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公开(公告)号：CN107365959A
公开(公告)日：2017-11-21
申请号：CN201710445413.4
申请日：2017-06-14
Applicant: 中国地质大学(北京)
CPC classification number: C23C14/0635 , C23C14/0057 , C23C14/35 , C23C14/5806
Abstract: 本发明公开了一种在硬质合金上原位生长石墨烯传感器基质的方法。所述方法采用中频磁控溅射技术在硬质合金表面磁控溅射沉积非晶SiC薄膜，利用真空退火在硬质合金表面原位生长空间钻探所需的石墨烯传感器基质。所述方法能够在硬质合金表面原位生长空间钻探所需的石墨烯传感器基质，克服了传统传感器灵敏度低、寿命短，易衰减等缺陷，为空间钻探用石墨烯复合传感器提供了新的合成方法，为金属催化SiC合成石墨烯研究和应用提供了新的思路。
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公开(公告)号：CN107340307A
公开(公告)日：2017-11-10
申请号：CN201710487136.3
申请日：2017-06-23
Applicant: 中国地质大学(北京)
CPC classification number: G01N23/22 , C23C14/0611 , C23C14/54 , G01N3/08 , G01N21/65 , G01N23/2076 , G01N2203/0019 , G01N2203/0078 , G01N2203/0282 , G01N2203/0641
Abstract: 本发明公开了一种分析β-SiC过渡层对金刚石膜形核生长影响的方法。所述方法采用中频磁控溅射技术在硬质合金基体上沉积SiC过渡层，通过对沉积温度的调控，获得不同表面形貌和组织特性的β-SiC过渡层；利用热丝化学气相沉积在SiC过渡层表面沉积金刚石薄膜；利用扫描电镜观察样品的表面形貌，利用X射线衍射检测过渡层的组成、晶粒取向及结构变化，利用拉曼光谱表征金刚石薄膜的纯度和内应力的变化，利用微米压痕测试金刚石薄膜的机械性能。所述方法通过研究沉积温度对磁控溅射β-SiC过渡层表面形貌和组织特性的影响，低温沉积β-SiC过渡层表面形貌和组织特性对金刚石薄膜形核及生长的影响，揭示了β-SiC过渡层影响金刚石形核及生长的作用机理。
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公开(公告)号：CN106706038A
公开(公告)日：2017-05-24
申请号：CN201710019641.5
申请日：2017-01-11
Applicant: 中国地质大学(北京)
IPC: G01D21/02
CPC classification number: G01D21/02
Abstract: 本发明公开了一种分析工艺参数对薄膜结构和性能影响机理的方法。所述方法采用中频磁控溅射技术在硅片和石英片上沉积了靶电流和气体流量不同的DLC和Ti‑DLC层，采用X射线衍射仪分析薄膜的成分；用分光光度计测量样品的透射率及吸收率；用拉曼光谱分析仪表征非晶碳层的价键结构；用三维白光表面轮廓仪检测膜层的表面粗糙度和厚度，考察靶电流和气体流量对薄膜结构及光学性能的影响，澄清工艺参数对薄膜结构和性能影响的机理。通过所述方法，可以清晰地考察靶电流和气体流量如何影响sp2‑C和sp3‑C结构变化、结构变化与涂层性能间的内在关系、金属掺杂对于薄膜结构和光学性能的作用机理，填补了理论和实践空白。
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公开(公告)号：CN105044137B
公开(公告)日：2017-05-24
申请号：CN201510525878.1
申请日：2015-08-25
Applicant: 中国地质大学(北京)
IPC: G01N23/20
Abstract: 公开了一种X射线衍射测试金刚石薄膜的方法，该方法以X射线单次测量实现对称性纳米样品三维成像，并且适用于测量由具有对称外形的纳米晶体构成的薄膜。在该方法中，利用含有NH4F和EDTA的氢氟酸溶液腐蚀样品架毛坯表面，同时利用有效的粘结剂将单晶样品架与金属片进行复合，获得X射线衍射样品架，可大幅降低X射线衍射测试中的基底背景干扰，另外高效粘合剂的使用能够有效地改善样品架韧性，克服容易脆裂的缺点，显著延长其使用寿命。
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公开(公告)号：CN106501479A
公开(公告)日：2017-03-15
申请号：CN201610910974.2
申请日：2016-10-19
Applicant: 中国地质大学(北京)
Abstract: 本发明公开了一种分析界面碳化对Cr/DLC多层膜影响的方法。所述方法采用中频磁控溅射技术制备若干种调制周期不同、层数不同、总体厚度相同的Cr/DLC多层膜，采用扫描电子显微镜、俄歇电子能谱、X射线衍射仪、拉曼光谱仪、三维白光干涉表面轮廓仪、划痕仪、纳米压痕仪、显微硬度计，分析各种Cr/DLC多层膜样品的微观结构及力学性能变化，探究多层膜层间界面碳化对Cr/DLC多层膜结构和力学性能的影响机理。通过所述方法，可以清晰地考察界面处Cr的碳化对Cr/DLC多层膜碳价键微结构和内应力的影响，系统阐述碳价键及相组成以及内应力的变化对薄膜力学性能的影响，填补了理论和实践空白。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102965618A
