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公开(公告)号：CN101320677A
公开(公告)日：2008-12-10
申请号：CN200810128050.2
申请日：2004-08-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明涉及减压处理室内的部件清洁方法和基板处理装置。为了使附着在减压处理室内的部件上的微颗粒飞散，清洁部件，采用将电压加在部件上，利用麦克斯韦应力使微颗粒飞散的方法；使微颗粒带电，利用库仑力飞散的方法，将气体导入减压处理室中，使气体冲击波到达附着有微颗粒的部件，使微颗粒飞散的方法；使部件温度上升，利用热应力和热泳动力，使微颗粒飞散的方法；或将机械振动给与部件，使微颗粒飞散的方法。另外，使飞散的微颗粒在较高压的气氛下被气体流夹带除去。
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公开(公告)号：CN100437901C
公开(公告)日：2008-11-26
申请号：CN200610151453.X
申请日：2004-10-08
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/205 , H01L21/3065 , H01L23/31 , H01L21/67 , C23C16/44 , C23C14/22 , C23F4/00 , H01J37/32 , H05H1/46
Abstract: 本发明提供一种防止微粒附着装置，为了防止在基板处理工序的装置内的微粒附着在基板上，在利用离子发生装置使微粒带电的同时，利用直流电源将与带电微粒同极性的直流电压施加在基板上。而且，在将气体导入基板处理工序的真空处理室的上下电极之间，将高频电压施加在上下电极上生成等离子体时，以多阶段顺序施加高频电压。即，在最初步骤中，将能够等离子体点火的最小限度的高频电压施加在上下电极上，生成最小限度等离子体，然后，分阶段地增加所施加电压，生成规定的等离子体。
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公开(公告)号：CN119585854A
公开(公告)日：2025-03-07
申请号：CN202380054506.8
申请日：2023-07-20
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/3065 , H01L21/31
Abstract: 本发明提供评价装置、评价方法和计算机程序。评价装置包括：获取关于组装在基片处理装置的部件的表面温度分布的数据的获取部；和基于获取到的关于所述部件的表面温度分布的数据，评价所述部件的组装精度的评价部。
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公开(公告)号：CN1606145B
公开(公告)日：2012-04-25
申请号：CN200410080756.8
申请日：2004-10-08
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01L21/67069 , H01J2237/0048 , H01L21/67028
Abstract: 本发明提供一种防止微粒附着装置，为了防止在基板处理工序的装置内的微粒附着在基板上，在利用离子发生装置使微粒带电的同时，利用直流电源将与带电微粒同极性的直流电压施加在基板上。而且，在将气体导入基板处理工序的真空处理室的上下电极之间，将高频电压施加在上下电极上生成等离子体时，以多阶段顺序施加高频电压。即，在最初步骤中，将能够等离子体点火的最小限度的高频电压施加在上下电极上，生成最小限度等离子体，然后，分阶段地增加所施加电压，生成规定的等离子体。
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公开(公告)号：CN102192870A
公开(公告)日：2011-09-21
申请号：CN201110050811.9
申请日：2011-03-02
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 长池宏史
IPC: G01N15/10
CPC classification number: G01N21/00
Abstract: 本发明提供一种能够准确地测量因特定的原因产生的微粒的数量的微粒数测量方法。通过玻璃窗(24)向主排气管(16)内照射激光(25)，利用光检测器(21)接收从与该激光(25)交叉的微粒(P1、P2)产生的散射光(L1、L2)，根据所接收的该散射光来测量微粒数时，将不移动的微粒(P2)视为附着于玻璃窗(24)的污垢，从在主排气管(16)内测量得到的微粒数中排除不移动的微粒(P2)的数量。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100494471C
公开(公告)日：2009-06-03
申请号：CN200510117628.0
申请日：2005-11-07
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: C23C16/4404
