公开(公告)号：CN111732898B

公开(公告)日：2021-12-07

申请号：CN202010211330.0

申请日：2020-03-24

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 李知虎 ,  朴泰远 ,  金元中 ,  李义郎

IPC: C09G1/02 ,  H01L21/321

Abstract: 本发明涉及用于图案化钨晶片的化学机械抛光浆料组成物和使用其抛光图案化钨晶片的方法。化学机械抛光浆料组成物包含：选自由极性溶剂和非极性溶剂组成的群组的至少一种；磨料；选自由式1表示的化合物和由式2表示的化合物组成的群组的至少一种；以及氢氧化四丁铵。

公开(公告)号：CN108164711B

公开(公告)日：2021-02-09

申请号：CN201710636140.1

申请日：2017-07-28

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 沈秀姸 ,  裵鎭希 ,  郭泽秀 ,  金龙国 ,  金眞敎 ,  卢健培 ,  尹熙灿 ,  李知虎 ,  黄丙奎

IPC: C08G77/62 ,  C09D183/16 ,  H01L21/02

Abstract: 本发明涉及一种用于形成硅氧层的组成物、一种制造硅氧层的方法及一种电子装置，所述用于形成硅氧层的组成物包含含硅聚合物和溶剂，其中含硅聚合物的重量平均分子量在2,000到100,000范围内，并且由方程式1计算的含硅聚合物的分支比(a)在0.25到0.50范围内。η＝k×Ma[方程式1]在方程式1中，η是含硅聚合物的固有粘度，M是含硅聚合物的绝对分子量，a是分支比，以及k是固有常数。因此，使用用于形成硅氧层的组成物制造的硅氧层具有密集型结构，并且因此减少损耗和层应力以及改良抗蚀刻性和平面化特征。

公开(公告)号：CN111212881A

公开(公告)日：2020-05-29

申请号：CN201880066432.9

申请日：2018-02-13

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 卢健培 ,  郭泽秀 ,  张俊英 ,  具仑永 ,  金龙国 ,  金真教 ,  裵镇希 ,  司空峻 ,  徐珍雨 ,  沈秀妍 ,  尹熙灿 ,  李知虎 ,  韩权愚 ,  黄丙奎

IPC: C09D183/16 ,  H01L21/02 ,  H01L21/306

Abstract: 提供了一种用于形成二氧化硅膜的组合物，该组合物含有含硅聚合物和溶剂，其中由用于形成二氧化硅膜的组合物形成的二氧化硅膜满足关系式1。关系式1的定义如说明书中的描述。

公开(公告)号：CN106558483A

公开(公告)日：2017-04-05

申请号：CN201610329591.6

申请日：2016-05-18

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 李知虎 ,  卢健培 ,  尹熙灿 ,  裵镇希 ,  任浣熙

IPC: H01L21/283 ,  H01L21/31 ,  H01L23/28 ,  H01L29/51

Abstract: 本发明提供一种制造二氧化硅层的方法、二氧化硅层以及电子装置。制造二氧化硅层的方法包含将包含碳化合物的预润湿液体物质涂布于衬底上、将用于形成二氧化硅层的组合物涂布于涂布有预润湿液体物质的衬底上以及使涂布有用于形成二氧化硅层的组合物的衬底固化。根据本发明的方法，可以使得用于形成二氧化硅层的组合物充分润湿衬底，并且可以有效涂布少量组合物，形成均匀的二氧化硅层。