公开(公告)日：2013-03-13
申请号：CN201210519829.3
申请日：2012-12-07
Applicant: 中国地质大学(北京)
Abstract: 本发明公开了一种金属掺杂无氢类金刚石薄膜的制备方法。特点为利用离子束辅助沉积技术在工件表面制备金属掺杂类金刚石薄膜，采用金属靶与石墨靶进行双靶溅射。其具体步骤包括：将工件表面离子清洗和活化，沉积制备金属掺杂类金刚石薄膜。本发明所制备的金属掺杂类金刚石薄膜具有较高的薄膜硬度、膜基结合力、弹性模量、抗磨性能和热稳定性等性能。工艺可操作性强，重复性好，可适用于硅和各类金属工件的表面处理。
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公开(公告)号：CN102703858A
公开(公告)日：2012-10-03
申请号：CN201210193088.4
申请日：2012-06-13
Applicant: 中国地质大学(北京)
Abstract: 本发明公开了一种含金属类金刚石薄膜制备方法，所述方法为采用多离子束辅助沉积系统（IBAD）、通过调节溅射靶材的溅射气体压力、脉冲基体负偏压和靶电流，采用在基体中加入非碳化物形成元素，制备类金刚石薄膜，所得到的类金刚石薄膜在保持高硬度的同时改善了薄膜的结合力，提高了薄膜的韧性。本发明是在金属基体上沉积一种含非碳化物形成元素(如：Ag)的类金刚石薄膜，用以克服中频磁控溅射镀膜方法带来的载能粒子能量及流量不能精确控制的缺点，并使该薄膜具有高硬度、低摩擦系数、良好膜基结合力等优点，并能保持一定韧性，有效减少薄膜在工作过程中产生裂纹，起皱和分层的现象。
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公开(公告)号：CN101823875B
公开(公告)日：2012-07-25
申请号：CN201010150432.2
申请日：2010-04-20
Applicant: 中国地质大学(北京)
IPC: H01C7/112 , C04B35/453 , C04B35/622
Abstract: 本发明涉及一种适用于高压涌流下工作电器使用的氧化锌压敏电阻材料及其制备方法，属于电子陶瓷制备及应用技术领域。所述材料的组分及含量包括ZnO 70～98mol％、Pr6O110.1～20mol％、氧化钴(Co3O4或CoO)0.01～25mol％、Cr2O3 0.01～25mol％、ZrO2 0.01～30mol％、TiO2 0～5mol％。所述材料制备方法依次包括“混料、高能球磨、烘干、研磨过筛、模压成型、烧结和被银”工艺步骤。用上述材料和制备方法所制得的氧化锌压敏电阻片，其电位梯度E(电流密度为1mA/cm2时对应的电位梯度值)为500～2500V/mm，非线性系数α[根据公式α＝1/log(E10mA/E1mA)计算]为10～50，漏电流IL(75％E所对应的电流密度值)为5～50μA/cm2，综合性能优良。特别适用于高压避雷器等高压涌流下工作的电器使用。本发明也可用于家用电器等领域。
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公开(公告)号：CN101818332B
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：CN201010130135.1
申请日：2010-03-23
Applicant: 中国地质大学(北京)
Abstract: 本发明涉及一种工具涂层材料及制备方法，属于材料制备及应用技术领域。所述材料为具有超硬自润滑特性的金刚石/类金刚石复合多层涂层材料。所述方法其特征在于，首先利用酸、碱混合液分别对基体进行预处理，然后采用热丝化学气相沉积在基体上合成超高硬度、晶形良好的金刚石作为复合涂层的主体，再利用磁过滤真空阴极电弧在金刚石主体上沉积高硬度的类金刚石薄膜作为自润滑表层。为了提高金刚石薄膜和基体、类金刚石薄膜和金刚石薄膜之间的结合力，各层之间分别镀制了一层过渡层。所述方法具有工艺简单、合成条件精确可控、成膜质量高、产品收率高、成本低廉等优点，所获得的金刚石/类金刚石复合多层材料具有超高硬度、极低摩擦因数和极低磨损率，表现出优异的自润滑抗摩擦磨损性能，对工具或模具在苛刻服役条件下的应用具有重要意义。
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公开(公告)号：CN101839707A
公开(公告)日：2010-09-22
申请号：CN201010166498.0
申请日：2010-05-10
Applicant: 中国地质大学(北京)
IPC: G01B21/08
Abstract: 本发明提出一种测量固体薄膜厚度的新方法，属于分析仪器及其材料性能测试技术领域。所述方法采用纳米压痕仪，通过改进纳米压痕卸载曲线的分析方法从而测量薄膜的厚度。所述方法对所有薄膜厚度的测试均基于纳米压痕技术，通过分析卸载曲线的一个代表残余应力项的拟合参数和最大载荷的比值的极值确定出膜厚。所述方法可以在不露出基体表面的情况下进行，不需要对已有的设备进行改装，只需改变分析方法，适用范围广泛，任何膜厚小于纳米压痕仪最大压痕深度的薄膜材料都可以使用。
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