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公开(公告)号:CN1767008A
公开(公告)日:2006-05-03
申请号:CN200510092408.7
申请日:2005-08-18
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 本发明提供一种具有叠层软磁衬层(SUL)的垂直磁记录介质,更具体地,提供一种包括形成在衬底上的垂直磁记录层和叠层SUL的记录介质。该SUL包括插入在叠层结构之间的反铁磁层,该叠层结构包括磁层、非磁性层和磁层。所述层均具有20nm或更小的厚度,且该反铁磁层下面的所述层比该反铁磁层上面的所述层薄。形成在该反铁磁层上面和下面的该叠层结构具有通过交换偏置设置在彼此相反的径向方向上的单向磁各向异性。结果,介质磁畴噪声可减小。
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公开(公告)号:CN1472729A
公开(公告)日:2004-02-04
申请号:CN03147267.2
申请日:2003-07-11
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G11B5/66
CPC classification number: G11B5/667 , G11B5/7325
Abstract: 一种垂直磁记录介质,其中,将垂直磁记录层设置在基质上,而将软磁层设置在基质和垂直磁记录层之间。在垂直磁记录介质中,将软磁定向层设置在软磁层和基质之间,以在磁性上对软磁层定向。因此,虽然软磁层很薄,它仍具有稳定的磁特性,并产生较小的噪音。
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公开(公告)号:CN1332443A
公开(公告)日:2002-01-23
申请号:CN01117433.1
申请日:2001-04-28
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G11B5/127
CPC classification number: G11B5/313 , G11B5/1871 , G11B5/23 , G11B5/3116 , G11B5/3166
Abstract: 一种包括用于产生以使记录媒体磁化而具有预定图形的漏磁通的上磁极和下磁极的磁头,其中上磁极具有相对于记录媒体的侧面的中心部分厚于该侧面的边缘的结构。在这种磁头中,上磁极具有中心部分凸得比其边缘高的形状。因,即使减小上磁极宽度也能够使磁场分布的形状保持矩形,这就能够增大记录媒体中的磁道密度。
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公开(公告)号:CN116412914A
公开(公告)日:2023-07-11
申请号:CN202211036960.4
申请日:2022-08-26
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 一种红外传感器,包括:第一磁阻单元;第二磁阻单元;以及光吸收层,吸收光并发射热,其中,第一磁阻单元包括彼此电连接的第一磁阻元件和第二磁阻元件,第二磁阻单元包括彼此电连接的第三磁阻元件和第四磁阻元件,第一磁阻元件和第三磁阻元件各自具有磁化方向的反平行状态,第二磁阻元件和第四磁阻元件各自具有磁化方向的平行状态,并且第一磁阻元件通过第二磁阻元件电连接到第三磁阻元件。
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公开(公告)号:CN109117704A
公开(公告)日:2019-01-01
申请号:CN201810610580.4
申请日:2018-06-13
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: G06K9/001 , G06F3/0414 , G06F3/0416 , G06F3/044 , G06K9/00013 , G06K9/0002 , G06K9/0004 , G06K9/0008
Abstract: 提供了一种压力识别装置。压力识别装置包括:指纹传感器,包括用户能够触摸的触摸表面,指纹传感器被配置为感测向所述触摸表面输入的所述用户的指纹;以及处理器,被配置为根据指纹传感器感测到的指纹信息来确定施加到触摸表面的压力的强度。
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公开(公告)号:CN108073892A
公开(公告)日:2018-05-25
申请号:CN201711111063.4
申请日:2017-11-10
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: G06K9/00053 , G06F3/044 , G06K9/0002 , H05K9/002
Abstract: 提出了一种指纹传感器及其制造方法。所述指纹传感器包括:有源区域,包括驱动电极和与所述驱动电极相交的感测电极;示踪区域,分别连接至所述驱动电极和所述感测电极;以及屏蔽层,分别设置在所述示踪区域上。
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公开(公告)号:CN101144977B
公开(公告)日:2013-07-03
申请号:CN200710096093.2
申请日:2007-04-13
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: B29C59/022 , B29C33/424 , B29C33/56 , B29C35/0888 , B29C2035/0827 , B29C2059/023 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002
Abstract: 提供了一种纳米压印模子及其制造方法,其能够用于将纳米级结构复制到聚合物薄膜。所述纳米压印模子包括:基板,由能够穿过紫外线的材料制成;形成在所述基板上的含有凸凹图案的图案部分,该图案部分由紫外线固化聚合物制成;在所述图案部分的表面上的硬化层,所述硬化层由具有比所述图案部分更高的硬度的材料形成;以及形成在所述硬化层的表面上的分离层,该分离层有助于将聚合物薄膜与其分离。在本发明的纳米压印模子中,甚至可以将原始图案均匀复制在具有不规则表面的基板上。此外,能够防止图案被压力所损坏以及被合成树脂所污染,导致了更高的精度和图案的耐久性。
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公开(公告)号:CN101009104A
公开(公告)日:2007-08-01
申请号:CN200610142804.0
申请日:2006-10-26
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: G11B5/855 , Y10T428/24942
Abstract: 本发明提供了一种构图的介质及其制备方法,该构图的介质包括:数据区域,具有沿着多条轨道排列的多个记录点,其中,每个记录点具有小于2∶1的长宽比;以及非数据区域,该非数据区域是除数据区域之外的构图的介质的部分,具有多个图案标记,其中,每个图案标记具有大于2∶1的长宽比,该长宽比是纵向长度和横向长度的比。
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