其中晶圆级超声波芯片组件包含晶圆基板、超声波元件、第一保护层、导电线路、第二保护层、传导材料、特用芯片、导电柱及焊接部。晶圆基板包含贯通晶圆基板的贯通槽。超声波元件曝露于贯通槽。导电线路位于第一保护层上,并连接超声波元件。第二保护层覆盖导电线路,第二保护层具有对应于超声波元件的开口。传导材料接触超声波元件。特用芯片连接晶圆基板,使贯通槽在特用芯片及超声波元件间形成空间。导电柱设置于贯穿特用芯片、晶圆基板及第一保护层的穿孔中,并分别连接导电线路及焊接部。

    氮化铝膜参数提取方法
    27.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114964356A

    公开(公告)日:2022-08-30

    申请号:CN202210384332.9

    申请日:2022-04-13

    Abstract: 本发明提出一种氮化铝膜参数提取方法,涉及材料参数提取技术领域,能够精确提取氮化铝膜的材料系数。根据本发明实施例中的氮化铝膜参数提取方法,包括:基于待测氮化铝膜制作参数提取组件;测量参数提取组件的阻抗谱,并根据阻抗谱计算得到参数提取组件中待测氮化铝膜的介电常数;测量参数提取组件的属性参量,并根据属性参量计算得出待测氮化铝膜的压电系数与弹性系数;将待测氮化铝膜的介电常数、压电系数与弹性系数进行整合,得到待测氮化铝膜的材料参数。在本发明实施例中的方法中,由于对氮化铝膜各类材料系数进行分开提取,从而能够减少积累误差,提高提取精度。

    三维异质集成的柔性封装结构及制造方法

    公开(公告)号:CN112864100B

    公开(公告)日:2022-03-22

    申请号:CN202110045947.4

    申请日:2021-01-14

    Abstract: 本申请公开了一种三维异质集成的柔性封装结构及制造方法。柔性封装结构包括:第一柔性材料层上设置至少两个芯片,第一金属互联层设置在第一柔性材料层中并连接对应的芯片,第二柔性材料层设置在第一柔性材料层上并包裹芯片,导电柱设置在第二柔性材料层中并贯穿设置,导电柱连接对应的第一金属互联层,第三柔性材料层设置在第二柔性材料层上,第二金属互联层设置在第三柔性材料层中并连接对应的芯片或导电柱,第一金属互联层和第二金属互联层呈弯折状。通过设置导电柱与金属互联层,使得不同芯片可以在柔性材料中电连接,无需对芯片进行减薄,且将金属互联层设置为弯折状,在弯折拉伸的情况下不会出现断裂等失效问题。

    三维异质集成的柔性封装结构及制造方法

    公开(公告)号:CN112864100A

    公开(公告)日:2021-05-28

    申请号:CN202110045947.4

    申请日:2021-01-14

    Abstract: 本申请公开了一种三维异质集成的柔性封装结构及制造方法。柔性封装结构包括:第一柔性材料层上设置至少两个芯片,第一金属互联层设置在第一柔性材料层中并连接对应的芯片,第二柔性材料层设置在第一柔性材料层上并包裹芯片,导电柱设置在第二柔性材料层中并贯穿设置,导电柱连接对应的第一金属互联层,第三柔性材料层设置在第二柔性材料层上,第二金属互联层设置在第三柔性材料层中并连接对应的芯片或导电柱,第一金属互联层和第二金属互联层呈弯折状。通过设置导电柱与金属互联层,使得不同芯片可以在柔性材料中电连接,无需对芯片进行减薄,且将金属互联层设置为弯折状,在弯折拉伸的情况下不会出现断裂等失效问题。

    一种集成电路三维异质集成芯片及封装方法

    公开(公告)号:CN111564429A

    公开(公告)日:2020-08-21

    申请号:CN202010356668.5

    申请日:2020-04-29

    Abstract: 本发明公开了一种集成电路三维异质集成芯片及封装方法,其方法包括:通过临时键合工艺将不同的IC器件键合在第一辅助衬底圆片上,将IC器件和第一辅助衬底圆片通过键合层键合在第二辅助衬底圆片上;减薄第一辅助衬底圆片;利用晶圆级键合技术将第二辅助衬底圆片上的IC器件键合在最终衬底上,去除第二辅助衬底圆片;在IC器件和第一辅助衬底圆片之间填充有机物;重复上述操作以形成若干异质集成层,并在填充层上设置连接IC器件的布线孔,通过电线以实现若干异质集成层电学互联;将多余最终衬底除掉,划片并封装。本发明有效降低三维堆叠芯片的制作难度,集中更多的资源专注器件的性能提升,从而实现高可制造性、高性能、高稳定性的三维异质集成芯片。

Patent Agency Ranking