射频金属-氧化物-半导体场效应晶体管

    公开(公告)号:CN102169895A

    公开(公告)日:2011-08-31

    申请号:CN201010113496.5

    申请日:2010-02-25

    Abstract: 本发明提供了射频MOS管,以提高射频MOS管的工作速度及降低其射频MOS管栅极寄生电阻导致的噪声恶化以及可靠性;该射频MOS管包括:源极、漏极和栅极,衬底,所述栅极由子栅和连接子栅的侧栅构成,还包括连接源极及源端的源金属层、连接漏极及漏端的漏金属层和连接侧栅及栅输入端的侧栅金属层,其中源金属层覆盖并延伸出源极,其在有源区的投影与漏极和子栅无交叠;漏金属层覆盖并延伸出漏极,其在有源区的投影与源极和子栅无交叠;侧栅金属层覆盖并延伸出侧栅,其在有源区的投影与源极和漏极无交叠;以及源金属层、漏金属层及栅金属层中,由相同层金属形成的部分无交叉。

    原边控制恒流实现电路
    22.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102130601A

    公开(公告)日:2011-07-20

    申请号:CN201110079356.5

    申请日:2011-03-30

    CPC classification number: Y02B20/42

    Abstract: 本发明提供了一种适用于发光二极管(LED)驱动的原边控制恒流实现电路,以消除传统恒流实现电路中的光藕和分离运算放大器。对于工作于不连续模式的芯片来说,原边控制技术直接在变压器的辅助绕组采样输出电压,用电路采样输出端续流二极管放电的时间和芯片的工作周期,通过设定这两个时间的比值为常数以实现恒流。其中所述原边控制电路包括:电流基准产生模块,电流镜模块,采集输出二极管放电时间的模块,采集芯片工作周期的模块和比较器模块。电流基准产生模块产生电流基准,电流镜模块镜像不同的电流对两个电容充电,这两个电容分别采集续流二级管放电时间和工作周期,当两个电容的电压相等的时候打开功率开关管以实现恒流。

    用于LED照明模组的电源装置

    公开(公告)号:CN101861000A

    公开(公告)日:2010-10-13

    申请号:CN201010186712.9

    申请日:2010-05-27

    CPC classification number: Y02B20/46 Y02B70/126

    Abstract: 本发明提供了用于LED照明模组的电源装置,以此装置同时驱动多个较小功率的LED照明模组,通过配置前级功率因数校正模块的驱动能力和LED照明模组的数量,即可实现不同功率等级的照明需求,该电源装置包括:多个LED照明模组接口,用于接入LED照明模组;功率因素校正模块,用于校正接入的多个LED照明模组的功率,其输出的功率等级能够调整。

    高阶补偿带隙基准电压源
    26.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101833352A

    公开(公告)日:2010-09-15

    申请号:CN201010159179.7

    申请日:2010-04-27

    Abstract: 本发明公开了高阶补偿带隙基准电压源,包括用于输出基准电压的输出支路,其特征在于,还包括用于充当电阻作用的接地电阻结构和高阶补偿电路,所述高阶补偿电路和输出支路并联,且均连接至接地电阻结构的电流输入端,接地电阻结构的电流输出端接地,以及所述高阶补偿电路用于在温度升高导致输出支路中电流减小时向接地电阻的电流输入端输入电流,这种结构无需依赖精确的工艺,适用很多种工艺,应用范围广泛,此外不会大幅度增加电路面积,另外本发明提供的高阶补偿带隙基准电压源的温度系数远远优于现有高阶补偿带隙基准电压源的温度系数。

    线性电压调节器
    27.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101819448A

    公开(公告)日:2010-09-01

    申请号:CN201010138159.1

    申请日:2010-04-02

    Abstract: 本发明公开了线性电压调节器,以提高其稳定性,尤其是在轻载情况下稳定性,该调节器包括:相互连接的运算放大器及反馈网络,其特征在于,还包括电压调整结构,连接至所述运算放大器及反馈网络,流经电压调整结构的电流部分流经反馈网络,所述电压调整结构用于根据流经反馈网络的电流大小来调整流经自身电流的大小,调整方向为反向调整。

    一种基于低压模拟前端的级联式电池管理装置及控制方法

    公开(公告)号:CN113131538A

    公开(公告)日:2021-07-16

    申请号:CN201911388709.2

    申请日:2019-12-30

    Abstract: 本发明专利申请提供了一种基于低压模拟前端的级联式采样电路及控制方法,其核心主要包括:多个基于多路选择采样及均衡的低压(小于40V)模拟前端(AFE),一个带多个IO输出的MCU以及多个电压转换电路。多个AFE通过级联的方式连接,上一级的AFE多路选择AD输出级联到下一级的最高节电池采样输入,如此循环形成一个连接高压电池组的AFE级联组。MCU采用一定的软件算法,分别控制各个AFE的AD采样通道和均衡通道。通过本专利的控制算法,保证了各电池电压采样频率的一致性与电池均衡的高效性。由于采用低压AFE,有效降低了系统成本。本方案可以根据电池节数灵活选择AFE数量,有很强的通用性和实用性。

    一种可手动操作的CDM静电放电检测结构与测试方法

    公开(公告)号:CN110441571A

    公开(公告)日:2019-11-12

    申请号:CN201910519268.9

    申请日:2019-06-17

    Abstract: 本发明根据ESD静电防护中的CDM模式电流测试检验要求,提出了一种可用于手动操作的检测结构及测试方法,以便准确完成对基于CDM模式的ESD电流波形抓取,为CDM模式ESD静电防护能力测试提供数据支持。该系统结构包括:用于支持的测试机台,机台底座上承载测试器件DUT(Device Under Test),机台支架,用于固定系统的检测模块。检测模块包括pogo(弹簧单高跷)探针、测试板等结构。测试机台使用铝合金材质制成,具有紧固旋钮手动调节升降的功能,同时带有固定装置,可以固定设备的测试板,测试板为双层FR-4板。Pogo探针为射频专用探针,可以满足18GHz及以下条件下的信号测试。同轴电缆特性阻抗为50Ω.所使用的校准模块(即校准电容)为FR-4材料,静电容值为4pF。

    一种具有大功率高压器件模块结构

    公开(公告)号:CN109980006A

    公开(公告)日:2019-07-05

    申请号:CN201711452893.3

    申请日:2017-12-28

    Abstract: 本发明公开了一种具有双面界面掺杂浓度线性增加结构SOI高压器件。该结构在SOI器件介质层上下界面分别注入高浓度N+和高浓度P+,从源端到漏端,N+和P+浓度线性连续增大。器件外加高压时,纵向电场所形成的反型电荷将被未耗尽n+区内高浓度的电离施主束缚在介质层上界面,同时在下界面积累感应电子。引入的界面电荷对介质层电场(E,)产生附加增强场(△E,),使介质层承受更高耐压,同时对顶层硅电场(ES)产生附加削弱场(△艮),避免在硅层提前击穿,从而有效提高器件的击穿电N(BV)。详细研究DCI SOI工作机理及相关结构参数对击穿电压的影响,在5μm介质层、1μm顶层硅上仿真获得825V高耐压,较常规结构提高284.4%,其中,附加场△E,和AEs分别达到725.5V/tm和34V/um。

Patent Agency Ranking