Abstract: 本发明提供能够确实地抑制水分的附着和脱离的陶瓷喷镀部件的制造方法、用于执行该方法的程序、存储介质、以及陶瓷喷镀部件。将具有基质材料(210)和由喷镀形成在基质材料(210)表面的喷镀膜(220)的陶瓷喷镀部件(200)，在含有丙酮、乙醇、以及异丙醇中的至少1种的有机溶剂中浸渍规定时间，去除吸附在喷镀膜(220)上的有机物，并在压力为202.65kPa以上、相对湿度为90%以上的环境下，通过在温度为100～300℃左右的炉中加热1～24小时，对喷镀膜(220)的外表面进行水合处理。
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公开(公告)号：CN1921068A
公开(公告)日：2007-02-28
申请号：CN200610151453.X
申请日：2004-10-08
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/205 , H01L21/3065 , H01L23/31 , H01L21/67 , C23C16/44 , C23C14/22 , C23F4/00 , H01J37/32 , H05H1/46
Abstract: 本发明提供一种防止微粒附着装置，为了防止在基板处理工序的装置内的微粒附着在基板上，在利用离子发生装置使微粒带电的同时，利用直流电源将与带电微粒同极性的直流电压施加在基板上。而且，在将气体导入基板处理工序的真空处理室的上下电极之间，将高频电压施加在上下电极上生成等离子体时，以多阶段顺序施加高频电压。即，在最初步骤中，将能够等离子体点火的最小限度的高频电压施加在上下电极上，生成最小限度等离子体，然后，分阶段地增加所施加电压，生成规定的等离子体。
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公开(公告)号：CN1790616A
公开(公告)日：2006-06-21
申请号：CN200510118834.3
申请日：2005-10-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/67 , H01L21/20 , H01L21/3065 , H01L21/31 , H01L21/311 , H01L21/3205 , H01L21/3213 , G05B19/04 , C23C14/22 , C23C16/44 , C23F4/00 , H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种存储有进行基板处理装置的运行方法的程序用的计算机可读取的存储介质。运行方法包括下述工序：在所述真空处理单元的真空准备室和所述输送单元之间进行所述被处理基板的交换时，在打开所述闸阀之前，向所述真空准备室内导入惰性气体；在所述真空准备室的内部压力变成与大气压相同时，停止导入所述惰性气体，开始所述真空准备室的腐蚀性气体的排气，然后，通过使所述真空准备室与大气连通来向大气开放；在所述向大气开放工序后打开所述闸阀。
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公开(公告)号：CN1772946A
公开(公告)日：2006-05-17
申请号：CN200510117628.0
申请日：2005-11-07
Applicant: 东京毅力科创株式会社 , 东华隆株式会社
CPC classification number: C23C16/4404
Abstract: 本发明提供能够确实地抑制水分的附着和脱离的陶瓷喷镀部件的制造方法、用于执行该方法的程序、存储介质以及陶瓷喷镀部件。将具有基质材料(210)和由喷镀形成在基质材料(210)表面的喷镀膜(220)的陶瓷喷镀部件(200)，在含有丙酮、乙醇、以及异丙醇中的至少1种的有机溶剂中浸渍规定时间，去除吸附在喷镀膜(220)上的有机物，并在压力为202.65kPa以上、相对湿度为90％以上的环境下，通过在温度为100～300℃左右的炉中加热1～24小时，对喷镀膜(220)的外表面进行水合处理。
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公开(公告)号：CN1591777A
公开(公告)日：2005-03-09
申请号：CN200410057032.1
申请日：2004-08-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00
CPC classification number: H01L21/67028 , B08B3/12 , H01J37/32862 , H01L21/6831
Abstract: 为了使附着在减压处理室内的部件上的微颗粒飞散，清洁部件，采用将电压加在部件上，利用麦克斯韦应力使微颗粒飞散的方法；使微颗粒带电，利用库仑力飞散的方法，将气体导入减压处理室中，使气体冲击波到达附着有微颗粒的部件，使微颗粒飞散的方法；使部件温度上升，利用热应力和热泳动力，使微颗粒飞散的方法；或将机械振动给与部件，使微颗粒飞散的方法。另外，使飞散的微颗粒在较高压的气氛下被气体流夹带除去。
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