半导体装置
    21.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1435886A

    公开(公告)日:2003-08-13

    申请号:CN02143169.8

    申请日:2002-09-16

    CPC classification number: H01L21/761 H01L27/0623

    Abstract: 本发明的课题是抑制因具有电感L的分量的负载的反电动势而引起的器件的误工作。半导体装置包括:在P型硅衬底上形成的外延层;将外延层分为元件形成区的N-外延层4和无效区的N-外延层2的P+扩散层3;以及将无效区的N-外延层2与P+扩散层3进行电连接的铝布线6。由于可将无效区的N-外延层2与P+扩散层3形成为相同的电位,故即使在电感L的负载的反电动势的作用下将电子注入到元件形成区时,也可抑制从P+扩散层3向无效区供给电子。

    干燥装置以及干燥方法
    22.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1195763A

    公开(公告)日:1998-10-14

    申请号:CN97123190.7

    申请日:1997-11-24

    CPC classification number: H01L21/67034

    Abstract: 本发明的目的是使IPA蒸汽的状态稳定,缓解甚至消除干燥不良现象。在设于处理槽(11)上方的开口部(22)两侧相对设置喷嘴(13)以及排气件(14)。处理槽(11)的侧壁随着从下方附近接近开口部(22)而向内侧圆滑弯曲。喷嘴(13)将氮气供给装置提供的氮气喷向排气件(14)的排气口,并形成覆盖开口部(22)的喷流(21)。由于处理槽(11)的侧壁弯曲,喷流(21)可有效发挥屏障的功能。所以,不再需要传统装置上必需的冷却蛇形管。因此,消除了因冷却蛇形管而引起的IPA蒸汽(5)状态的不稳定性。

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